Основные элементы вакуумных систем

Рассмотрим вакуумную систему (см. рис. 114). Основными элементами вакуумной системы являются вакуум-насосы 2 и 3. При включении системы начальное давление 1 10 —1 0 мм рт. ст. создается форвакуумным насосом 2 через байпасную линию затем включается диффузионный насос 3, обеспечивающий высокий вакуум. Давления на входе в диффузионный и форвакуумный насосы-различны, поэтому быстрота откачки каждого из них должна быть пропорциональна отношению давлений. Так, если диффузион- [c.224]

Выше были приведены основные формулы, позволяющие рассчитать проводимость отдельных элементов вакуумной системы. Определение суммарной проводимости системы зависит от того, как эти элементы соединены между собой. При последовательном соединении [c.60]

Основными элементами вакуумной системы термоядерного комплекса, например, крупнейшего в мире отечественного комплекса со сверхпроводящей обмоткой тороидального магнитного поля -токамака Т-15 являются разрядная камера, криостат, инжекторы быстрых нейтральных атомов и блоки откачки. В вакуумный тракт входят также элементы систем ВЧ-нагрева плазмы, напуска газа, криогенный и диагностический комплексы [2, 3]. Для формирования плазменного шнура и локализации областей взаимодействия плазмы со стенками внутри тороидальной разрядной камеры установлены подвижные и неподвижные диафрагмы из графито-содержащих композиций. [c.56]

Неразборные соединения представляют интерес прежде всего для разработчиков и изготовителей вакуумных систем. Однако поскольку оборудование для осаждения для некоторых частных применений или исследований часто перестраивается, оператор также должен иметь определенные знания об основных способах выполнения соединений. Выбор способа соединений зависит от свойств материалов. Неразборные соединения металлов с металлами осуществляются сваркой или пайкой твердыми припоями. Паяные мягкими припоями соединения металла с металло.м являются полу-разборными (составляющие его детали могут быть разъединены и вновь соединены без нарушения рабочих поверхностей). По мере того, как популярные ранее стеклянные вакуумные системы заменяются цельнометаллическими, стеклянные паяные соединения теряют свое значение. Однако соединения металла со стеклом и металла с керамикой для специальных вакуумных элементов применимы и по настоящее время. Третья группа вакуумных материалов, эластомеры, применяются только в разборных соединениях. [c.246]

Масс-спектрометр имеет следующие основные элементы систему ввода образцов, источник ионов, анализатор масс и систему детектирования ионов, усиления и представления сигнала. Вспомогательный элемент спектрометров — вакуумная система, которая обеспечивает необходимое разрежение (ж 1,33- 10 Па) для предотвращения столкновений ионов с молекулами воздуха. На рис. 31.16 приведена блок-схема масс-спектрометра, а в табл. 31.9 — методы [c.752]

Справочник состоит из трех томов. Первый том содержит сведения об основных конструкционных материалах, их свойствах, выпускаемом сортаменте, способах изготовления неразъемных соединений, покрытиях, конструировании и расчете основных элементов и узлов технологического и природоохранного оборудования. Второй том содержит сведения об основном типовом технологическом и природоохранном оборудовании. Третий том содержит сведения о трубопроводной арматуре, вакуумном оборудовании, насосах, вентиляторах, газо- и воздуходувках, широко применяемых в технологических и природоохранных системах. [c.3]

Основными элементами системы питания, которые подлежали разработке, были карбюратор-смеситель, вакуумный [c.128]

Вакуумный монохроматор состоит из двух основных частей спектрального прибора, закрытого кожухом /, и основания 8, внутри которого размещены вакуумная система и элементы электрической схемы. [c.299]

Вакуумный спектрограф ДФС-29 состоит из двух основных частей собственно спектрального прибора 1 и основания 10, внутри которого размещены вакуумная система и элементы электрической схемы. Узел входной щели, узел дифракционной решетки в оправе и узел кассетной части закреплены на отдельной платформе, которая помещается в корпусе прибора и крепится в нем на трех точках. Перефокусировка спектра осуществляется рукояткой 3. [c.302]

Некоторые элементы расчета криогенных вакуумных насосов были изложены в четвертой главе, но они сводились лишь к оценке основных вакуумных характеристик быстроты действия крионасоса и вспомогательной вакуумной системы, предельного давления. [c.124]

Линия с интенсивностью, составляющей 10 % от интенсивности основной линии, может быть зарегистрирована на пороге обнаружения при самой большой экспозиции, соответствующей интегралу тока на коллектор-монитор, равному 2-10 кулон. Однако это не значит, что все примеси могут быть обнаружены при концентрациях до 10 ат. %. Ниже перечислены в порядке возрастающей важности факторы, определяющие предел обнаружения 1) присутствие непрерывного фона, обусловленного процессами столкновения между ионами и молекулами остаточного газа в вакуумной системе 2) ореол , появляющийся иногда со стороны больших масс у интенсивных линий 3) непосредственное наложение линий, обусловленных элементами, присутствующими в веществе в большой концентрации 4) малая интенсивность линий, обусловленная наличием большого числа изотопов у элемента 5) низкая чувствительность для обнаружения примеси по сравнению с чувствительностью для основного элемента. [c.153]

Принцип действия диодной (двухэлектродной) системы ионного распыления показан на рис. 31. Два основных элемента системы - катод 4 и анод 9 - располагаются в рабочей вакуумной камере 2. [c.44]

Для предварительной откачки объема и адсорбцион-ного насоса используют механические насосы с масляным уплотнением, двухроторные или диффузионные насосы с защитными ловушками и др. Предварительная откачка позволяет резко снизить давление гелия и неона в откачиваемом объеме, поэтому предельное давление высоковакуумного насоса определяется в основном остаточным давлением водорода, который выделяется с поверхностей вакуумной системы, горячих элементов манометров, установки и т. д. [c.143]

Основным компонентом газовыделения в пусковой период являются пары воды, которые довольно медленно выделяются с различных элементов самого насоса и вакуумной системы. По мере увеличения срока службы в результате образования губчатой структуры осадков катодного материала на анодах насос становится все более чувствительным к водяным парам, вследствие чего воздействие на электроды насоса атмосферного воздуха приводит к увеличению пускового периода. [c.112]

Основные технические параметры вакуумной системы и, в частности, предельное остаточное давление в значительной степени определяются давлением паров материалов, примененных при конструировании ее элементов. Особенно важен правильный выбор материалов при создании сверхвысоковакуумных систем, работающих при повышенных температурах. Решающее значение имеет знание характеристик испаряемых материалов в технике получения тонких пленок. [c.75]

Вакуумные системы современного оборудования для откачки ЭВП, как правило, состоят из следующих основных узлов откачного гнезда, защитного колпака, коммутирующих элементов, средств откачки и измерения полного или парциального давлений. [c.263]

Вакуумные системы современных установок для нанесения тонких пленок состоят из следующих основных узлов вакуумной рабочей камеры, коммутирующих элементов, средств откачки и средств измерения давления. [c.264]

Вакуумная система, изготовленная по схеме 2 табл. 14.4, используется в установках для производства многослойных тонкопленочных элементов микросхем методом ионного испарения материалов. В качестве основного средства откачки применен бустерный насос 16 с азотной ловушкой 17, который откачивает рабочую камеру 1 до давления 5-10 3 Па через затвор 19. Затем из смесительного бака 5, который может быть предва- рительно откачан через кран 8, с помощью игольчатых натекателей 2, 3 к 4 газ или смесь газов подается в рабочую камеру, и давление в ней возрастает до 15—5х Х10-1 Па. [c.288]

Из каких основных элементов состоят вакуумные системы электрофизических установок [c.81]

В соответствии с этим вакуумные установки для нанесения тонких пленок, несмотря на многообразие их назначения и конструктивного оформления, состоят из следующих основных элементов источника генерации потока частиц осаждаемого материала вакуумной системы, обеспечивающей требуемые условия для проведения технологического процесса транспорт-но-позиционирующих устройств, обеспечивающих ввод подложек в зону нанесения пленок и ориентирование обрабатываемых поверхностей относительно потока частиц наносимого материала. [c.12]

Эти вакуумные системы состоят из следующих основных элементов высоковакуумного пароструйного насоса насоса предварительного разрежения — механического вращательного насоса, который создает и поддерживает необходимое для высоковакуумного насоса выпускное давление охлаждаемой ловущки, помогающей работе высоковакуумного насоса тем, что она вымораживает из системы пары воды и другие конденсируемые вещества всякого рода кранов, вентилей и манометров, необходимых для управления установкой и измерения вакуума гнезд, служащих для быстрого присоединения откачной трубки прибора к вакуумной системе золотников (в карусельных откачных мащинах) и др. [c.457]

Это основное уравнение вакуумной системы характеризует потерю быстроты откачки системы по сравнению с быстротой откачки насоса из-за ограничивающего действия трубы и других промежуточных элементов диафрагм, ловущек, изломов и т. д. [c.30]

Вакуумная система (рис. 1-1) состоит из насосов с рабочими жидкостями, трубопровода, соединяющего откачиваемые объекты с насосами, манометров, кранов и других деталей, в которых может находиться какой-либо источник пара. Как правило, все эти элементы вакуумной системы имеют в рабочем состоянии различные температуры например, масло во вращательном насосе может нагреться до 50° С, рабочая жидкость пароструйного насоса—до температуры 100—200° С в то же время, например, в пароструйных насосах имеется холодильник, температура стенок которого соответствует примерно температуре проточной воды, т. е. может быть на несколько градусов ниже комнатной температура трубопровода в основном соответствует комнатной темпера1уре откачиваемые объекты обычно подвергаются прогреву до температуры в несколько сотен градусов. В определенном участке трубопровода часто помещается так называемая ловушка для вымораживания паров, стенки которой (после предварительной откачки и прогрева откачиваемых объектов в печи) могут быть охлаждены до температуры— (185 ч- 196°С). Какой же температурой определяется давление паров жидкостей и твердых веществ, которые находятся внутри вакуумной системы Чтобы правильно ориентироваться в практических случаях, с которыми приходится иметь дело в вакуумной технике, нужно иметь в виду следующее если вакуумная система содержит источник пара, причем в различных ее участках имеется разная температура, то давление насыщенного пара определяется наиболее низкой температурой при этом в пространстве, отделенном от источника пара наиболее холодной стенкой, давление насыщенного пара источника устанавливается в полном соответствии именно с температурой этой холодной стенки в пространстве же между наиболее холодной стенкой и источником [c.21]

С точки зрения удовлетворения всем этим требованиям и надо оцениозать материалы для вакуумных систем и их сочленений, а также конструировать и размещать основные и вспомогательные элементы вакуумной системы (откачиваемый объект, трубопровод, насосы, манометры, ловушки, краны и т. п.). [c.278]

За рубежом (например, в США) для обеспечения необходимой чистоты рабочих жидкостей применяют системы очистки, в которых наряду с фильтровальными установками из нескольких параллельных фильтров, обеспечивающих тонкость фильтрования 2—5 мкм, используют специальные методы удаления твердых загрязнений, влаги и воздуха из рабочей жидкости. Фирма Низе предложила такой метод очистки рабочей жидкости. Жидкость после фильтра, обеспечивающего тонкость фильтрования 10 мкм, подается в вакуумный бак, где выдерживается в течение нескольких часов при —87°С и остаточном давлении 0,133 кПа. Затем жидкость центрифугируют со скоростью 7200 об/мин и пропускают через другой фильтр, обеспе1Гивающий тонкость фильтрования 1 мкм. В Англии основным элементом фильтрующих наземных установок при заправке авиационных гидравлических систем является фильтр с фильтрующими элементами из специальной бумаги, обеспечивающий очистку рабочих жидкостей от частиц размером >3 мкм. [c.287]

Монохроматоры. Для разложения сложного лучистого потока на его монохроматические составляющие используют приборы, называемые монохроматорами. Их применяют во всех оптических областях спектра от вакуумного ультрафиолета до далекой инфракрасной области. Основным элементом монохроматора является диспер-гирующа5 система в виде призмы или дифракционной решетки. [c.54]

Основными элементами сварочных диффузионных вакуумных установок (СДВУ) являются рабочая камера с системой герметизации вакуумная система ме.ханизм дли создания давления на соединяемые детали (обычно гидравлический) нагревательное устройство с источником питания электрическая система управления. [c.320]

Поскольку источнж ионов ИСП расположен вне вакуумной системы, ионы масла насосов не детектируются. Пет вклада ионов из материалов конструкции источника ионов ИСП, так как ионизация осуществляется бесконтактно. Основные трудности, встречающиеся при анализе, связаны с подавлением степени ионизации некоторых элементов в присутствии высокой (более 0,2%) концентрации легкоионизируемых соединений, например натрия, калия, что обусловлено изменением плотносп электронов в плазме. Снижение суммарной концентрации солей в растворе ниже 0,2% дает возможность анализа проб без вышеуказанных помех. [c.854]

Основные элементы ЭлПП-400 плавильная камера 1, вакуумная система 5, источники основного и вспомогательного электропитания системы газо- и водоснабжения, КИПиА. Плавильная камера [c.310]

Специфика измерений высоковакуумными манометрами. Обычно измерения глубины вакуума в области низких давлений проводятся с целью определения плотности потока молекул, падающих на определенную поверхность внутри вакуумной системы. Интересующий нас объект может быть тонкой пленкой, подложкой или каким-либо прибором. Обычно предполагается, что измеряемое манометром давление газа соответствует условиям, одинаковым для всех точек данной вакуумной камеры. Это предположение, однако, является всего лишь аппроксимацией, поскольку в области очень низких давлений поведение газа определяется в основном взаимодействием молекул газа со стенками камеры, а не между собой. Следовательно, распределения самих частиц и их скоростей не являются однородными и отличаются от максвелловских. Для ионизационных манометров характерен еще ряд ограничений в измерении давления газа и большая часть источников ограничений не может быть устранена. Для уменьшения величины этих эффектов и оценки точности измерения в области малых давлений необходимо разобраться в механизмах, ответственных за эти эффекты. Проблема неоднородности распределения газа в вакуумных системах рассматривалась Муром [357]. Он перечислил причины, которые могут приводить к изменению плотности газа. Причиной могут быть насосы, действующие как ловушки и как источники направленного распространения газовых частиц. Эффект может быть связан с неупругим отражением падающих на стенку молекул, с поверхностной миграцией адсорбированных газов, вариацией скоростей адсорбции и десорбции на определенных участках внутренних стенок. Изменение плотности газа может быть вызвано разницей в температурах элементов системы. Хотя попытки описать аналитически реальное распределение газа и были сделаны, однако они были выполнены для систем с простейшей геометрией. Экспериментальные исследования в этом направлении были проведены Холлэндом, который рассматривал общее давление газа как сумму максвелловской и направленной составляющих [358]. Он закрепил ионизационную манометрическую лампу так, что ее впускная трубка могла поворачиваться, и наблюдал значительную разницу в давлении при различных ориентациях, измерительной лампы. Поскольку все источники неравномерного распределения давления газа устранить невозможно, при установке ионизационной лампы в вакуумную систему необходимо принимать во внимание хотя бы наиболее важные из них. Если манометрический датчик обращен в сторону насоса, криогенной панели или активно обезгаживаемой поверхности, такой, например, как нагреваемый элемент, то он, по-видимому, будет показывать давление, соответствующее либо более низкой, либо более высокой плотности частиц по сравнению с атмосферой, окружающей подложку. Для получения более близкого к реальному значения давления необходимо соединительную трубку манометрического датчика направить в обратную сторону или вбок таким образом, чтобы эффекты направленности потоков были близки к тем, которые имеют место у подложки. Опасность неправильного показания давления больше в системах с мощными насосами из-за высоких скоростей десорбции. В этих условиях можно ожидать преобладания направленной составляющей давления, которое вряд ли будет правильно измерено с помощью манометра. [c.330]

Следует заметить, что помимо перечисленных выше основных элементов рентгеноспектральной аппаратуры в ее схему входят и другие узлы и системы, такие, как вакуумная система, блок высоковольтного питания счетчиков, система охлаждения рентгеновской трубки, система газопитания счетчиков и т. д. [c.59]

При производстве тонкопленочньк солнечных элементов большую роль играет вакуумная технология. Вакуумное оборудование необходимо, например, при физическом осалодении из паровой фазы - вакуумном испарении. Вакуумная система содержит диффузионные и вспомогательные форвакуумные насосы и должна обеспечивать давление 10 " -10 Па. Такая система наиболее часто используется для создания тонких пленок в основном благодаря небольшой стоимости, простоте и высокой скорости откачки. При использовании в диффузионных насосах специальных масел (например, полифенилового эфира), криогенных отражателей и полностью металлической конструкции в системе достигается сверхвысокий вакуум с давлением в диапазоне 10 -10 Па. Другая стандартная сверхвысоковакуумная система основана на применении ионно-распьшительного насоса в сочетании с сорбционными и вспомогательными титановыми сублимационными насосами. [c.47]

В динамических вакуумных системах, предназначенных для того, чтобы создавать и поддерживать вакуум в объеме или приборе путем непрерывной откачки их быстродействующими насосами, допустимо использование устройств с различного рода узкими щелями внутри откачиваемого объема, причем следует по возможности изолировать внутренние полости от основного объема или уменьщить зазоры в этих щелях. Это объясняется тем, что если из элемента динамической вакуумной системы трудно откачать газ, то и поступление газа из этого элемента в систему мало. [c.500]

Вакуумное оборудование ). На фиг. 5.10 показаны схема и фотография небольшой высоковакуумной откачивающей установки, применяемой в Лаборатории криогенной техники Национального бюро стандартов (С111А). Эта установка используется в основном для откачки вакуумных систем и их элементов при проверке плотности, а также для откачки и обезгаживания оборудования перед отпайкой. Установка имеет обводную линию с соответствующими вентилями, которые позволяют отключать пароструйный насос в случаях, когда необходимо впустить воздух в остальную часть системы или присоединить установку к другому объекту, подлежащему проверке. Если допустить соприкосновение атмосферного воздуха с горячим маслом в пароструйном насосе, то возможны серьезные осложнения (окисление). При наличии вентилей и обводной линии нет необходимости ждать, пока пароструйный насос охладится. Общие характеристики основных элементов высоковакуумных систем будут изложены путем последовательного рассмотрения элементов, показанных на фиг. 5.10. [c.193]

Ниобий Nb (лат. Niobium, старое название колумбий, СЬ). Н.— элемент V группы 5-го периода периодич. системы Д. И. Менделеева, п. н. 41, атомная масса 92,906. Имеет один стабильный изотоп Nb. Открыт в 1801 г. Ч. Хатчетом. В природе встречается в минералах совместно с танталом. Н.— светло-серый тугоплавкий металл, на воздухе устойчив. По химическим свойствам близок к танталу (отсюда название в честь древнегреческой богини Ниобеи—дочери Тантала). Проявляет в наиболее устойчивых соединениях степень окисления +5. В кислотах, за исключением плавиковой, нерастворим. Оксид ниобия NbaOs имеет кислотный характер. Н.—один из главных компонентов многих жаропрочных и коррозионно-стойких сплавов. Основные области применения Н. и его сплавов — атомная энергетика, радиоэлектроника и химическое аппаратостроение, реактивные двигатели и ракеты, вакуумная техника. [c.90]

Рений Re (лат. Rhenium, от названия Рейнской области). Р.— элемент VII группы 6-го периода периодич. системы Д. И. Менделеева, п. и. 75, атомная масса 186,2. Природный Р. состоит из одного стабильного изо. опа Re и слаборадиоактивного 8 Re. Существование Р. (как эка-марганца ) было предсказано Д. И. Менделеевым. Открыт Р. был в 1925 г. В. и И. Ноддак. Основным природным источником Р. служат молибдениты. Р.— тугоплавкий серебристо-белый металл, обладает высокой коррозионной стойкостью. Р. проявляет различные степени окисления. Наиболее характерны и устойчивы соединения Re-l" . Оксид рения ReaO обладает кислотными свойствами. Сплавы Р. применяют в Электротехнике, авиационной промышленности, ракетостроении. Р. используют для антикоррозионных покрытий, в вакуумной технике, как катализатор. [c.113]