Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Реакции маскирования

    Разница в константах обмена отдельных галогенид-ионов, как отмечалось в гл. 3, значительно больше, чем, например, для ионов отдельных щелочных металлов. Иодид-ион сорбируется так сильно, что его трудно десорбировать. Для вымывания этого иона из колонки используют иногда мягкое окисление до свободного иода. С другой стороны, фторид-ион сорбируется очень слабо, слабее других анионов фторид-ион вымывается из колонки соляной кислотой или гидроокисью натрия. Это свойство фторид-иона является большим преимуществом, так как дает возможность определять фтор фотометрическим методом по реакции маскирования комплекса циркония с ализарином или ализарин-комплексоном, которому мешают многие ионы (см. гл. 5). Методом анионного обмена при промывании колонки концентрированным раствором соляной кислоты [671 или буферным раствором аммиака с хлоридом аммония [68] фтор может быть отделен от железа, алюминия и фосфора. При промывании колонки гидроокисью натрия фтор отделяется от силиката, алюмината [69] и фосфата (при этом фтор вымывается первым). [c.216]


    В реакциях маскирования большое значение имеют относительная концентрация и комплексообразующие свойства как самого маскируемого иона, так и маскирующего реагента. А устойчивость комплекса, содержащего замаскированный ион, определяется отношением величины его константы нестойкости к произведению растворимости соединений, которые могут образоваться при взаимодействии комплекса с используемыми реагентами. Чем меньше растворим осадок, чем меньше величина его произведения растворимости, тем труднее найти маскирующий реагент, способный предотвратить образование осадка. [c.215]

    В случае реакций комплексообразования степень маскирования можно характеризовать снижением условной константы равновесия. Так, предложено считать, что мешающий компонент полностью замаскирован, если 1д/С 2. С другой стороны, количественное протекание реакции можно ожидать, если g/ 7. В случае конкурирующих реакций комплексообразования степень протекания реакций маскирования можно оценить коэффициентами избирательности (КИ) и маскирования (КМ)  [c.121]

    Как видно из табл. 7, алюминон способен давать окрашенные соединения с большим количеством ионов, но регулируя pH среды, можно определять одни ионы в присутствии других. Так, например, молибден и хром могут быть определены в кислой среде в присутствии кобальта, цинка, никеля и некоторых других ионов. Помимо регулирования pH для колориметрического определения одного иона в присутствии других широко применяют реакции маскирования. [c.57]

    Сложность систем приводит к тому, что расчеты, как правило, неосуществимы прежде всего потому, что неизвестны все необходимые константы. Тем не менее при правильном экспериментальном исследовании можно установить оптимальные условия применения определенной реакции маскирования. [c.148]

    Иногда определение некоторых комплексонатов является затруднительным. В этих случаях используются главным образом, реакции маскирования катионов. Содержание комплексона в комплексонате цинка можно определить в растворе цианида калия обратным титрованием солью магния. Комплексонат кальция или магния определяют следующим образом к кислому раствору комплексоната (pH 1—2) прибавляют отмеренное количество соли висмута, избыток которой затем оттитровывают комплексоном по пирокатехиновому фиолетовому. Содержание комплексоната свинца в его растворе определяют после осаждения свинца купралем или 2,3-димеркаптопропанолом [4]. [c.274]


    СКОРО превращения, но не характерны для одного какого-либо компонента и не сопровождаются такими изменениями, которые могут быть количественно зафиксированы, например, по интенсивности окраски или с помощью индикатора. Реакции же идентификации (обнаружения) часто не являются количественными и в любом случае их использование в количественном анализе требует особого методического и аппаратурного оформления. С другой стороны, в количественном анализе широко применяют реакции маскирования, которые пока что мало используют в качественном анализе. Таким образом, типы применяемых реакций и способы трактовки их в химическом качественном и количественном анализах не совпадают, поэтому разделение общего курса аналитической химии на две части закономерно. [c.6]

    В табл. 9 (которая основана главным образом на данных Ченга [65]) приведены полезные сведения о многих распространенных маскирующих агентах и катионах, для маскирования которых их применяют. Условия, в которых маскирующий реагент может быть успешно применен, зависят от ряда факторов. Следует отметить природу тех соединений, которые должны давать желаемую аналитическую реакцию (в отличие от реакции маскирования), концентрацию реагентов, а также значения pH раствора, присутствие в нем нескольких маскирующих веществ, природу растворителя, температуру, скорости реакций и возможность изменения окислительного состояния. Краткое теоретическое обсуждение количественных аспектов реакций маскирования и демаскирования было сделано в работе [65]. [c.143]

    Высвобождение иона из комплекса, образовавшегося в результате реакции маскирования, называется демаскированием. Например, цинк и кадмий демаскируются из цианидных комплексов с помощью формальдегида, который связывает цианид-ионы в циангидрин. Из фторидных комплексов некоторые металлы освобождаются (демаскируются) с помощью ионов бери.1-лия, алюминия или борной кислоты. [c.28]

    Подготовка пробы к анализу включает операции разделения и концентрирования (реакции маскирования можно рассматривать как [c.109]

    Для того чтобы определить, до какой степени протекли реакции маскирования и реакции комплексообразования, проводимые с целью анализа в присутствии маскирующего комплексообразователя, Ченг [115] предложил ввести коэффициенты избирательности и маскирования  [c.39]

    Иногда применяют другой прием использования реакций маскирования. Так, в смеси цинка и кадмия сначала титруют сумму обоих металлов. Затем вносят диэтилдитиокарбамат натрия. Он не разрушает комплекса цинка с ЭДТА, но полностью разрушает комплекс кадмия с ЭДТА, переводя Сс1 в осадок — диэтилдитиокарбаминат кадмия. В результате ос- [c.432]

    Знание констант устойчивости комплексов позволяет рассчитать концентрации комплекса и образующих его частиц. Константы устойчивости изменяются в очень широких пределах от нуля (отсутствие комплексообразования) до Различие в устойчивости комплексов используют в любых методах, но прежде всего на этом основаны реакции маскирования и комплексоиометрический метод. Реакции маскирования ( внутреннего отделения ) применяют, когда надо устранить мешающее влияние того или иного иона, чаще металла. В этом случае к раствору прибавляют специальный реагент, образующий с мешающим определению металлом комплекс более устойчивый по сравнению с комплексом определяемого металла с аналитическим реагентом. Такой прием называют маскированием, а соответствующий реагент — маскирующим. Реакции маскирования очень часто используют как в качественном, так и в количественном анализе. [c.44]

    Следовательио, при [H+] / s будет [А] [НА], т. е. при рН> >pKs большая часть кислоты уже перешла в состояние А -иона, поэтому дальнейшее повышение pH не может заметно увеличить концентрацию свободных ионов, которые собственно и являются маскирующими реактивами. Это условие объясняет много особенностей реакции маскирования. [c.149]

    Комплексообразование как способ понижения концентрации свободных ионов металла в растворе находит в аналитической химии широкое применение, особенно при осуществлении реакций маскирования и демаскирования , при осаждении гидроокисей металлов, сульфидов и металлорганических комплексов, а также в количественных экстракционных методах. Свойства комплексов важны также для ионного обмена и хроматографии. Комплексные соединения используют и при окончательном определении элементов при помощи таких физических методов, как спектрофотометрия, потенциометрия, полярография, хронопотен-циометрия или кондуктометрия. Электроосаждение как метод отделения или выделения различных элементов тоже связано с использованием процесса комплексообразования последний может обеспечить присутствие ионов металлов в достаточно низких концентрациях (это необходимо для получения ровных и плотно прилегающих осадков), а также позволяет создать условия, гарантирующие выделение из растворов лишь определенных металлов. На рис. 1 показано влияние концентрации лиганда на относительный состав обычной смеси, которая может быть подвергнута электролизу. В последнее время комплексометрическое титрование, особенно с применением этилендиаминтетрауксусной кислоты (EDTA) и ее производных, позволило проводить прямое объемное определение ионов металлов в растворе. [c.107]


    В реакциях маскирования большое значение имеют относительные концентрации и комплексообразующие способности реагента и маскирующего вещества по отношению к данному иону, а также произведение растворимости любого нерастворимого комплекса, который может образоваться. Так, чем менее растворим осадок, тем труднее найти маскирующий агент, способный предотвратить его образование. Тартрат-ион будет маскировать осаждение Ре(1П) в виде Ре(ОН)з, но не в виде РегЗз. Аммиак, образующий с ионами серебра комплексы Ag(NHз)+, способен замаскировать осаждение Ag+ хлорид-ионами, однако он не может препятствовать осаждению менее растворимых AgBг и AgI и, следовательно, его можно применять для обнаружения бромидов и иодидов в присутствии хлоридов. Использование маскирующих агентов дает возможность таким растворам служить резервуарами ионов или соединений, которые в противном случае были бы нерастворимы. [c.142]

    Естественно, маскирование часто может быть нежелательным, например, когда присутствие щавелевой кислоты ухудшает осаждение сульфида молибдена или образование фосфоромолибдата. При выполнении капельных проб иногда наблюдаются неожиданные реакции маскирования — ионы металлов, в том числе меди и золота, сильно сорбируются целлюлозой бумаги и обработка соответствующим реагентом не приводит к ожидаемому эффекту. С другой стороны, в присутствии винной кислоты как маскирующего агента и при тщательном контроле pH из раствора, содержащего вольфрам, можно выделить МоОз или M0S3 (W находится в подгруппе периодической таблицы ниже Мо, поэтому образует с тартратами более устойчивые комплексы и, следовательно, труднее осаждается). Учитывая природу иона металла, характер атомов лигандов, с которыми он предпочтительно участвует в комплексообразовании, и число связей металл—лиганд, которые может образовать данный ион, часто можно предсказать, насколько вероятны такого рода помехи. Так, маскирование реакции роданида с Ре(П1)-ионами фторидом, фосфатом, [c.145]

    Склонность ионов металлов к преимущественному взаимодействию с комплексообразующими группировками определенных типов была рассмотрена в гл. 3. Так, многозарядные катионы образуют наиболее прочные связи с анионами, имеющими заряд— 2 и более высокий, и с увеличением атомного номера связи с серой становятся более прочными, чем с кислородом. Это отчасти объясняет, почему именно тайрон (пирокатехиндисульфо-кислота), имеющий две фенольные группы в орто-положениях друг к другу, служит реагентом на ион Fe(III), в то время как дитиол (толуол-3,4-дитиол) с аналогично расположенными тиольными группами взаимодействует с Mo(VI), Re(VI) и W(VI). (Эта реакция неизбирательна, но ее можно сделать более избирательной, выполняя определение в растворах минеральной кислоты, где могут образоваться устойчивые трис-комплексы только этих трех ионов.) Использование такого свойства металлов важно для улучшения избирательности реагентов, особенно за счет применения реакций маскирования (например, Fe(III) органическими окси-кислотами или переходных элементов цианид-ионом), основанных на разнице в константах устойчивости комплексов металлов с комплексообразующими веществами различных типов. [c.375]

    Константы устойчивости имеют исключительно большое значение для аналитической химии. Возможность оценки устойчивости соединения способствует не только более глубокому иониманию существа хелатов, их структуры, природы связей, но позволяет, если ограничиться лабильными. комплексами, предвидеть возможность разделения или вытеснения ионов, а также мешающее влияние ионов и возможность его устранения при помощи реакции маскирования. Поэтому за последние 10—15 лет были определены константы устойчивости большого числа комплексов эти данные собраны в ряде справочников [976, 1791, 1993].  [c.42]

    В то время как оптимальное pH титрования, при котором достигается максимальная селективность, определяется константами устойчивости комплексов и параметрами ofi (стр. 213), выбор маскирующих реагентов возможен только при обстоятельном знании использущихся для этой цели реагентов. Поэтому ниже приведен краткий обзор важнейших реакций маскирования (см. также разд. 1.7 и табл. 30). [c.225]

    Из перечисленных самые чувствительные реагенты —хромоксановый фиолетовый и эриохромциан определение алюминия с ксиленоловым оранжевым и хромазуролом 5 наиболее селективно при использовании маскирующих реагентов. В настоящее время наиболее распространенным реагентом является алюминон. Реакции маскирования не позволяют избежать влияния ионов Сг , Т1, 2г, ТЬ, которые следует предварительно отделять экстракцией. Предварительной экстракцией растворами 8-оксихинальдина или купферона в хлороформе или четыреххлористом углероде отделяют все элементы, которые мешают определению алюминия с алюминоном. Поэтому несколько более высокая селективность реакций с ксиленоловым оранжевым и хромазуролом 5 в большинстве случаев не имеет значения. [c.270]

    Одним из наиболее универсальных маскирующих реагентов является трифосфат натрия NajP Oj бН О. При проведении реакций маскирования необходимо учитывать следующее чем меньше растворимость осадка (чем меньше значение произведения растворимости), тем труднее найти маскирующий реагент, способный предотвратить образование осадка. [c.75]


Смотреть страницы где упоминается термин Реакции маскирования: [c.121]    [c.334]    [c.304]    [c.293]    [c.231]    [c.148]    [c.143]    [c.144]    [c.425]   
Фотометрический анализ (1968) -- [ c.148 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Маскирование



© 2024 chem21.info Реклама на сайте