Коэффициент ионизации поверхностной

Предполагалось, что большая вторичная эмиссия сложных кислородно-цезиевых катодов [491—493, 496, 527—532, 567 —570] так же, как и фотоэффект, обусловливается низким потенциалом ионизации адсорбированных в поверхностной плёнке атомов цезия. Однако параллельное исследование фотоэффекта и вторичной эмиссии кислородно-цезиевых катодов показывает, что это не так [503—505, 536, 537]. При утомлении кислородно-цезиевых катодов путём их интенсивного освещения, а также при изменении толщины поверхностей плёнки цезия путём дополнительного прогрева всего прибора ход изменения коэффициента вторичной эмиссии далеко не соответствует ходу изменения фототока. Максимумы обеих кривых не совпадают. Точно так же не совпадают изменения вторичной эмиссии и фототока и при изменении структуры промежуточного слоя сложного катода. Поэтому при построении теории вторичной электронной эмиссии из сложных катодов их надо рассматривать как примесные полупроводники ) (как и в случае других видов электронной эмиссии со сложных катодов). При этом надо учитывать, что вторичные электроны вылетают не с самой поверхности сложного катода, а с некоторой глубины и что основной причиной, тормозящей их движение, является взаимодействие их с электронами полосы проводимости. Таким образом, влияние факторов, приводящих к увеличению числа этих электронов, должно отзываться на вторичной эмиссии более сложным образом, чем при термоэлектронной эмиссии. Возрастание числа электронов проводимости сверх некоторого оптимального значения должно уменьшать вторичную эмиссию из примесных полупроводников. [c.185]

Под поверхностной ионизацией понимают эмиссию положительных и отрицательных ионов из адсорбированного слоя частиц, находящегося в термическом равновесии с адсорбентом. Это явление представляет собой пример простейшего каталитического процесса с участием поверхности твердого тела. Количественными характеристиками процесса являются степень ионизации а и коэффициент ионизации р, определяющие долю ионов в общем потоке десорбируемых с поверхности частиц. Коэффициенты аир зависят от температуры адсорбента Т и напряженности ускоряющего ионы электрического поля й и определяются для положительных ионов известной формулой Ленгмюра — Саха. [c.138]

Объёмная (коэффициент и поверхностная (коэффициент у) ионизации положительными ионами недостаточны для поддержания разряда. Число электронов, участвующих в развитии каждой последующей лавины, меньще, чем в предыдущей. Сила разрядного тока уменьщается и разряд быстро прекращается. В этом случае стационарный разряд, имеющий место до прекращения действия внещнего ионизатора, является разрядом несамостоятельным. [c.411]

Искровая масс-спектрометрия позволяет определять азот с чувствительностью га-Ю вес.%. Затруднения при использовании этого метода связаны с поверхностными загрязнениями образца, остаточными газами в вакуумной системе, недостаточно высокими коэффициентами ионизации азота по сравнению с другими примесями, перекрыванием аналитических линий азота линиями многозарядных ионов и т. д. [c.238]

Количественно поверхностная ионизация характеризуется степенью а или коэффициентом р поверхностной ионизации [c.66]

Электрохимические свойства компонентов латуней — меди и цинка — значительно различаются, поэтому первоначально идет селективное растворение цинка из латуни и образуется обогащенный медью поверхностный слой [5.14]. Электродный потенциал латуни при этом смещается в положительном направлении пока не становится возможным растворение медной составляющей 15.31. Растворение латуни с этого времени становится равномер ным, т. е. идет с ионизацией цинка и меди в том же соотношении, в котором они находятся в сплаве. Для характеристики коррозии и растворения латуней используется коэффициент обесцинкования [5.5, 5.151 [c.215]

В теории разряда Таунсенда из всех возможных элементарных процессов выделения электронов из катода только этот процесс и учитывался. Введённый Таунсендом коэффициент поверхностной ионизации у, равный числу электронов, эмиттируемых катодом, приходящихся на каждый ударяющийся о катод положительный ион, принимали за количественную меру вторичной эмиссии под действием положительных ионов. В действительности дело обстоит несколько сложнее. Чтобы получить значение-коэффициента вторичной эмиссии электронов при ударах о катод положительных ионов, нельзя просто приравнивать этот коэффициент коэффициенту у, а надо ещё учитывать фотоэффект с катода под действием коротковолновых излучений, возникающих в разряде, и в известной мере также действие метастабильных атомов и быстрых нейтральных частиц. Поэтому имеющиеся па отнощению к коэффициенту вторичной эмиссии экспериментальные количественные данные должны рассматриваться как верхний предел и нередко относятся к суммарному коэффициенту Т-Но и надёжных измерений суммарного у очень мало, особенна если принять во внимание, что как у, так и действительный коэффициент вторичной эмиссии — назовём его уо — должны зависеть как от природы газа, так и от природы катода. [c.188]

НИ0 концентрации электронов в зоне проводимости, обусловленное ионизацией примесных атомов металлов (см.процесс 2), а, следовательно, на увеличении коэффициента рассеяния. По мере дальнейшего легирования начинает сказываться участие самих примесных атомов в хемосорбции с образованием поверхностных гидридов металлов, т.е. все в большей и большей степени начинают проявляться микрохимические свойства принеси, т.е. локальный эффект. [c.274]

Выражения (60,11) и (60,15) приобретают значение, большее, чем простое решение задачи для случая Р = О, если под у подразумевать условный коэффициент, охватывающий как поверхностную, так и объёмную ионизацию, производимую положительными ионами. [c.234]

В процессе образования пучка ионов атом отдельного элемента в плазме высокочастотной искры или низковольтного разряда должен быть удален из твердого вещества и ионизован. Эффективность его испарения, или распыления, зависит от вида материала его основы, температуры электродов, скорости диффузии, коэффициентов распыления и теплоты сублимации элемента. Температура поверхностного слоя определяется теплопроводностью и размером образца. Испарение и ионизация зависят от многих факторов, в том числе от импульсного напряжения, градиента напряжения в межэлектродном зазоре, потенциала ионизации элемента и электропроводности основы. Все эти свойства, конечно, определяются электронной конфигурацией атомов рассматриваемых элементов и поэтому тесно взаимосвязаны. Возникновение искрового пробоя зависит от величины зазора и тонкой структуры поверхности катода, которая непрерывно изменяется из-за конденсации вещества. Значение того или иного фактора неодинаково для высокочастотной искры и [c.250]

Рис. 7. Влияние покрытия углеродом поверхности иридия на коэффициент поверхностной ионизации хлористого цезия

Экспериментальные значения коэффициента поверхностной ионизации у для воздуха. Кривая зависимости 1п [c.734]

Положительные ионы, ударяясь о поверхность катода, выбивают из нее некоторое количество электронов. Число электронов, освобождаемое в Среднем одним положительным ионом, падающим на поверхность катода, называется коэффициентом поверхностной ионизации и обозначается у- В зависимости от материала катода, состояния его поверхности и вида бомбардирующих катод положительных ионов величина у обычно колеблется в пределах от 0,01 до 0,1. [c.237]

Рие. 1. Зависимость коэффициента поверхностной ионизации от (VI — ф), вычисленная по формуле 4 в предположении, [c.68]

Другим дополнением теории Таунсенда явился учёт при подсчёте объёмной ионизации не только неупругих соударений первого рода, но и неупругих соударений второго рода. Этот учёт не изменяет вида уравнений теории, а придаёт лишь несколько 1шое значение коэффициенту объёмной ионизации ас. Наконец, последнее по времени дополнение теории Таунсенда-Роговского заключается в иной расшифровке коэффициента поверхностной ионизации Г- Оказалось, что выход электронов из катода совершается не только под действием ударов положительных ионов, ио и вследствие ряда других причин. [c.392]

Таунсенд ввел коэффициент поверхностной ионизации равный числу электронов, в среднем эмитируемых катодом на один падающий ион. При относительно небольших энергиях ионов (десятки и сотни электрон-вольт) численные значения у имеют порядок величин 10 —10-2. увеличением энергии иона до нескольких тысяч электронвольт у может достигнуть 4—5 и по имеющимся данным иногда проходит через максимум. [c.19]

Форма графиков рис. 6 и 8 определяется не только температурной зависимостью коэффициентов поверхностной ионизации, но и аналогичной зависимостью выхода химических реакций на поверхности адсорбента. [c.142]

Любая электрохимическая реакция протекает на поверхности раздела фаз электрод — раствор и является гетерогенной. Как гетерогенная химическая реакция она также является стадийной, текущей через ряд последовательных стадий 1) транспорт вещества к электроду — к зоне реакции 2) собственный электрохимический акт взаимодействия реагирующей частицы с электродом (стадия разряда — ионизация) 3) отвод образовавшихся продуктов реакции от поверхности электрода. Первая и третья стадии имеют одни и те же закономерности и. чазываются стадиями мас-сопереноса, осуществляемыми за счет малых коэффициентов миграции и конвекции. Для всех электродных процессов наличие этих трех стадий обязательно. Однако наряду с этим ряд электрохимических процессов может осложняться предшествующими и последующими химическими реакциями, протекающими в объеме раствора или на поверхности электрода. Кроме того, в ходе электрохимической реа1 ции может происходить передвижение частиц по поверхности электрода (стадия поверхностной диффузии). Скорость электрохимического процесса, состоящего из ряда последовательных стадий, определяется наиболее замедленной, лимитирующей стадией. Для установления природы лимитирующей стадии, скорости ее течения, механизма электродного процесса, необходимо знать закономерности, которым подчиняются поляризационные характеристики / и Л . [c.458]

СР электроотрицательного компонента из двухфазной эвтектической системы А—В [28, 481. сплавах эвтектического строения эвтектическая колония состоит из двух разветвленных кристаллов чистых компонентов, проросших один в другой. Если концентрация А в несколько раз ниже концентрации В, то в результате селективного растворения А поверхностный слой сплава будет представлять пористую, заполненную электролитом среду, где и происходит массоперенос (см. рис. 1.1,(3). Когда диаметр пор достаточно мал ( 10 см), описание СР может быть построено на основе сочетания принципов диффузионной и электрохимической кинетики, т. е. без учета конвективного вклада в массоперенос. При обратимой же ионизации А весь процесс лимитируется только диффузией ионов В + в пористом слое, и в этом случае его скорость может быть выражена уравнениями, подобными уравнению Коттрелла (см, гл. 2). Характерным и отличительным параметром этих уравнений являетх я эффективный коэффициент диффузии В < [c.42]

Одной из основных величин, характеризуюших темное катодное пространство, является катодное падение, которое представляет собой разность потенциалов между началом и концом темного катодного пространства. Катодное падение зависит одновременно и от коэффициента поверхностной ионизации и от коэффициента объемной ионизации ). Оно резко уменьшается при наличии загрязнений в газе. [c.39]

Коэффициент поверхностной иоиизацнп показывает число электронов, вылетающих из катода при ударе положительного иона. Коэффициент объемной ионизации показывает число электронов и ионов, образуемых одним электроном на 1 см пути от анода к катоду. [c.39]

Исследована поверхностная ионизация на вольфраме металлических серебра и меди. Использован трехнитный ионный источник и 60°-ный магнитный масс-снектро-метр. В диапазоне между 1150 и 2850° К исследовано влияние температуры на ионизационный коэффициент а= N 1 Л о- Ниже 2500° К обнаружено отклонение от простой формулы Лангмюра. Значительное повышение а в этой области объяснено увеличением работы выхода вольфрама, обусловленным адсорбцией кислорода. [c.125]

Расчет абсолютной энтальпии гидратации протона был, повидимому, впервые выполнен Фаянсом [66], который предположил, что абсолютная свободная энергия электродного процесса может быть рассчитана из значения потенциала электрода, измеренного относительно ртутного электрода, находящегося при потенциале нулевого заряда (п. н. з.). Приняв эту величину равной —0,56 в по отношению к 1 н. каломельному электроду и используя имевшиеся в то время (1919 г.) данные по энергии диссоциации молекулярного водорода и энергии ионизации Н, Фаянс получил суммарную теплоту гидратации Н+, равную —362 8 ккал-моль . В последующей публикации того же года [66] эта величина была пересчитана исходя из разности энергий гидратации ионов П+ и К" , оцененной в 180 ккал-моль , и значения АЯк+ = = —80 ккал - моль , что дало для АЯн+ значение —260 ккал-моль , хорошо согласующееся с более поздними расчетами Холливела и Найбурга [78]. Допущение, что потенциалы электродов, измеренные против ртутного электрода при п.н.з., являются абсолютными потенциалами, положенное в основу расчета Фаянса, должно быть подвергнуто критике по той же причине, по которой следует признать ошибочными и другие расчеты подобного типа [73, 96]. Совсем не обязательно и, более того, маловероятно, чтобы абсолютная разность потенциалов металл — раствор при п. н. з., какого-либо электрода равнялась нулю . Из-за неопределенности в знаке и величине поверхностных потенциалов [98] возможны ошибки в потенциалах и их температурных коэффициентах, из которых рассчитываются теплоты гидратации, порядка 0,4 в. Поэтому совпадение с величиной, полученной из разностей условных теплот гидратации [78], должно рассматриваться как совершенно случайное, тем более что вначале Фаянс получил АЯн+ = = —362 ккал - моль . [c.85]

Выражения (479) и (481) приобретают значение, большее, чем простое, решение задачи для случая == О, если под у подразумевать услов1Ный коэффициент, охватывающий как поверхностную, так и объёмную ионизацию, производимую положительными ионами, а также и все другие возможные у-процессы на катоде. [c.413]

Для объяснения мицеллярных эффектов в химических реакциях несколько лет назад нами была предложена общая кинетическая теория, учитъюаю-шая распределение реагентов между объемной и мицеллярной "фазами", одновременное протекание реакции в обеих этих фазах и сдвиг кажудейся константы ионизации одного из реагентов под действием поверхностного заряда мицелл. С помощью этой теории, исходя из кривых зависимости валовой скорости от концентрации ПАВ, можно определить коэффициенты распределения реагентов между объемной и мицеллярной фазами и истинную константу реакции, протекающей в мицеллярной среде. Справедливость кинетических уравнений подтверждается тем, что определенные таким образом коэффициенты распределения согласуются с величинами, полученными с помощью других методов (гель-фильтрации, солюбилизации, спектрофотометрического титрования и т.д.). [c.224]

Адсорбция углерода на поверхности металлов платиновой группы тормозит реакцию термической диссоциации молекул щелочно-галоидных солей на поверхности, в результате чего снижается поток десорбируемых при этом атомных ионов щелочного металла [7]. На рис. 7 приведен график зависимости коэффициента поверхностной ионизации атомов цезия, образующихся из молекул хлористого цезия, на поверхности иридия, первоначально покрытого толстым слоем углерода. С ростом температуры происходит испарение углерода с поверхности, и величина Р изменяется от значения, соответствующего графиту Т < 1300° К), до значения, соответствующего иридию с чистой поверхностью Т 2000° К). Наименьшее значение 3 и соответственно степени диссоциации молекул на поверхности иридия получаются при монослойпом покрытии иридия углеродом Т 1800° К). [c.141]

При переходе через литшдный барьер (стенка желудка, кишечника) большую роль играет степень ионизации вещества. В зависимости от pH лекарственные вещества могут быть в ионизированной или неионизированной форме. Концентрация водородных ионов влияет также на растворимость, коэффициент распределения лекарственных веществ, мембранный потенциал и поверхностную активность. [c.103]