Натрия фотолиз

Дополнительно к исследованиям механизма разложения твердых тел ультрафиолетовым светом проводились работы по изучению разложения, вызванного электронным пучком. Наиболее полные сведения получены о разложении азидов бария и натрия [68]. Главное отличие от фотолиза состоит в том, что благодаря более высокой энергии частицы электронного пучка переводят электроны ионов азидов в зону проводимости или же вырывают их из кристалла, образуя, таким образом, положительные дырки. Этот процесс изображается следующим образом [c.120]

ФОТОЛИЗ АЗИДОВ КАЛИЯ И НАТРИЯ [c.163]

В соответствии с этим во второй фазе исследований [108], в общем проводившихся по образцу исследований фотолиза азида бария [52, 53], усилия были направлены на изучение фоторазложения азидов натрия [109], калия [108] и в меньшей степени рубидия и цезия [110], заведомо содержащих в той или иной форме металл. Несмотря на последнее обстоятельство, эти исследования были прогрессивными для своего времени, поскольку в них указывалось на значение экситонов при разложении твердых веществ. [c.163]

Подводя итоги рассмотрения фотолиза азидов щелочных металлов, следует отметить, что связь между фотохимически и термически образующимися ядрами металла не является твердо установленной. Несомненно, однако, что в монокристаллах азида калия коллоидные центры могут возникать при чисто термическом разложении. Отсутствуют также четкие доказательства ускорения термического разложения в результате образования центров окраски в азидах калия и натрия, поскольку образующийся из них металл быстро испаряется. Неясно, образуются ли такие центры, как N4, Р и Гз и другие, чисто термическим путем. Б то же время, несомненно, что образование ядер металла сильно катализируется акцепторам электронов. [c.170]

Фотолиз нитрита (1) дает три оксима — 2, 3 и 4. Оксим 2 при обработке смесью нитрита натрия и уксусной кислоты приводит к соединению 5. Установите строение оксима 2 и объясните образование соединений 3, 4 и 5. [c.244]

Азиды натрия, калия, стронция и бария разлагаются при облучении ртутной лампой низкого давления при 0°С. Кинетика фотолиза этих азидов исследована Джейкобсом, Шеппардом и Томпкинсом [19] (рис. 19 и 20). [c.95]

Рис. 19. Зависимость скорости фотолиза азида натрия при 0 С от временя.

При действии света ртутно-кварцевой лампы ПРК-2 в вакууме на очищенный натрий - бутадиеновый каучук выделяются газообразные продукты, состоящие из двух фракций одна из них конденсируется при —180°, другая не конденсируется в этих условиях. Неконденсирую-щаяся фракция составляет 85% и содержит 64 % водорода и 32 % углеводорода, что свидетельствует о деструкции при фотолизе связей С—Н и С С. Нижний предел квантового выхода по газовыделению составляет [c.142]

В растворах эти побочные реакции идут с участием растворителя, как например, в случае распада натрий-этила в-эфире [272]. Изучение распада этилсеребра в растворе [273] показало, что разложение не инициирует полимеризации стирола или метилметакрилата, как это обычно наблюдается при распаде соединений, поставляющих радикалы. Однако-радикальный механизм распада еще не может быть окончательно исключен на основании этого факта. Термический распад паров тетраэтилсвинца [274], тетраэтилсилиция [275] и тетраэтилгермания [276] изучен только при высоких температурах, и разнообразие образующихся продуктов затрудняет интерпретацию опытных данных. При фотолизе этил-иодида [2771 было найдено, что реакцией рекомбинации диспропорционирования этильных радикалов можно пренебречь по сравнению с другими реакциями этил-радикалов. [c.223]

Легкость образования алкил- и арилазидов при реакции с азидом натрия в ДМФА по механизму SJv2 [12, 62] расширяет сферу применения реакций азидов например, фотолиз азидов с успехом использован Бартоном в синтезе конессина [159]. [c.40]

Применение сульфонилоксигрупп в качестве защитных группировок ограничено из-за легкости их замещения по механизму 5н2 и трудности их удаления путем разрыва связи О—алкил [126]. Попытка удалить сульфоэфирную группу в щелочных условиях при наличии соответствующим образом расположенных гидроксильных групп (свободных или потенциальных) приводит к образованию ангидросахара однако если эти гидроксигруппы защищены устойчивой к действию оснований группировкой (например, простой эфирной), то происходит гладкое расщепление связи О—5 с регенерацией спиртовой формы. Спирт может быть регенерирован из сульфоэфира также при обработке никелем Ренея или амальгамой натрия, однако этот процесс может осложняться образованием внутримолекулярного ангидроцикла. Известны два эффективных метода расщепления связи О—алкил в мягких условиях фотолиз тозилатов в присутствии стехиометрических количеств метоксида натрия, при котором спирт регенерируется без образования ангидроцикла [129], и обработка нафтилнатрнем [130], приводящая к избирательному разрыву связи О—5 без образования побочных продуктов. [c.173]

Действие хлорангидридов кислот на цианметиловые эфиры дитиокислот (148 Н = РЬ, 1 = И) приводит к хлоридам дитиолия, которые при обработке водным раствором бикарбоната натрия превращаются в окрашенные в красный цвет мезоионные 1,3-ди-тиолийаминиды-4 (149 Н = РЬ, Й = Н) (с. в.) (схема 36) [59]. Фотолиз производного (149 Н — РЬ, Н = Н) приводит с высоким выходом к 1,2-дитиолу (150 Н = РЬ, Н = Н) (схема 36) механизм этой перегруппировки обсужден в работе [60]. [c.733]

Для получения фоторезистных масок для радиоэлектроники, микрорельефов, печатных форм на подложку для последующего фотолиза наносится композиция из фотоинициатора, мономера (олигомера), растворителя и других добавок. При этом вместо готового гексафторарсената, -стибата, -фосфата ониевого иона можно вводить синтетически доступную соль с более простым анионом и гексафторфосфат, -стибат, -арсенат натрия, аммония, калия и т. д. [пат. США 4154872]. Составы конкретных композиций приведены в пат. США 4264703, 4175973, 4069055, 4081276. Интересна разработка, в которой на слое соли сульфония конденсируют пары мономера и полимеризация протекает на фотолизованных участках слоя. Описаны пленочные резистные композиции [пат. США 4193799], в частности, на основе ПВС и сшивающего компонента типа триметилолмеламина, диметилолмочевины и т. д. [пат. США 4341859]. [c.133]

Азот в пятивалентном состоянии может фотохимически восстанавливаться до трехвалентного (нитритного) азота [79, 190, 221,224, 297. Гори, Петрикони и Папи [224], изучая фотолиз водных растворов нитрата натрия под действием ультрафиолетового света ртутно-кварцевой лампы высокого давления (мощность 2,3-10 квант1ч), нашли, что скорость образования нитрит-иона не зависит от концентрации нитрат-ионов в интервале 0,6—7,1 М при pH > 5. Количество образовавшегося иона NO2 может быть выражено формулой [c.41]

Применение фотохимических реакций в аналитической химии органических веществ весьма перспективно. Для этой цели могут быть использованы такие фотохимические реакции, как фотоокисление и фотовосстановление, фотолиз, фотосинтез, фотоперегруппировки и т. д. Здесь мы кратко рассмотрим некоторые наиболее интересные реакции фотохимического восстановления органических веществ. К таким реакциям следует отнести прежде всего фотохимическое восстановление нитро- и нитрозосоеди-нений. Продукты восстановления (амины) можно количественно определять ацидиметрическим титрованием или титрованием растворами нитрита натрия. Возможно также непосредственное фотохимическое титрование и определение фотометрическими методами. [c.84]

Имеются доводы в пользу той и другой схемы реакции. Диазометан при фотолизе в отсутствие водорода дает метан с выходом 4%, тогда как наличие эквимолекулярного количества водорода вызывает повышение выхода метана до 14% [48]. Реакция газообразного бромистого метилена с парами натрия в атмосфере водорода приводит к метану, но не к этилену [81—83]. Под действием электрического разряда из смеси СН4 и Ва в качестве главного продукта реакции образуется СНаВа наряду с небольшими количествами СНдВ и СНВд [74]. Этот факт хорошо объясняется механизмом (23). Следует, однако, помнить, что образование метилена однозначно установлено только нри фотолизе диазометана. [c.29]

Сообщалось, что простейший азен НН, который, возможно, генерируется при реакции гидроксиламин-О-сульфоновой кислоты с метилатом натрия в метаноле, при реакции с бутадиеном образует некоторое количество пирролина, однако 2-винилэти-ленимин не был обнаружен [86]. С другой стороны, фотолиз гидразовой кислоты в аргоновой матрице, содержащей этилен, при К приводит к образованию этилен-имина [87]. [c.457]

Фотолитическое разложение твердых веществ с ионной решеткой привлекает внимание потому, что в результате исследования процессов этого рода в принципе можно установить связь между уровнями электронной энергии в зонной схеме твердого тела, находимых из спектров оптического поглощения и измерений электропроводности, с одной стороны, и кинетическими характеристиками термического разложения, с другой. Мы ограничимся главным образом фотолизом, происходящим под действием квантов с низкой энергией, а результаты из области радиационной химии будем использовать только там, где это представляется уместным. Ввиду этого число соединений, представляющих интерес, невелико. Мы не рассматриваем фотолиз оксалатов, стифнатов и фульминатов, поскольку недостаточно обоснованные здесь предположения не ведут к углублению наших знаний. Разложение нитратов представляет особый вопрос. В результате остаются только азиды, для которых, если исследование их физических свойств не завершено [1], можно использовать аналогии в свойствах азидов с соответствующими соединениями галогенов. Так, сходство между электронными свойствами азидов серебра и таллия и соответствующих соединений галогенов совершенно поразительно. Точно также ясно, что для многих целей о свойствах азидов калия и натрия можно судить на основе данных, имеющихся для хлорида калия. [c.131]

В первой фазе исследования проводились при комнатной температуре. Фотолизу подвергались мелкокристаллические препараты азидов натрия, калия и бария для облучения использовалась ртутная лампа низкого давления, 90% излучения которой приходится на линию 2537 A и 10% — на 1849 A. Томпкинс и соавторы интересовались собственными свойствами чистых соединений. Поэтому они применяли излучение низкой интенсивности и поддерживали глубину разложения в узких пределах. В типичных опытах глубина разложения ограничивалась долями поверхностного монослоя или эквивалентного количества в объеме. Используя простые представления о реакциях в твердых веществах, эти авторы разработали механизмы процессов, широко принятые в то время и позволяющие объяснить полученные результаты. Скоро, однако, были опубликованы первые работы по исследованию центров окрашивания [27, 76], которые привели к идентификации последних [41] и показали, что первоначальный механизм Томпкинса является слишком упрощенным, а при больших глубинах разложения вообще неприменимым. [c.163]

Реактивы, разлагающиеся на свету. Реактивы этой группы под действием света подвергаются фотолизу, особенно ускоряющемуся в присутствии влажного воздуха. Например, трихлорэтилен l H= l2 на воздухе и свету разлагается с выделением ди-хлорацетилена, фосгена и СО железо (И) роданистое на воздухе постепенно окисляется, а под действием солнечных лучей разлагается хлорпикрин на свету разлагается, постепенно окрашиваясь в красновато-коричневый цвет. На свету также разлагаются йодноватый ангидрид, медь иодистая, ртуть однохлористая, серебро уксуснокислое и хлорнокислое, 1,1,2-трибромэтилен и др. На свету и во влажном воздухе разлагаются марганец двуиоди-стый, натрий надсернокислый, бензотрифторид, фенолфталеин-фосфат натрия, висмут(П1) углекислый основной, хлороформ, этиловый эфир уксусной кислоты и др. [c.75]

Восстановление. При восстановлении тиено[3,2-Ь]тиофена (II) сплавом Na — К при —100° методом ЭПР зафиксировано образование радикал-аниона с очень коротким периодом существования на поверхности сплава [263, 264]. Возникновение радикал-аниона тиено[2,3-Ь]тиофена (I) в аналогичных условиях обнаружено не было разница в устойчивости радикал-анионов объяснена большей степенью сопрянления в молекуле тиенотиофена II но сравнению с тиенотиофеном I. В то же время карбопи.т -, нитро- и циан-замещенные как первого, так и второго тиенотиофена при восстановлении калием или при фотолизе в присутствии метилата натрия образуют радикал-анионы [265]. [c.229]

Сенсибилизатор О растворен в гидрофобной области мицелпы, отрицательный поверхностный заряд которой предотвращает обрати ное поступление гидратированного электрона и рекомбинацию с образовавшимся Эти явления будут продемонстрированы на результатах фотолиза с помоишю лазера, полученных на растворах ТМБ в мицеллах лаурилсупьфата натрия ЛСН [2]. [c.272]

Исиользование пленки тетраиодида углерода позволяет идентифицировать радикалы в виде алкилиодидов. Метод свинцового зеркала с успехом используют для идентификации радикалов, образующихся при фотолизе ацетона. Описаны случаи применения твердой ртути, теллура, натрия, радия, цинка и оксида молибдена. В последнем случае под действием радикалов, особенно атомов водорода, пленка М0О3 становилась голубой. [c.88]

Образовавшееся при фотолизе 1,1-.хлорнитрозоциклогекса-на масло с.мешивали с дистиллированной водой. Выпавший при этом коричневый осадок отфильтровывали, а кислый водный раствор нейтрализовали кристаллическим бикарбонатом натрия и многократной экстракцией серным эфиром отделяли циклогексаноноксим (выход 20%), идентифицированный по НК-спектру и температуре плавления 88—89°С (по литературным данным 3 Тцл = 89°С). [c.15]

В рассмотренных выше реакциях нитрозосоединения образовывались из нитросоединений в результате окислительно-восстановительных процессов. В работе [213] показано, что нитрозирование фенола может происходить фотохимическим путем в результате УФ-облучения водного раствора фенола в присутствии нитрит-иона. Количество нитрозофенола возрастает по мере увеличения времени облучения и концентрахщи нитрита натрия. Считается, что фотонитрозирование обусловлено наличием радикалов N0 и ОН, образующихся при фотолизе нитрит-иона. [c.123]

ГОМОЛОГ, бицикло-[2,2,0]-гексан (рис. 10-6), был синтезирован при реакции Чыс-1,4-дибромциклогексана с натрием [7а]. Позднее этот углеводород идентифицировали [76] среди продуктов фотолиза бицикло-[3,2,0]-гептанона-Я (рис. 10-6). [c.265]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология