Критерий чистоты поверхности

Чистота поверхности — неопределенное понятие. Хотя в практике применения адгезивов и производстве адгезионных соединений контролю чистоты поверхности приходится уделять большое внимание, строгих количественных критериев чистоты поверхности не имеется. Все зависит от конкретных условий. Поэтому под чистотой поверхности понимают такое состояние поверхности, при котором на ней остается допустимое количество загрязнений [277]. Методы контроля чистоты поверхности во многих случаях аналогичны методам изучения характера разрушения адгезионных соединений (см. гл. V). Специальные методы очистки поверхности подробно описаны в монографиях и руководствах [274—277, 283, 284]. Наиболее широкое применение нашли [c.106]

II десорбции загрязнений. Практически температура, требующаяся для десорбции загрязнений, примерно в двадцать раз больше теплоты их адсорбции, выраженной в килокалориях. Поэтому обычно температуры нагрева превышают 1500 К. Процесс очистки такн е приводит к сглаживанию поверхности острия, поскольку при этих температурах поверхностное движение атомов в самой решетке металла становится заметным. Нагрев и отжиг острия необходимо проводить в отсутствие приложенного электрического поля, чтобы исключить деформацию и возможное разрушение острия. Имеются два критерия чистоты поверхности [c.189]

КРИТЕРИЙ ЧИСТОТЫ ПОВЕРХНОСТИ [c.275]

Из рассмотренных критериев чистоты поверхности реза наибольшее значение имеет глубина бороздок (шероховатость), характеризующая рельеф поверхности. Этот показатель, по аналогии с механической обработкой, может быть использован для определения класса чистоты поверхности реза. [c.38]

При выборе материа гщя защитных покрытий важнейшим критерием является способность материала образовать гладкие поверхности. Гладкость поверхности, согласно ГОСТ 2789-59, характеризуется 14-ю классами чистоты. С повышением класса чистоты снижаются высота неровностей, а также расстояние от выступов неровностей до средней линии. Характеристика размеров неровностей в зависимости от чистоты поверхности приведена в табл. 3.3. [c.138]

Критерий с.тужит для оценки чистоты поверхности классов ог 5-го по 13-й, критерий Нсо —для классов 1—4-го, 13-го и 14-го. [c.557]

Четвертым критерием, помогающим выявить различие между типами адсорбции, служит степень специфичности взаимодействия газ — твердое тело. Поскольку процессы хемосорбции представляют собой химические реакции, протекающие только на поверхности твердых тел, то, как и любые другие химические реакции, процессы хемосорбции имеют специфический характер. Это значит, что если какой-то газ хемосорбируется данным твердым телом при некоторых условиях, то из этого не следует, что в аналогичных условиях тот же газ будет хемосорбироваться другим твердым телом, имеющим такую же степень чистоты поверхности. Очевидно, возможность хемосорбции регулируется химическими потенциалами взаимодействующих веществ и вероятных поверхностных продуктов. Физическая адсорбция фактически представляет собой процесс, в ходе которого происходит конденсация газа, причем адсорбат может образовывать на поверхности инертного твердого тела один или большее количество слоев. Критерий специфичности подобно всем рассмотренным выше критериям также имеет свои недостатки. Например, высказываются некоторые сомнения [9], суть которых состоит в том, что адсорбент не всегда может быть химически инертен и что в некоторой степени специфичность может проявляться даже при физической адсорбции . [c.22]

Перед проведением определения верхнюю и нижнюю пробки, трубку 1 и шары тщательно промывают подходящим раствором, протирают специальной щеткой, а затем несколько раз ополаскивают диэтиловым эфиром. Если определяют вязкость водных растворов полимеров, промывание проводят горячим раствором соды, содержащим 5% аммиака, а затем тщательно ополаскивают дистиллированной водой. Критерием чистоты является смачивание водой всей внутренней поверхности трубки. Сушка в этом случае не требуется. [c.110]

Критерий служит для оценки чистоты поверхности классов от 5-го по 13-й, критерий Нср — для классов 1—4-го, 13-го н 14-го. [c.557]

Вода обладает большой когезией и потому не растекается на органических жидкостях. Последние обычно имеют умеренную когезию и растекаются на воде, если только их адгезия к ней не слишком мала. На чистой ртути растекаются практически все жидкости, но действительно чистую поверхность ртути получить настолько трудно, что растекание воды по ртути — необычное явление и может служить критерием исключительной чистоты поверхности ртути. [c.276]

Очевидно, что различия в данных о скоростях разложения амальгамы могли быть обусловлены лишь недостаточной чистотой проведения опытов. В качестве критерия чистоты исследователи использовали воспроизводимость результатов, получаемых каждым из них в отдельности. Однако этого критерия недостаточно. В производстве хлора и щелочи амальгамным методом ртутные ванны работают в целом с воспроизводимыми результатами, но не из-за отсутствия загрязнений, а из-за относительно постоянного содержания их в растворе. Как известно, при измерениях поверхностного давления формальные приемы очистки недостаточны, поэтому поверхность ртути перед измерениями механически очищают посредством продвижения барьеров по ее поверхности [226]. [c.35]

Физико-механические свойства поверхностного слоя металла пока очень мало изучены. Такие вопросы, как нормы этих свойств, влияние их на эксплуатационные свойства машин и механизмов и т. п. еще не разрешены. Поэтому пока для определения качества обработанной поверхности, как основным фактором (критерия), пользуются степенью чистоты поверхности. [c.113]

Хотя теория строения двойного электрического слоя на границе электрод — электролит базируется главным образом на экспериментальных данных, полученных на ртути, все же эта теория не содержит положений, основанных на специфических свойствах ртутного электрода, поэтому нет причин для сомнений в возможности ее применения к твердым электродам. Для решения этого вопроса А. Н. Фрумкин с сотрудниками сравнил величины удельной емкости двойного слоя на ряде твердых металлов и на ртути в широкой области потенциалов в растворах различного состава. Наиболее прямым методом решения этого вопроса оказался метод измерения импеданса границы твердый электрод — электролит. Однако известны большие методические трудности при работе с твердыми электродами, поскольку на измерения влияют всевозможные электрохимические реакции, шероховатость и другие неоднородности поверхности, возрастают требования к чистоте реактивов. Каждый из этих факторов может привести к частотной зависимости комплексного сопротивления (импеданса) границы электрод — электролит, что затрудняет интерпретацию экспериментальных значений емкости. В связи с этим в настоящее время имеется мало надежных данных о емкости двойного слоя для твердых электродов. Обычно критерием надежности считается сопоставление дифференциальной емкости для исследуемых металлов и ртутного электрода, дифференциальная емкость которого хорошо согласуется с теорией двойного слоя. [c.244]

Практически использование палладиевых мембран приемлемо в пределах температур 400—750° С и при разнице парциальных давлений водорода до и после мембраны не менее 3 атм. Принципиальное отличие схем, предусматривающих выделение водорода, состоит в том, что чистота получаемого продукта не зависит от глубины превращения метана на стадии конверсии. Это является важным преимуществом, так как позволяет проводить конверсию при более низкой температуре и более высоком давлении, а также с меньшим расходом пара. Учитывая сложность изготовления высокопроизводительных аппаратов для выделения водорода с большой поверхностью мембран, при выборе условий проведения процесса в этом случае определяющим критерием следует считать возможно более высокое парциальное давление водорода перед мембраной. [c.250]

Износ инструмента. За критерий износа инструмента принимают предельную величину износа по задней грани (Лз — см. рис. 1), при к-рой возможно получение поверхности заданной чистоты. В зависимости от обрабатываемого материала и вида обработки эта величина составляет 0,1—0,3 мм. [c.111]

Физическая однородность и толщина пленки измеряются механическим пробником с непосредственным отсчетом в различных участках поверхности подложки. Разброс по толщине не превышает 15% от средней толщины слоя. Сопротивление слоя измеряется четырехточечным пробником. Критерием химической чистоты пленок является постоянство произведения сопротивления на толщину пленки. [c.297]

Росс [151] в качестве критерия правильности обработки кривых выбрал зависимость определяемого экстраполяцией гиперболы значения Го от степени чистоты анализируемого вещества. Б результате исследования нескольких сотен кривых им было установлено, что только использование участка кристаллизации, лежащего в пределах от 10 до 30% кристаллической фазы, позволяет получать значения Го, не зависящие от степени чистоты анализируемого вещества. Верхний предел (точка Ё на кривой кристаллизации рис. 11) определяется необходимостью достижения минимального отношения поверхности кристаллов к объ-/ему жидкой фазы, при котором возможно термодинамическое равновесие. Нижний предел доли кристаллической фазы определяется увеличением энергии перемешивания. Влияние других эффектов, таких как изменение теплоемкости и теплопроводности в процессе кристаллизации, очень трудно теоретически оценить. [c.50]

Основным критерием для сравнения и относительной оценки качества поверхности реза в зависимости от чистоты кислорода служила величина отставания линии реза. На рис. 12 нанесены [c.31]

Обсуждение результатов. Полученные данные и закономерности позволяют обоснованно выбрать критерии оценки категорий качества поверхности реза (профиль и чистота), согласованных с техническими возможностями средств резки. [c.37]

Микрогеометрия поверхности образцов изучалась в зависимости от чистоты поверхности у топкошлифованпых и по- лированных образцов — на микроинтерферометре В. П. Лин-пика или на профилографе Аммона у токарнообработанпых и грубошлифованных образцов — на двойном микроскопе В. П. Линника. В качестве критерия чистоты поверхности была принята максимальная высота неровностей Ямако в микронах. Все образцы распределялись по классам чистоты поверхности согласно ГОСТ 2789—45. [c.121]

Одним из наиболее ранних и наиболее широко используемых методов анализа поверхности является оценка хемосорбционной емкости адсорбента. Трепнел [19] показал, что количество водорода, хемосорбированного при температуре жидкого воздуха, представляется вполне удовлетворительным критерием оценки стенени чистоты поверхностей ряда металлов. Робертс и Сайкс [20] использовали, но существу, тот же самый критерий для оценки чистоты поверхности порошка никеля. В другом методе, позволяющем обнаруживать поверхностные загрязнения, составляющие незначительные доли монослоя поверхности, используется дифракция медленных электронов [21—24]. Ряд методов основан на изучении автоэлектронной эмиссии или ионизации иод действием электрического поля таких газов, как гелий [25, 26], фотоэффекта [27], работы выхода вторичных электронов [28], работы выхода электронов Оже [29]. Кроме того, изучение самой каталитичес1 ой активности твердого тела может служить для оценки степени чистоты его поверхности. При ознакомлении с дальнейшими разделами книги для пас будет все более очевидным, что каталитические свойства пленок, полученных испарением металлов, зависят от чистоты их поверхности. Робертс показал [30, 31], что низкотемпературное каталитическое разложение этана на пленках из родия и иридия в значительной стенени ингибируется в присутствии адсорбированного кислорода или окиси углерода. [c.69]

Для удаления пыли деталь тщательно протиралась и промывалась проточной водой. Обезжиривание производилось различными растворителями с учетом химической породы пластика (во избежание химической реакции между пластмассой и обезжиривающим составом). Применялись как органические растворители (спирт, авиационный бензин, гидрохинон, четыреххлористый углерод), так и неорганические (например, щелочи, три-натрийфосфат и др.). После обезжиривания детали промывались сначала горячей, а затем холодной проточной водой. Критерием чистоты являлась полная смачиваемость поверхности детали водой. [c.111]

Разработка материалов покрытия более высокого качества может привести и к повышению требований к подготовке поверхности. В общем случае в настоящее время при струйной (дробеструйной) очистке требуют обеспечивать нормативную степень чистоты Sa 2V2 [16] и возможности сразу же наносить покрытие. Другие способы подготовки, например огнеструйная (огневая) зачистка, отходят на задний план. Критерии совместимости с катодной защитой нуждаются еще в уточнении в ходе дальнейших исследований. Одним из основных требовании является применение связующих, прочных против омыления, и пигментов (красителей), стойких к восстановлению. Еще одним влияющим фактором может быть проводимость для щелочных нонов. Этот фактор однако пока не исследован, но качественно оценивается по величине сонротивления покрытия. Соответствующие требования должны предъявляться и к протнвообрастающим покрытиям. При слишком сильном омылении связующих они могут очень сильно набухать или выщелачиваться, вследствие чего эффективность их действия будет потеряна. [c.357]

Способность жидкости растекаться в большой степени зависит от когезин наноси.мой на поверхность жидкости, Папрп-,мер, многие органические вещества растекаются на поверхности во пя, а вода, как правило, не растекается на органических веществах, что обусловлено значительно больщей когезией воды. Уменьщение поверхностного натяжения смачиваемых жидкости или твердого тела, например, вследствие загрязнения поверхности [см. уравнение (11.161)] вызывает снижение коэффициента растекания. Так, вода растекается на чистой ртути, если же в ртути имеются примеси, то вода не растекается. Таким образом, растекание воды может служить критерием высокой чистоты ртути. Следует отметить, что на поверхности рту-т]1. имеющей большое поверхностное натяжение, почти все жидкости растекаются. [c.93]

В большинстве случаев можно предотвратить эти нежелательные реакции, однако иногда их можно использовать в препаративных целях. Если при хроматографическом разделении желательно избежать каких-либо дополнительных реакций, то необходимо придерживаться определенных требований. Первое требование, выполнение которого в настоящее время уже не вызывает затруднений,— это использование действительно высококачественного адсорбента. Сейчас выпускается очень много различных адсорбентов, и вполне можно подобрать наиболее приемлемый как по поверхностным свойствам (например, имеются силикагели с различными размерами пор), так и по размерам частиц и адсорбционной способности (определяемой удельной поверхностью сорбента). Разделение соединений, содержащих сложноэфирные, кетонные и лактоновые группы, оксира-новые кольца и т. п., следует проводить только на нейтральном оксиде алюминия, а отнюдь не щелочном или кислом. Последние два типа адсорбентов применяются в особых случаях. Другое важное требование — правильный выбор активности адсорбента. Адсорбенты с максимальной активностью используются редко. Третьим важным критерием является техника хроматографирования. По возможности необходимо выполнять следующие требования I) хроматографический процесс следует вести таким образом, чтобы все растворенные соединения контактировали с адсорбентом в течение наименьшего возможного времени 2) колонку следует укрыть от прямого солнечного света, а если в ней находятся светочувствительные вещества, то обернуть алюминиевой фольгой 3) при работе с термически нестойкими веществами иногда необходимо поместить колонку в охлаждаемый короб или специально приспособленный холодильник 4) соединения, окисляющиеся на воздухе, следует хроматографировать в инертной атмосфере (например, в атмосфере азота особой чистоты) в этих случаях колонки заполняют особым образом и особым же образом обрабатывают отдельные [c.182]

Удаление низкомолекулярных веществ еще не приводит к окончательной очистке ферментов. Более радикальным приемом является осаждение ферментов этиловым спиртом определенной концентрации, ацетоном и другими водоо гнимающими реактивами с последующим извлечением их из осадков водою. Во всех приемах очистки ферментов критерием степени чистоты является активность их действия. Активность фермента в весовой части исходного материала принимается за единицу. Чем больше очищен фермент, тем больше его активность на единицу веса его препарата. В отдельных случаях можно было повысить активность ферментов в 2000 раз и больше по сравнению с активностью исходного материала. К эффективным приемам очистки ферментов относится связывание их на поверхности раздробленных частичек твердых веществ (адсорбция) с последующим освобождением (элюирование), а также отделение их от других веществ методом хроматографии. Следует, однако, указать, что эти приемы очистки ферментов обычно не приводят к их кристаллизации и они используются только при предварительной очистке ферментов. Весьма ценным в очистке ферментов оказался метод высаливания их нейтральными солями щелочных металлов, особенно сернокислым аммонием. Метод высаливания позволил получить целый ряд ферментов в кристаллическом виде. Часто для очистки ферментов приходится прибегать к различным приемам, и заключительным звеном работы является их высаливание. [c.176]