Насыщение поверхности

Устойчивость эмульсии определяется многими факторами, из которых главные 1) достаточное понижение межфазного натяжения на границе раздела жидкостей, вызываемое соответствующим стабилизатором 2) степень покрытия поверхности раздела адсорбционным слоем предельно устойчивая эмульсия образуется при условии насыщения поверхности 3) механическая прочность адсорбционного слоя. [c.80]

Таким образом, вначале адсорбция растет пропорционально концентрации или давлению газа, но постепенно этот рост замедляется, и при достаточно высоких концентрациях газа наступает насыщение поверхности мономолекулярным слоем адсорбата. Этой форме изотермы близка изотерма адсорбции бензола на поверхности графитированной сажи, представленная на рис. XVI, 1. [c.446]

Диффузионное насыщение поверхности металлов производят из твердой фазы (при непосредственном контакте твердых защитных элементов с поверхностью насыщаемого металла), паровой фазы (при переносе защитных элементов в виде паров), газообразной фазы (при взаимодействии газовой фазы, содержащей наносимый элемент в виде химического соединения, с поверхностью насыщаемого металла) и жидкой фазы (при взаимодействии расплава соли, содержащей наносимый элемент, с поверхностью насыщаемого металла или при непосредственном контакте с нею расплавленного наносимого металла). [c.118]

Диффузионное насыщение поверхности стали алюминием применяют в основном для повышения жаростойкости стали, в окислительных и особенно в сероводородсодержащих средах. Алитированная сталь при температурах 500—600 °С успешно конкурирует с хромоникелевой нержавеющей сталью типа 18—8 в средах, содержащих сероводород. На выносливость стали алитирование влияет по-разному в зависимости от толщины слоя. Так, порошковое алитирование на глубину 0,1—0,2 мм резко снижает предел выносливости стали и практически не влияет на коррозионную усталость. Алитирование на глубину 0,04—0,05 мм незначительно влияет на предел выносливости стали и более чем в 2 раза повышает условный предел коррозионной усталости. Алитирован-ный слой также понижает влияние концентраторов напряжений, особенно в коррозионной среде. [c.88]

Степень адсорбционной насыщенности латексов характеризует среднюю плотность упаковки молекул ПАВ в адсорбционных слоях. От нее во многом зависит устойчивость латексов к коагуляции, поведение их при храпении и в процессах переработки в изделия. Степень адсорбционной насыщенности поверхности частиц латекса определяется как [c.143]

Цель работы, определение степени насыщенности поверхности латексных частиц ПАВ, площади, занимаемой молекулой ПАВ в насыщенном адсорбционном слое, и удельной поверхности дисперсной системы. [c.143]

Химико-термическая обработка металлов — это совокупность технологических процессов, приводящих к изменению химического состава, структуры и свойств поверхности металла без изменения состава, структуры и свойств его сердцевинных зон осуществляется с помощью диффузионного насыщения поверхности различными элементами при повышенных температурах. [c.42]

Давление насыщен- поверхности при [c.234]

Чистый алюминий используется для плакирования стали с целью повышения ее стойкости к коррозии. Для этой цели применяется также алитирование — насыщение поверхности стали алюминием на глубину 0,02—1,2 мм, в результате чего создается плотная н прочная антикоррозийная пленка. [c.259]

В изотерме Фрейндлиха использована величина 0, несмотря на то, что эта изотерма не дает насыщения поверхности. Формально это означает, что возможны значения 0 > 1. [c.540]

Эти наблюдения бы.тн использованы для выяснения механизма орто-пара-превращения водорода и обмена Нг—Вг. Обе эти реакции легко проходят на поверхности , N1, Ре, Рг, Рс1 и других металлов переменной валентности. Начальная скорость перехода пара-Н в орто-Н при постоянном давлении, как было показано, пропорциональна парциальному давлению пара- [16, 32, 33]. Такая зависимость может быть, по-видимому, удовлетворительно объяснена, если принять, что при насыщении поверхности водородом идет его одновременная диссоциация, и учесть возможную десорбцию газа с поверхности [c.547]

Дополнительное подтверждение рассмотренной выше концепции получено в работе [64]. В опытах по Сз-дегидроциклизации н-гептана, проведенных в проточной системе без газа-носителя и в интенсивном токе водорода (10 л/ч), селективность циклизации по направлениям 1 и 2 заметно различалась. Действительно, отношение диметилциклопентанов к этилциклопентану с указанным изменением условий проведения эксперимента выросло с 0,35—0,5 до 0,6—0,95 в импульсном режиме при той же температуре (300 °С) это отношение составляло 1,25—1,3. Таким образом очевидно, что степень насыщения поверхности платинированного угля водородом в существенной мере влияет на селективность протекания реакцин Сз-дегидроциклизации н-гептана в присутствии этого катализатора. [c.218]

Различный ход кривых на рис. 1.12 объясняется тем, что при парциальном давлении водорода 3,0 МПа насыщение поверхности катализатора н-пентаном наступает при парциальном давлении последнего, близком к [c.21]

В табл. 11.2 приведены результаты, полученные при исследовании объемных эффектов замораживания при —8°С образцов одного из латексов, различающихся степенью адсорбционной насыщенности поверхности частиц эмульгатором [529]. Снижение плотности упаковки адсорбционного слоя эмульгатора приводит к уменьшению эффективной толщины прослоек незамерзающей воды у поверхности латексных частиц. [c.192]

Согласно (1.5) коэффициент а равен концентрации в объеме, соответствующей половинному заполнению поверхности. Уравнение (1.5) описывает изотермическую адсорбцию на активной поверхности и называется изотермой Лангмюра (рис. 1.3). При малых концентрациях адсорбата в газовой фазе, пока ЬС I, оно дает 0 = ЬС, т. е. при малых степенях заполнения поверхности адсорбция протекает по закону Генри (участок О А на рис. 1.3). При больших концентрациях, когда йС 1, 0 = 1, что соответствует насыщению поверхности адсорбента (участок ВТ) на рис. 1.3). Чем больше Ь, тем при меньших объемных концентрациях наступает насыщение поверхности. [c.16]

Адсорбцию газовых примесей ведут главным образом в реакторах периодического действия без теплообменных устройств, на полках которых находится адсорбент. Очищаемый газ пропускают через слой адсорбента обычно сверху вниз со скоростью, определяемой гидравлическим сопротивлением слоя и другими условиями абсорбции и составляющей 0,05—0,3 м/с. В процессе очистки адсорбент теряет активность в результате насыщения поверхности адсорбируемым веществом, а также ее экранирования посторонними веществами пылью, смолистыми продуктами и др. Потерявший активность адсорбент регенерируют нагревом и пропусканием острого или перегретого водяного пара, воздуха или инертного газа (азота). Иногда потерявший активность адсорбент полностью заменяют. При очистке воздуха от малых количеств токсичных веществ [(2—5) 10 % (об.)] и при дезодорации воздуха применяют установки, состоящие из ячеек со сменными перфорированными патронами с активированным углем. Срок службы таких патронов исчисляется годами и после дезактивации их удаляют, а иногда регенерируют. [c.236]

Способность коллоидных ПАВ образовывать мицеллы при малом содержании их в растворе лежит в основе широко применяемого на практике метода адсорбционного титрования латексов. Этот метод используется для определения таких важнейших характеристик латексов, как степень адсорбционной насыщенности поверхности частиц 0/, их размеров, площади, занимаемой одной молекулой ПАВ при образовании насыщенного адсорбционного слоя 5о, а также удельной поверхности системы 5уд. [c.143]

Уменьшению селективности адсорбции способствует предварительное насыщение поверхности вакуумной системы масс-спектрометра исследуемым образцом. Этот прием при исследовании смеси воды и спиртов использовали Тейлор с сотрудниками, получившие зависимость степени адсорбции от парциального давления воды в системе напуска [67]. На основании изотерм сорбции вносились поправки в расчеты, что дало возможность получить довольно хорошую сходимость между результатами анализа и составом искусственных смесей, включающих этанол, диэтиловый эфир, третичный этил-бутиловый эфир и воду. Однако предложенный метод предусматривал очень громоздкий расчет даже в случае относительно простых по составу смесей. [c.44]

При промывке водородом вакуумной системы МХ-1,303 постоянный уровень фона устанавливался через 40—45 мин. Хорошие результаты дает прогрев до 300—350° С в течение 15—20 мин ионизационной камеры, которая, как показано [74], является основным источником фона. Ослабление памяти достигается также споласкиванием прибора анализируемым образцом, поскольку оно способствует насыщению поверхности и установлению адсорбционно-десорбционного равновесия для исследуемого продукта. [c.49]

При этом, как видно из рис. 2, ОП-10 оказывает значительно более сильное стабилизирующее действие, чем ие-каль. Уже при адсорбционной насыщенности поверхности глобул, близкой к 85—90%, до- [c.134]

При исследовании процесса адсорбции необходимо иметь в виду, что уравнение (37) описывает лишь строго мономолекулярную адсорбцию. В случае протекания адсорбции по полимолекулярному механизму, лучше всего для ее описания подходит уравнение (39), В последнем случае насыщения поверхности адсорбента адсорбтивом не происходит и поэтому Гоо на изотерме не наблюдается. [c.87]

Данные о действии ядов на гетерогенные катализаторы по-казывают, что каталитическая активность,.4зазличных участков поверхности катализаторов, как правило, неоднородна. Рассмотрим, например, данные Пиза об отравляющем действии окиси углерода на медь, катализирующую гидрирование этилена. Адсорбционному насыщению поверхности 100 г меди соответствует адсорбция 10 см окиси углерода (т. е. ]/т= 0 см ), но уже адсорбция 0,05 см СО подавляет на 90% первоначальную каталитическую активность меди. Следовательно, 10 см СО соответствуют полному числу адсорбционных центров (или всей поверхности), а 0,05 см СО соответствуют 90% каталитически активных центров (или 90% каталитически активной части поверхности). Всей совокупности каталитически активных центров 100-0,05 [c.334]

При сильной адсорбции, когда Ь >> 1, сг=1=соп81. Это равенство соответствует насыщению поверхности. [c.99]

Если пленку чистого вольфрама поместить в атмосферу Нг при температуре 78° К, то происходит быстрое насыщение поверхности атомарным водородом. (Одновременно с сорбцией происходит диссоциация водорода.) Полное насыщение поверхности соответствует концентрации Нг около 10 мм рт. ст. Сорбция первых 75% Нг происходит с выделением тепла (экзотермическая область, —40 ккал). Десорбция Нг весьма маловероятна при этих температурах согласно Робертсу [28], десорбция водорода с поверхности вольфрама становится заметной лишь при температурах выше 600° К. Однако, по данным Трепнелла [27], с момента, когда степень насыщения поверхности достигает величины 0,8, и вплоть до полного насыщения поверхности величина АЯз близка к нулю. Поэтому следует ожидать, что десорбция этой последней доли сорбированного Нг будет идти в значительной степени и при 78° К. [c.547]

МПа и -пентана 1,0 МПа наступает перегиб кривой далее кривая идет параллельно оси аВсцисс. В связи с этим кинетические закономерности при парциальном давлении к-пентана 1,0 МПа справедливы только в области высоких рабочих давлений (6,0-9,0 МПа), когда еще не наступает насыщение поверхности катализатора и-пентаном. [c.22]

Некоторые другие теории адсорбции также применялись для изучения кинетики реакций. Брунауэр, Эмметт и Теллер расширили теорию Лэнгмюра, и их уравнение, часто обозначаемое как уравнение БЭТ, нашло широкое применение для измерения поверхности твердых частиц (см. пример УИ-1). Хорошо известное уравнение изотермы Фрейндлиха приводит к очень простым и часто используемым уравнениям скорости (см. стр. 224). Весьма полезное уравнение, описывающее кинетику синтеза аммиака, предложено Темкиным и Пыжовым . Эти исследователи применили уравнение адсорбции, отличающееся от уравнения Лэнгмюра тем, что при его выводе учтена неоднородность поверхности, а также принято, что теплота адсорбции линейно уменьшается с увеличением степени насыщения поверхности. Уравнение Темкина и Пыжова приведено в задаче УП-9 (стр. 237). [c.208]

Важным является применение алюминия для алитирования, которое заключается в насыщении поверхности стальных или чугунных изделий алюминием с целью защиты основного материала от окислсния при сильном нагревании. В металлургии а.пюмииий применяется для получения кальция, бария, лития и некоторых других металлов методом алюминотермии (см. 192). [c.637]

При насыщении поверхности силикагеля бензонитрильным комплексом хлорида палладия избыток комплекса способствует образованию полидентантных комплексов, обладающих меньшей активностью. [c.140]

После насыщения поверхности металла хемосорбированньш окислителем, что происходит обычно почти мгновенно и приводит к образованию монослоя окислителя, при низких температурах может иметь место и физическая адсорбция молекул окислителя за счет ван-дер-ваальсовых сил поверх хемосорбированного слоя (рис. И). [c.30]

Недостатками рекомбинационной теории перенапряжения водорода являются 1) несоответствие теоретического и опытного значения коэффициента з (Ьопытн = 4 .георет) 2) независимость т) от состава раствора [сн+. не входит в уравнение (547) для т)], что противоречит опыту 3) при предельном насыщении поверхности катода Над<. должно быть предельное значение тока, чего пока не наблюдалось. [c.258]

Механизм защитного действия достаточно хороига объясняется теорией Зигмонди, в основе которой лежит представление об адсорбционном взаимодействии между частицами защищаемого и защищающего золей. Более крупная частица гидрофобного золя адсорбирует на своей поверхности более мелкие макромолекулы ВМС с их сольватными (гидратными) оболочками, и в результате этого она приобретает лиофильные (гидрофильные) свойства. В данном случае коллоидные мицеллы необратимого гидрофобного золя предохраняются от непосредственного соприкосновения друг с другом, а следовательно, и от агрегации как в случае действия на такой золь электролита-коагулятора, так и в случае концентрирования золя. На рис. 121, а показана схема подобного защитного действия. Таким образом, высокомолекулярные соединения выступают в роли стабилизатора лиофобных (гидрофобных) золей, То, что именно на адсорбции основано защитное действие, подтверждается не только избирательным характером взаимодействия между макромолекулами ВМС и мицеллами, но и тем, что степень защитного действия увеличивается с концентрацией защищающего раствора ВМС только до полного адсорбционного насыщения поверхности мицелл защищаемого золя. [c.387]

При дальнейшем повышении давления количество адсорбируемого газа тоже увеличивается, но уже в меньшей степени (участок II изотермы) и дальше кривая, выражающая эту зависимость, стремится к прямой, параллельной оси абсцисс (участок III). Это соответствует постепенному насыщению поверхности адсорбента. Когда насыщение достигнуто, дальнейшее повышение давления или кбнцентрации практически уже не влияет на количество адсорбируемого газа. [c.367]

Уравнение (3) следует интерпретировать как зависимость, которая описывает кинетику гетеро-гомогенного радикальноцепного распада, при котором радикалы зарождаются на стенках в условиях адсорбционного насыщения поверхности развивают цепи в объеме,, и последние обрываются на молекулах тормозящих продуктов и на стенках. Вопреки прежнему толкованию, уравнение (3) относится не к гомогенным, а к гетеро-гомогенным реакциям. Скорость радикальноцепных реакций с гетерогенным зарождением радикалов, нО с гетеро-гомогенным обрывом цепей практически мало зависит от -- (но все же зависит), В связи с такой интерпрета- [c.127]

Фундаментальным вкладом в учение об адсорбции явилась теория Ленгмюра. Эта теория позволяет учесть наиболее сильные отклопеппя от закона Генри, связанные с ограниченностью адсорбционного объема или иоверхности адсорбента. Ограниченность этого параметра приводит к адсорбционному насыщению поверхности адсорбента по мере увеличения концентрации распределяемого вещества. Это положение является основным в теории Ленгмюра и уточняется следующими допущениями [c.114]

Скорость адсорбции на однородной поверхности с образованием мономолекулярного слоя (ленгмюровская адсорбция) складывается из скоросте двух противоположных процессов. Скорость прямого процесса определяется скоростью закрепления молекул адсорбата на поверхности адсорбента 0 , а обратного — скоростью удален1 я молекул с поверхности 2. Первая скорость пропорциональна ч 1слу столкновений молекул адсорбата VI с единицей по-верхпостп адсорбента, доле свободной поверхности (1—0) и доле молекул а, способных к закреплению на поверхности. Скорость обратного процесса (десорбции) пропорциональна числу уходящих молекул 2 с единицы площади насыщенной поверхности а степени заполнения поверхности 0. В результате скорость адсорбции выразится суммарным уравнением [c.126]

При эмульсионной полимеризации стирола в ирисутствип лаурата калия получен полистирольный латекс со следующими параметрами концентрация полимера 45 г/л, удельная поверхность 3-10 м /м , плотность частиц 1,05 г/см . Для оиределения степени адсорбционной насыщенности поверхности полимера молекулами ПАВ проведено адсорбционное титрование, при котором в 50 мл латекса введено 1,1-10 моль лаурата калия. [c.159]

Нами была исследована пенообразующая способность диви шлсти рольного латекса, лри синтезе ряда образцов которого применялись различные эмульгаторы. Изучалось влияние адсорбционной насыщенности поверхности глобул эмульгатором ла пенообразо вание. Устойч И1Вость латексных пен была соноставлела также с устойчивостью пен, образуемых растворами соответствующих эмульгаторов. [c.136]

Все латексы подвергались диализу, а затем упаривались на водяной бане до концентрации 40%. Введением определенных количеств эмульгаторов были приготовлены латексы с различной адсорбционной насыщенностью поверхности глобул. Для оценки пенообразующей способности были применены метод и прибор, о писаиные в [11. [c.137]

Пузырьки разных размеров образовывались на платиновом микрокатоде электролитически, путем поляризации этого электрода в течение определенного времени слабым импульсом напряжения. Затем после нескольких минут ожидания для насыщения поверхности пузырька NaLS вторым, очень коротким, но более интенсивным импульсом напряжения пузырек отрывался от электрода и всплывал к поверхности, наблюдаемой в отраженном свете в микроскоп. [c.266]

Найдено, что при достаточно низких температурах Г. = onst в пределах одного гомологического ряда, к которому принадлежит рассматриваемый адсорбтив. Это объясняется тем, что при насыщении поверхности адсорбента молекулы адсорбтива расположены на поверхности строго перпендикулярно ей (см. рис. 11.27), Данное явление может быть использовано для определения площади поперечного сечения молекулы адсорбтива So [c.123]

Из рисунка видно, что при повышении концентрации возрастает и Г, постепенно приближаясь к предельному-значению Гос- Однако на различных участках кривой это явление сказывается неодинаково. При низких концентрациях (область I) величина адсорбированного вещества прямо пропорциональна концентрации адсорбтива. В области // повышение концентрации увеличивает процесс адсорбции в меньшей степени, чем в области /. В области III при больших концентрациях адсорбтива кривая стремится к прямой параллельной оси абсцисс, что говорит о достижении полного насыщения поверхности адсорбенха. [c.97]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология