Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Поверхность окисла

    Измерения энергии связи кислорода с поверхностью окислов (qs) сопряжены с определенными трудностями. Опыт показывает, что величина q5 во многих случаях существенно зависит от степени заполнения поверхности кислородом — О (или от доли удаленного с поверхности кислорода Оо = 1 О, т. е. от степени восстановленности поверхности). Величина ф в свою очередь значительно изменяется в зависимости от условий обработки окислов, предшествующей измерениям ц,. [c.8]


    Расстояние h отсчитываем от граничной поверхности металл—окисел наружу на этой поверхности h — 0. На наружной поверхности окисла (h = hu) - [c.90]

    На внутренней поверхности окисла h = 0) имеем [c.90]

    Функцию п (К) можно найти, приняв толщину пленки равной й. В данный момент относительные концентрации атомов Ме п М1 ъ образующемся на поверхности окисла новом слое решетки могут быть представлены уравнениями [c.91]

    Кислород из газовой фазы вступает во взаимодействие с углеродом поверхности коксовой глобулы, образуя кислород-углеродный комплекс. В дальнейшем под действием молекул кислорода этот комплекс может разрушаться с выделением диоксида углерода. Кроме того, он способен разрушаться без участия кислорода (с выделением монооксида углерода). Это предположение подтверждено экспериментально [29]. Учитывается также способность кислорода проникать внутрь коксовой глобулы вследствие диффузии. Водород поверхности окисляется до воды, и при этом образуется кислород-углеродный комплекс. Водород в основном расположен на поверхности частиц кокса. Однако данные о распределении Н2 в глубину частиц отсутствуют, поэтому неравномерное распределение заменено стадией диффузии водорода по частице. [c.32]

    Катализаторы могут быть изготовлены на носителях с малой удельной поверхностью (диатомовые земли, пемза, асбест) и с высокоразвитой удельной поверхностью (окислы алюминия, магния, кремния, активированные глины, синтетические аморфные и кристаллические алюмосиликаты). В промышленности наиболее широко распространены носители с развитой удельной поверхностью, и в первую очередь активная окись алюминия, синтетические аморфные и кристаллические алюмосиликаты. [c.66]

    Для этого используется соотношение линейности Бренстеда — Поляни между энергией активации Е реакции и энергией связи Q кислорода с металлом на поверхности окисла металла  [c.464]

    Поскольку температура плавления фосфора мала (44°), то давление насыщенных паров фосфора над твердым фосфором при обычных условиях достаточно велико — это и является причиной того, что белый фосфор светится в темноте. Молекулы Р , присутствующие в парах над поверхностью, окисляются кислородом с выделением света. [c.307]

    Для полупроводника р-типа, покрытого слоем термического окисла, энергетические зоны также изгибаются вниз вследствие обеднения поверхности дырками (что эквивалентно обогащению поверхности электронами), ч в приповерхностном слое может возникнуть инверсионный слой п-типа (рис. 72, б). Изучение изгиба энергетических зон и области пространственного заряда удобно проводить на МОП-струк-турах (металл—оксид—полупроводник), представляющих собой конденсатор, одной из обкладок которого служит металлический электрод, напыленный на поверхность окисла, другой — полупроводниковая подложка, а слой 5102 служит диэлектриком. Емкость МОП-конден-сатора зависит от полярности и величины приложенного внешнего напряжения, поскольку первоначально существующий в системе изгиб зон может при этом увеличиваться или уменьшаться. [c.125]


    Химическая сорбция (хемосорбция, хемисорбция) газов, паров или растворенных веществ происходит при их взаимодействии с твердыми или жидкими поглотителями. Образование обычных соединений при хемосорбции сопровождается также образованием комплексных соединений на поверхности окислов и солей координационно ненасыщенных металлов. Для аналитической химии важна хемосорбция сероводорода, цианистого водорода, аммиака, галогенокислот и галогенов, окиси углерода, кислорода и других соединений. [c.77]

    Титан. Пленка окиси титана обладает хорошими адгезионными свойствами к стеклу, а прочность сцепления превосходит прочность сцепления ковара со стеклом. Титановые стержни после обезгаживания в печи с защитной атмосферой или в пламени горелки (в течение 5 мин), шлифовки и обезжиривания поверхности в спирте прогревают в окислительной зоне пламени до образования на поверхности окисла желтого цвета, а затем остекловывают приемом обмотки , нагревая в восстановительной зоне пламени горелки. Хорошо согласуются с титаном стекла № 23, ХУ-1. В эти сорта стекла можно впаивать и неширокие пластины из титана. Спай получается вакуумноплотным и в холодном состоянии имеет темно-синеватый цвет. [c.142]

    Анализируя полученные данные, можно сделать вывод, что в случае смачивания металлами, которые не растворяют металлическую пленку (Мо — С Мо — Ag , Мо — 8п), металлизированных поверхностей окислов, критическая толщина определяется прежде всего температурой отжига пленки, т. е. ее структурой. Так, в системе ЗЮз — Мо — 5п при температуре опыта 900° С критическая толщина равна 250 А, а в этой же системе при предварительном отжиге пленок до 1150° С и температуре опыта 900° С она составляет уже 450 А (т. е. равна таковой системы 5102— Мо — Си, Топ =1150° С). [c.23]

    С термодинамической точки зрения все окислы металлов должны реагировать с фтором с выделением кислорода и образованием фторидов металлов, обычно в высших состояниях окисления. Практически это не всегда достигается как из-за высокой энергии активации, так и из-за образования защитной пленки фторида металла на поверхности окисла. Многие реакции фторирования необходимо проводить при температурах примерно 4О0— 500° для полного превращения окислов во фториды именно из-за [c.354]

    При наличии на поверхности окислов железа встречаются два случая дальнейшего развития процесса окисления. В первом случае под ними образуется блокирующий лОЙ окиси алюминия, для формирования [c.102]

    Проведенный анализ показывает, что термообработка в водороде готовой продукции из Ре-Сг-А1 сплавов может быть использована для предотвращения язвенной коррозии. Отметим, что металл перед термообработкой не должен иметь на поверхности окислы железа, так как они на подложке из ре-Сг-А1 сплава восстанавливаются в водороде весьма медленно. [c.109]

    При поддерживаемых в печи температурах кислород воздействует на обычные металлы, образуя на их поверхности окислы или окалину. Окись углерода и водород восстанавливают металл из окислов. На этом основании уже давно появились и по- [c.197]

    В плазме потенциал наружной поверхности окисла не может быть замерен непосредственно и определяется параметрами плазмы и плотности тока. [c.157]

    При взаимодеиствии хлорсульфоновых групп с вулканизую ы,ими агентами образуются промежуточные соединения, кото рые не являются конечными продуктами реакции В дальнейшем полярные подвески адсорбируются на поверхности окисла илИ [c.132]

    Для придания изделиям из сплавов серебра с медью белоснежной окраски, даже при отсутствии пленки окисла меди, их подвергают отбеливанию. Для этого изделие, как указывалось, нагревают до образования на его поверхности окисла меди, затем отбеливают растворением этого окисла. [c.172]

    Другие исследователи (Г.К. Боресков, Марс —Ван Кревелен) б(1лее доказательно утверждали, что окислительно —восстановительный каталитический процесс протекает стадийно посредством в аимодействия восстановителя с кислородом поверхности окисла металла и реокислении восстановленного катализатора окислите — Л5 ми, то есть каталитическая поверхность рассматривается как химический реагент (как это представлено выше в виде реакций 1.1 — [c.160]

    Розовский А. Я., Стыценко В. Д., Третьяков В. Ф. Теоретическое и экспериментальное исследование превращений поверхности окислов металлов. Окислительно-восстановительные превращения поверхности окислов металлов. В кн. Химия поверхности окисных катализаторов - М. Наука, 1979.-С. 95-127. [c.30]

    Выше было показано (см. стр. 499), какую важную роль играют гидроксильные группы на поверхности окислов в отношении адсорбции молекул, имеющих дипольиые и квадрупольные моменты или зг-электронные связи. Поэтому увеличение концентрации гидроксильных и других активных функциональных групп на поверхности адсорбента (гидратация поверхности окислов, окисление саж) увеличивает энергию адсорбции таких молекул, мало изменяя энергию адсорбции молекул с более симметричными электронными оболочками (благородные газы, ССи, насыщенные углеводороды). Наоборот, удаление таких активных функциональных групп (дегидроксилирование поверхности окислов, графитированне саж) снижает адсорбцию молекул, имеющих дипольиые к каад-рупольные моменты или и-электронные связи, мало изменяя адсорбцию молекул с более симметричными электронными оболочками. [c.503]


    После прокалки при 1300°С пековый и пиролизный коксы имели положительный заряд поверхности, кокс из гудрона и крекинг-остатка — положительный и отрицательный заряды, кокс из окисленного крекинг-остатка — отрицательный заряд. Согласно взглядам Н. А. Шилова, это означает, что на поверхности пекового и пиролизного коксов, получаемых из высоко-ароматизованного сырья, находятся окислы типов А н В, кокс из крекинг-остатка (из менее ароматизованного сырья, чем пиролизный) имеет на поверхности окислы типов S и С, а кокс из окисленного крекинг-остатка — только окисел типа С. [c.217]

    Весьма реакционноспособные электроноотрицательные элементы (кислород, сера, галогены) и доноры электронной пары (окись углерода, аммиак, вода, сероводород, фосфин и т. д.), а также их производные, когда они присутствуют в виде случайных примесей в реагирующих веществах, являются сильными каталитическими ядами и делают невозможным протекание основной реакции. Эти яды могут сорбироваться или реагировать с катализатором, образуя на его поверхности окислы, сульфиды, галогениды и т. д. Если активность катализатора восстанавливается при удалении ядов из реагирующих веществ, то такое отравление является обратимым, а если не восстанавливается, то необратимым. [c.24]

    Она совпадает с последовательностью увеличения энергии связи кислорода на поверхности окисла. Эта простая корреляция пе может претендовать на универсальность, так как энергия активного комплекса лимитирующей стадии реакции окисления зависит не только от энергии связи кислорода с катализатором. Существенное значение могут иметь и энергии связей с катализатором других участников реакции. Для более точного предвидения каталитического действия необходимо изучить закономерностп изменения н других связей активного комплекса. [c.465]

    Аналогичные закономерности могут наблюдат1,ся при адсорбции других атомов и молекул. При адсорбции многих органических веществ, содержащих периферические диполи, на слоях различных, солей или поверхностях окислов металлов спектры [c.87]

    Нелетуч, только с поверхности окисляется при ярко-красном калении, разлагает воду нри высокой температуре Едва растворяется в холодной HNO3, легко в тепло г H I и в растворе КОН Дает хорошо образованные квасцы [c.274]

    Рассмотрим изменение зарядового состояния поверхности кремния п-типа, покрытого слоем термически выращенного 5102. Окисел, примыкающий к границе раздела 51—510а, сильно дефектен по кислороду, причем концентрация кислородных вакансий достаточно резко убывает к поверхности окисла. Поскольку с кислородными вакансиями ассоциирован положительный заряд, максимальный у границы раздела, то наблюдается обогащение электронами приповерхностного слоя кремния. Это обогащение приводит к изгибу энергетических зон вниз (рнс. 72, а) даже при отсутствии внешнего поля. Поскольку пространственный заряд сконцентрирован в очень небольшом слое вблизи границы 5 1 — Оз, то возникающее при этом собственное электрическое поле весьма значительно, что и приводит к сильному искривлению зон в приповерхностном слое полупроводника. Обычно до п-вырождения дело не доходит, но при наличии в окисле значительного количества положительных ионов примеси (особенно щелочных металлов) искривление зон настолько велико, что иногда может наблюдаться металлизация поверхности. Это, в частности, является причиной тангенциальных (поверхностных) утечек в полупроводниковых приборах. [c.125]

    Все тугоплавкие металлы обладают отрицательными нормальными электродными потенциалами и располагаются в ряду активности левее водорода. Высокая коррозионная стойкость тугоплавких металлов обусловлена образованием на поверхности плотной, химически устойчивой пленки, представляющей собой окисел данного металла для Та, ЫЬ, Мо, 7г — это Та Об, N52 05, МоОз, 2г2 0 и т.д. Так, например, тантал без окисной пленки обнаруживает сильную анодность по отношению к большинству металлов в течение нескольких секунд после погружения пары в электролит, но образование на его поверхности окисла Таг 05 под действием анодного тока быстро изменяет потенциал тантала на обратный и тантал становится катодом (рис. 48). Этот процесс аналогичен процессу пассивации алюминия, но протекает быстрее (рис. 49). [c.56]

    Если растекание Т10а происходит под слоем твердых окислов, то подобный характер течения должен иметь место и в том случае, когда опыт проводится в среде аргона. Однако в этом случае показатель при т равен 0,23 0,24, что соответствует растеканию с равномерным утоньшением пленки жидкости. Растекание при этом происходит медленней. Это, вероятно, связано с тем,что в данном случае поверхность окислена и движущая сила растекания, обусловленная химическим взаимодействием на межфазной границе, уменьшается. [c.64]

    Следует учитывать, что на начальной стадии эксплуатации нагревателей, в связи с относительно медленным резогревом электропечи, создаются, предпосьшки для образования окислов железа в области средних температур. При дальнейшем повышении температуры эти окислы должны восстанавливаться. Однако под влиянием неблагоприятных факторов на отдельных участках поверхности окислы железа могут сохраниться, причем в этом случае они далеко не всегда подвергаются алюмотермическому восстановлению даже при длительных выдержках в области высоких температур (выше 1100°С). [c.102]

    Другие исследователи (Г.К. Боресков и соавт.) более доказательно утверждали, что окислительно-восстановительный каталитический процесс протекает стадийно посредством взаимодействия восстановителя с кислородом поверхности окисла металла и реокислении восстановленного катализатора окислителями, то есть каталитическая поверхность рассматривается как химический реагент (как это представлено выше в виде реакций 1.1-3) Надо отметить, что старый железопаровой способ получения водорода был основан на периодическом осуществлении отдельных стадий конверсии природного газа. [c.507]

    М главный пик находится между 610 и 570 нм с тенденцией к понижению при более высоких конц. Интенсивность пика при 665 нм падает, и при 10 М ПНК фактически исчезает [JA S 77, 4197 (1965)]. Восстанавливается дитионитом, восстановленными флавинами, восстановленным фе-назинметосульфатом, восстановленными хинонами. Обладает активностью витамина Е. Восстановленное соединение способен прилипать к стеклянным поверхностям окисл. Oj или в анаэробных уел. под действием света скорость окисл. увел, с увел. pH. Уст. над N, в темноте. [c.298]

    Пужение и пайка в потоке припоя. Процессы лужения и пайки в условиях производства выполняют групповыми методами-В случае плат с ЭРЭ и микросхемами, имеющими штырьковые выводы, используют пайку а потоке — волной припоя. Навесные элементы отделены от расплавленного припоя плоскостью печатной платы. Процесс пайки в потоке припоя основан на погружении в жидкий припой одновременно всех соединений, расположенных в плоскости вдоль линии, совпадающей с вершиной гребня волны. Длина гребня равна ширине платы. Плату перемещают в направлении, перпендикулярном длине гребня. Благодаря приподнятости гребня над поверхностью окислы и шлаки, плавающие на поверхности, скатываются с гребня и его вершина оказывается в значительной степени свободной от загрязнений. Смываются и вновь образуемые шлаки — продукты реакций флюса с окислами и атмосферой. Вторым важным эффектом при пайке в таких условиях является механическое усилие, с каким жидкий припой поступает в зазор формируемого паяного шва. [c.38]

    Согласно приведенному выше механизму поступления отрицательных ионов кислорода в окисдный слой, при малых значениях энергии электронов коэффициент использования тока может приближаться к единце. Однако в реальных условиях из плазмы на Поверхность окисла поступают также и быстрые электроны, энергия которых достигает нескольких электрон-вольт. Попадая в зону проводимости окисла, они вызывают появление чисто электронного тока и снижают коэффициент использования тока. [c.156]

    Следует учесть, что в процессе анодирования в окисном слое поддерживается значительная напряженность поля, приближающаяся к 10 В/м, необходимая для дрейфа ионов сквозь оксндный слой. Когда в окисел со столь высокой напряженностью поля попадают электроны с энергией порядка 4—5 эВ, оказывается возможной ударная ионизация, приводящая к резкому снижению доли ионной составляющей в токе, протекающем сквозь окисел. При анодировании в плазме положительного столба, где средняя энергия электронов близка к 3 эВ, в случае малой плотности тока доля таких горячих электронов невелика. Она плавно возрастает при увеличении плотности тока до момента, когда потенциал поверхности окисла становится выше потенциала плазмы. [c.156]

    Принимая во внимание неравноценность поверхностных атомов графита в соответствии с данными ИК-спектроскопии, можно предположить образование нескольких типов поверхностных окислов углерода в зависимости от числа остаточных валентностей различных атомов углерода. Некоторые авторы считают [28], что наиболее прочными углерод-кислородными комплексами являются кетенный и кетонный комплексы. Для удаления кетонных групп в форме окислов необходима весьма значительная энергия для разрыва С—С связей ( — 259 кДж) при температуре —2370 К- Кетенный комплекс менее прочен и при 770 К и выше разрушается с отрывом от поверхности окислов углерода (преимущественно в виде СО2). [c.479]

    Таким образом, на всех тинах рассматриваемых 1МИА анодный процесс протекает на поверхности окисла, состав которого может изменяться в процессе анодной поляризации, что, в свою очередь, влияет на ход анодного процесса. [c.24]


Смотреть страницы где упоминается термин Поверхность окисла: [c.10]    [c.192]    [c.63]    [c.75]    [c.129]    [c.90]    [c.90]    [c.111]    [c.208]   
Смотреть главы в:

Катализ новые физические методы исследования 1960 -> Поверхность окисла




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Алюминий окислы поверхность

Взаимодействие между кислородом и поверхностями окислов

Влияние образующихся па поверхности металла окислов на процесс коррозии

Карбония пон образование на поверхности окислов

Неоднородность поверхности окислов металлов, природа

Окислы на поверхности металлов

Окислы на поверхности металлов образование зародышей

Окислы на поверхности металлов превращение слоя адсорбированного кислорода в окисел

Окислы на поверхности проката

Окислы пленки на поверхности

Окислы, классификация металлов как поверхность

Поверхность раздела металл — расплавленный окисел

Повышение надежности работы экранных поверхностей нагрева и снижение образования окислов азота путем применения двухступенчатого сжигания газа и мазута

Псевдоморфный окисел на поверхности металла

Радикал-ион образование на поверхности окислов

Реакционная способность поверхностей окислов ВИНТЕР Метод эксперимента

Рений, восстановление из окислов поверхность

Спирты, адсорбция на поверхности окислов

Фазовый окисел на поверхности металла



© 2025 chem21.info Реклама на сайте