Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Оптимальное время экспозиции

    Оптимальное время экспозиции [c.204]

    Практически этот метод измерения очень трудоемок. Точная оценка плотности почернения с помощью денситометра требует значительного времени и тщательности. К тому же вероятно, что оптимальное время экспозиции для каждой длины волны разное и правильная экспозиция может быть получена только для одной точки, так как излучение источника, чувствительность фотопластинки и поглощение образца изменяются с длиной волны. [c.75]


    Оптимальное время экспозиции определяли по экспериментально полученным кривым, показывающим последовательность поступления примесей в плазму дуги при их испарении из концентрата (рис. 3). Рассмотрение кривых пока- [c.69]

    Оптимальное время экспозиции выбирали па основании экспериментально полученных кривых, характеризовавших последовательность поступления примесей в плазму дуги при их испарении из концентрата. Эти кривые изображены на рис. 1 (я, б, в). Их рассмотрение показывает, что В1, Зп, С(1, -ЗЬ и РЬ практически полностью испаряются в течение первой минуты горения дуги. Это время было выбрано в качестве рабочей экспозиции. [c.90]

    В связи с переходом на точную фотоэлектрическую регистрацию спектра возникли специфические требования к источнику возбуждения спектра. Целесообразно использовать источники спектра, излучающие за время экспозиции максимальный полезный сигнал и минимальные электромагнитные помехи. Такие повышенные требования к точности фотоэлектрических методов анализа заставляют разрабатывать источники со значительно большим числом регулируемых и контролируемых параметров, чем это принято обычно, и жестко стабилизовать оптимальные значения этих параметров. В частности, стабилизируются следующие параметры электрического разряда в газах 1) форма и величина тока и напряжения в импульсе, а также фаза поджига активизированной дуги переменного тока 2) параметры зарядного и разрядного контура искрового разряда 3) напряжение на конденсаторе разрядного контура искрового импульсного разряда 4) геометрия межэлектродного промежутка и микрорельеф рабочего участка поверхно- [c.26]

    Светосила и чувствительность фотоприемника влияют на абсолютную чувствительность анализа. При спектральном анализе выгорающих элементов существует оптимальное время регистрации когда время экспозиции недостаточно, линия может быть не обнаружена, увеличение же времени сверх оптимального приведет к необоснованному увеличению 1ф. [c.26]

    При работе с вращающимся электродом при правильном выборе условий анализа благодаря непрерывному и равномерному поступлению свежих порций пробы интенсивность спектральных линий элементов сохраняется постоянной длительное время. Это. позволяет выбирать оптимальную длительность экспозиции. Сразу после включения дуги, когда электрод еще холодный, в зону разряда попадает жидкая проба. При этом жидкость разбрызгивается, а разряд носит коптящий характер. В результате этого аналитический сигнал резко ослаблен. По мере нагрева электрода я пробы эти отрицательные явления прекращаются. Поэтому регистрацию спектров нужно начинать лишь после предварительного обжига, длительность которого зависит от тока дуги, скорости вращения электрода, свойств анализируемого образца и определяется экспериментально. При длительности обжига 20 с интенсивность аналитического сигнала увеличивается в 2—3 раза (рис. 6). [c.20]


    Установлено [184, 185 и др.], что при наличии большого количества водорода D плазме разряда подавляются линии большинства элементов. С введением жидкой пробы в зону разряда этот фактор также сказывается на чувствительности анализа, так как в нефтепродуктах больше половины атомов обычно принадлежит водороду. Если сжигается сухой остаток, то исключается неблагоприятное действие водорода. Влияние водорода на интенсивность спектральных линий подробно рассмотрено в гл. 6. При работе с вращающимся электродом благодаря непрерывному и равномерному поступлению свежих порций пробы абсолютная и относительная интенсивности линий элементов в спектре сохраняются постоянными длительное время. Поэтому для регистрации спектра можно выбрать оптимальную продолжительность экспозиции. Перечисленные факторы способствуют повышению чувствительности и воспроизводимости анализа. [c.32]

    Величина предела обнаружения линии зависит не только от е, но и от способа регистрации. В работе [748] показано, что оптимальным способом регистрации слабой спектральной линии во время экспозиции в присутствии значительного фона является так называемый корреляционный, т. е. согласованный прием, обеспечивающий достижение наименьших пределов обнаружения. Сущность этого способа регистрации состоит в том, что пропускаемая в каждый момент времени на приемник доля всего входного сигнала (линия -Ь фон) зависит от отношения интенсивности линии и фона во входном сигнале (т. е. в источнике света) в данный момент времени. Чем больше отношение 1я/1ф в источнике, тем большая доля входного сигнала регистрируется приемником и, наоборот в частности, в те моменты времени, когда излучение аналитической линии отсутствует, входной сигнал (состоящий уже только из фона) совсем не регистрируется приемником. Если во время экспозиции отношение /л//ф в источнике остается постоянным, то корреляционный прием сводится просто к непрерывному суммированию всего входного сигнала в течение всего времени экспозиции. Такой способ регистрации называется интегральным приемом. Он осуществляется при обычной фотографической регистрации спектра, а также при использовании метода накопления в случае фотоэлектрической регистрации. [c.43]

    Установлено [748], что даже при нарушении корреляции излучения линии и фона, вызываемом флуктуациями условий возбуждения в источнике света (например, в дуге постоянного тока), интегральный прием позволяет достигнуть величины предела обнаружения, близкой к минимальному теоретически возможному пределу обнаружения слабой спектральной линии на интенсивном фоне. Непрерывное интегрирование всего входного сигнала является, по-видимому, практически оптимальным и в том весьма распространенном случае, когда интенсивность аналитической линии во время экспозиции уменьшается, спадая до нуля ( полное Выгорание определяемого элемента в источнике света). При этом регистрировать сигнал рекомендуется в течение такого времени, за которое интенсивность излучения линии уменьшается не более чем в 3—4 раза [240], так как при дальнейшем интегрировании отношение сигнал/фон на регистрограммах будет резко ухудшаться. [c.43]

    Для аналитических задач второго типа E = кЕф) 5ф, опт = = 0,4—0,6, также несколько колеблясь для разных фотопластинок. Поскольку в этом случае максимум отношения сигнал/шум гораздо шире, чем в первом, то практически допустимы довольно значительные колебания в величине 5ф (для некоторых пластинок в пределах 0,3—0,7 —см., например, рис. 12). Учитывая, что в рассматриваемом случае экспозицию и время экспозиции можно в принципе изменять в широких пределах (так как аналитическая линия все время присутствует), здесь с успехом можно применять фотоэмульсии разной светочувствительности, но характеризующиеся наибольшей контрастностью у и наименьшей зернистостью в области оптимального почернения фона. К таким [c.51]

    Что касается третьего, промежуточного типа аналитических задач, то здесь трудно дать однозначные рекомендации относительно оптимального выбора фотоматериалов и условий регистрации. По-видимому, в этом случае 5ф. опт == 0,2 -г- 0,4. Если время экспозиции не очень мало ( 1 мин и более) или при малом времени экспозиции (10—30 сек) велика яркость излучения фона, то можно с успехом пользоваться мелкозернистыми фотоэмульсиями с невысокой светочувствительностью, но с большим значением У- Если же и яркость излучения фона и время экспозиции малы, то следует применять более светочувствительные фотоматериалы, по возможности, с большей контрастностью и меньшим размером зерна. [c.52]

    Анализ ведут при следующих выбранных оптимальных условиях рабочее давление гелия — 30 мм рт. ст., сила тока в первичной обмотке трансформатора — 4,2 а, время экспозиции — 8 мин., длина полости катода—18 мм, диаметр полости катода —4 мм, щель спектрографа---15 мк. [c.207]

    Для случая полного испарения элемента из анода угольной дуги постоянного тока на основании выражений (72) и (73) вычислены относительные интенсивности 232 сильнейших линий (главным образом, атомных) 53 элементов при 5000, 5600 и 6200° К и электронном давлении Ре = ат [983]. Расчет произведен для неизменных Г, Пе, у и г 7 во время экспозиции и случая полной диссоциации молекул определяемых элементов. Эти данные могут быть полезными для выбора аналитических линий и оптимальных условий определения следов элементов в стабилизированной дуге постоянного тока.,  [c.117]


    Оптимальное время предварительного обыскривания устанавливают экспериментально следующим образом. Прежде всего при соверщенно идентичных экспериментальных условиях в течение процесса обыскривания фотографируют последовательно не менее 10—15 спектров (одна серия). Каждую серию спектров получают на свежеприготовленной поверхности образца. Время экспозиции по возможности должно изменяться в пределах 10—60 с. После обработки и фотометрирования спектров далее применяют один из двух возможных способов дальнейшей обработки результатов измерений. Согласно более простому, но менее точному методу, [c.202]

    Период возбуждения, т. е. экспозиция, необходимая для записи аналитических спектров, также должен приниматься во внимание, поскольку оптимальная воспроизводимость результатов анализа зависит не только от времени предварительного обыскривания, но и от продолжительности экспозиции. При искровом возбуждении воспроизводимость обычно несколько улучшается, если увеличить время экспозиции. [c.203]

    Отношение интенсивностей между характеристическим и непрерывным излучением зависит от рабочего напряжения на рентгеновской трубке. Наиболее благоприятное отношение для любых материалов мишени и серии линий получается при напряжении, примерно в 4 раза превышающем потенциал возбуждения. Этот оптимальный потенциал, однако, не является критическим. Обычно на трубку подается максимальный при данном рабочем напряжении ток, величина которого зависит от длительности эксплуатации трубки и необходимости сводить время экспозиции до минимума. [c.246]

    В спектральном анализе растворов вдуванием их в искровой разряд черев канал электрода уменьшается и часто исключается возможность влияния валового состава пробы на возбуждение спектров элементов. Это можно объяснить тем, что при введении аэрозоля в разряд создается небольшая оптимальная плотность атомов элементов в источнике света. Анализируемый раствор образца вводится в искровой разряд при дополнительном разбавлении потоком распыляющего газа в весьма малой и строго контролируемой концентрации, составляющей 2—0,1 мг мин в пересчете на твердое вещество (пробу). Эта незначительная концентрация вещества не определяет условий испарения и возбуждения элементов (см. табл. 1). К этому следует добавить, что газовый состав в искровом разряде остается постоянным и профиль угольных электродов практически не изменяется за время экспозиции и регистрации спектра. [c.34]

    Фракционная дистилляция. Использование различной летучести соединений для повышения чувствительности анализа применяется довольно давно. При анализах непроводящих образцов, помещенных в канал электрода угольной дуги, можно отчетливо наблюдать последовательное появление линий, принадлежащих элементам, входящим в соединения различной летучести. Особенно хорошо это иллюстрируют фотографии спектров, сделанные на движущейся пластинке (рис. 162). Очевидно, что чувствительность анализов может быть заметно повышена, если для определения каждого элемента или группы элементов близкой летучести выбрать соответствующий интервал времени для экспозиции. Предварительные исследования с помощью перемещающейся пластинки помогают легко установить оптимальные времена начала и конца экспозиции. [c.214]

    Согласно интерференционной картине, за фазовой пластинкой (фиг. 23, б) теоретически при соответствующей экспозиции можно получить интерференционный минимум любой четкости. Почернение фотопленки приблизительно пропорционально логарифму энергии экспозиции, равной произведению освещенности на время экспозиции. Влияние постепенного увеличения экспозиции можно проследить по фиг. 23, б. Для единичной амплитуды световая энергия точно равна порогу чувствительности нри определенном времени экспозиции. В этом случае на фотографии получаются симметричные максимумы (амплитуды больше 1) и минимумы, причем па линии раздела волнового фронта образуется широкий минимум. При десятикратном увеличении экспозиции порогу чувствительности будет соответствовать амплитуда, равная 0,1. В этом случае измерительным лучам соответствует очень узкая незасве-ченная полоса на засвеченном фоне. Дальнейшее снижение этого минимума огранпчеио размером зерна фотопленки и особенно рассеянным светом, энергия которого при некотором значении экспозиции достигает порога чувствительности пленки, после чего минимум засвечивается. По данным Вольтера, оптимальное время экспозиции составляет половину времени, при котором энергия рассеянного света достигает порога чувствительности. Однако в экспериментах по исследованию шлиры такие большие экспозиции нежелательны по другим причинам. [c.58]

    Вследствие значительных отклонений от закона взаимозаместимости такое определение чувствительности, вообще говоря, порочно. Изучение изоопак показывает, что эмульсия, имеющая большую чувствительность при коротких выдержках, может быть малочувствительной при больших и наоборот. Для выпускаемых промышленностью фотослоев оптимальное время экспозиции обычно около 0,01 сек. В практике спектроскопических исследований приходится пользоваться временем экспозиции от 10 сек (импульсные лазеры, скоростная спектроскопия) до многих часов (спектры комбинационного рассеяния и фотолюминесценции). Поэтому наиболее чувствительные пластинки для конкретной задачи приходится подбирать эмпирически, сравнивая чувствительности разных марок эмульсий в данных экспериментальных условиях. Обычно с уменьшением размеров зерен эмульсии падает и ее чувствительность. [c.295]

    Практически никогда нельзя рассчитать оптимальное время экспозиции, так как необходимые для этого данные обычно отсутствуют, Его приходится подбирать опытным путем так, чтобы условия обнаружения линии были наивыгоднейшнми, [c.54]

    В обоих случаях оптимальные времена экспозиции близки и соответствуют уменьшению интенсивности аналитическо линии в 3—4 раза 1 о сравнешлю с начально . [c.145]

    Несколько сложнее обстоит дело с выбором излучения для съемки препаратов элементов от йода до диспрозия, так как три полосы поглощения L -серии охватывают значительный интервал длин волн (0,3-0,35 А). При обсуждении этого вопроса следует иметь ввиду, что выгоднее использовать излучение, возбуждающее только одну из полос, необходимо также помнить о зависимости коэффициента поглощения от Я Поэтому при съемке рентгенограмм препаратов Ва, например, оптимальным является излучение Си Ко( полосам поглощения иг, Ь)7, и соответствуют длины волк много меньшие, чем у этого излучения. Можно использовать то же иалучение и при съемке препаратов 1>у и ТЬ (возбуждается только линия ). Во всех трех случаях интенсивность вторичного излучения и повышение фона невелики. При большой разнице в длинах волн первичного и вторичного излучения используется тот же закон пропорциональности коэффициента поглощения Л и поверх рентгеновской пленки следует помёс-тить слой алюминиевой фольги или засвеченной рентгеновской пленки. Так, при съемке препаратов хрома на Си КЫ. -излучении возникает вторичное излучение Сг/С, хотя интенсивность его не очень велика, но уровень фона повышается. Коэффициенты поглощения Z xK и СгК фольгой или засвеченной пленкой различаются в 3,5 раза, поэтому поверх экспонируемой пленки накладывают засвеченную. Время экспозиции возрастает в полтора-два раза, но качество рентгенограммы улучшается. [c.12]

    Метод измерения илирины линий наиболее надежен по сравнению с другими. Он заключается в определении точности воспроизведения маски и визуальной оценки изображения. Обычное измерение ширины линий состоит из серии 6 экспозиций и сравнения изображения на фоторезисте с изображением на маске. Если с помощью визуальной оценки поверхности слоя резиста достигнуто оптимальное время экспонирования, для дальнейшего его уточнения сравнивают ширину линий рельефа и шаблона. Допустимые погрешности ухода ширины линий зависят от размеров изображаемых структур и составляют для макролитографии (полиграфии) 3 мкм, а для микроэлектроники примерно 0,1 мкм. Модификация этого приема состоит в экспонировании через клин оптических плотностей и измерении ширины линий для разных клиньев. Определяют уход размеров в зависимости от времени экспонирования и выбирают количество экхнонирующего света, при котором уход размеров минимален (рис. 1,26). [c.45]

    Суш ественное снижение предела обнаружения мышьяка достигается с помощью термохимических реакций. Наиболее полная характеристика термохимических процессов в электродах угольной дуги приведена в работах [435, 1045]. К основным термохимическим реакциям в угольных электродах дуги, применяемым при определении мышьяка в разнообразных объектах, относятся реакции сульфидирования (добавление серы [134], сульфидов [45] или восстанавливающ,ихся до сульфидов сульфатов) и фторирования (добавки фторидов N3, А1, Си, РЬ и др.) [1046]. С помощью сульфидирования при анализе двуокиси титана предел обнаружения мышьяка удалось снизить до 1-10 % [256]. При определении мышьяка в меди применение СиГа в качестве фторирующего агента при использовании дуги постоянного тока (14а), оптимального времени экспозиции (10 сек.) и дифракционного спектрографа позволило определить 5-10 % Аз [1161]. Низкий предел обнаружения мышьяка достигается путем применения метода глобульной дуги . Глобульная дуга в настоящее время получила широкое применение при анализе ряда металлов Сг, Мп, Ре, Со, N1, Си, Т1, Ag, 8п и др. В чистой меди этот метод позволяет определять до [c.94]

    Обычно измерение активности среза производят на счетчике Гейгера-Мюллера. Однако следует отметить, что оценка времени экспозиции по величине поверхностной активности может привести к передержкам в точках высокой активности и недодержкам в точках низкой активности. На практике обычно делают ряд препаратов из одного и того же образца, которые затем экспонируют различное время и после их проявления судят об оптимальном времени экспозиции. Надо всегда иметь в виду, что слишком большие экспозиции приводят к передержкам и сильно уменьшают разрешающую способность микроавтографа. Поэтому необходимо давать по возможности небольшие экспозиции. [c.206]

    Поскольку экспонирование производится отраженным све-, том, а общий световой поток, действующий на диазослой, значительно уменьшается, продолжительность экспозиции на рефлексных пленках относительно велика в зависимости от типа пленки она в 5—10 раз больше экспозиции материалов, копируемых на просвет. Оптимальная продолжительность экспозиции зависит от мощности осветительного устройства и контрастности оригинала. Поскольку плотность линий изображения зависит от количества света, прошедшего через слой в направлении от источника к оригиналу, очевидно, что она увеличивается с увеличением линиатуры (т. е. количества отверстий на сантиметр поверхности) экрана и, следовательно, с уменьшением диаметра каждого отверстия. По данным фирмы Ван-дер-Гринтен лучшими являются экраны с линиатурой от 125 до 500 на 1 см . Эксплуатация рефлексных материалов показала, что качество отпечатков в большой степени зависит от структуры экрана и однородности его характеристик по всей поверхности материала, но в то же время оказалось, что получение однородного по структуре экрана на гладкой поверхности светочувствительного слоя является сложной технической задачей. [c.238]

    Рандерат [322] установил, что чувствительность этого метода в основном зависит от пяти факторов 1) концентрации сцинтиллятора 2) природы растворителя, используемого при нанесении сцинтиллятора на хроматограмму 3) метода нанесения сцинтиллятора 4) температуры, при которой экспонировали пленку 5) сорта используемой пленки. Кроме того, на чувствительность оказывает влияние ряд дополнительных факторов [322, 323]. Оптимальная концентрация сцинтиллятора меняется для различных сцинтилляторов так, для радиоуглерода она больше, чем для трития [324]. Низкая температура во время экспозиции увеличивает чувствительность к радиоуглероду примерно вдвое, а при —78°С чувствительность к тритию возрастает примерно в 50—100 раз [325]. В последней работе обсуждаются причины такого усиления чувствительности. Оказалось, что при низких температурах бензол ведет себя как эффективный твердый сцинтиллятор. Более того, бензол очень удобно использовать в этой роли, так как его можно испарить [c.354]

    Спектры эталонов и образцов фотографировались по 4 раза в оптимальных условиях, полученных после математического планирования эксперимента. С целью сокращения поисковой стадии выбора оптимальных условий анализа был использован метод Бокса—Уилксона [2]. С помощью этого метода было выяснено влияние трех факторов расхода газа, состава газа, времени экспозиции на величину отношения интенсивности линии определяемого элемента к фону. При планировании эксперимента была выбрана матрица типа 2 . В результате математического планирования были взяты следующие условия анализа пятиокиси тантала сила тока 15 а, навеска пятиокиси тантала 40 мг. разбавление пробы углем 4 3 (навеска угля 30 мг), время экспозиции 110 сек, расход газа 12,5 л1мин, состав газа 70% аргона+30% кислорода. [c.22]

    Экспозиция. При проведении фотографического атом-но-абсорбционного анализа время экспозиции должно быть таким же, что и при проведении эмиссионного спектрографического анализа, то есть в общем случае, оно не должно превышать 30—60 сек. Исходя из этого, а также, учитывая целесообразность использования обычных спектральных фотопластинок, чувствительность которых, как известно, невысока, следует считать применение высокоинтенсивных спектральных ламп необходи.мым условием проведения атомно-абсорбционного спектрографического анализа. Современные достижения в развитии источников света и тенденции к повышению их яркости снимают вопрос об экспозиций с точки зрения выбора источника света и вопрос о выборе экспозиции сводится только к выбору оптимального промежутка времени,, в течение которого обеспечивалось бы достаточно плотное почернение резонансной линии. Время экспозиции не должно быть слишком мало с тем, чтобы не вносить ошибки в результаты анализа за счет неточности в его измерении. [c.59]

    Подготовьте донорные клетки для получения из них миниклеток. Нарастите 2X10 клеток до образования 50% монослоя и инкубируйте в течение ночи в ростовой среде, содержащей 0,05 мкг/мл колцемида. Это индуцирует образование мини-клеток [7]. Для каждой конкретной клеточной линии необходимо подобрать оптимальную концентрацию колцемида (от 0,02 до 0,10 мкг/мл) и время экспозиции (от 12 до 48 ч). Образование мини-клеток легко контролируется под фазово-контрастным микроскопом. В удачных экспериментах около 50% всех клеток образуют мини-клет-ки. Эта частота увеличивается после обработки цитохалазином В. [c.18]

    V4II. Рекомендуется экспонировать пробные предметные стекла в течение различного времени для выбора оптимального периода экспозиции. Оказались эффективными следующие времена экспозиции, которые можно выбирать в качестве отправной точки Н-тимидин — 6—7 дней, Н-уридин — 8—10 дней, Н-лейцин — 8—10 дней. [c.251]

    Очень важно правильно выбрать экспозицию. С увеличением ее длительности повышается интенсивность аналитической линии вначале быстро, затем все медленнее, а интенсивность фона продолжает расти по-прежнему. Поэтому разность почернений аналитической линии и фона после максимального значения снижается. Время наступления максимального сигнала очень сильно различается для разных элементов в зависимости от многих факторов. Наибольшее влияние на длительность оптимальной экспозиции оказывают физико-химические свойства пробы (в первую очередь ее летучесть), применяемый буфер, форма и размеры электродов, сила тока, а при дуге постоянного тока — полярность электродов, чувствительность и характер аналитических линий, интенсивность фона, свойства фотоэмульсии. Но при испарепии сложной пробы в конкретных условиях оптимальная экспозиция для разных элементов зависит главным образом от их летучести. [c.121]


Смотреть страницы где упоминается термин Оптимальное время экспозиции: [c.75]    [c.204]    [c.19]    [c.402]    [c.90]    [c.71]    [c.335]   
Эмиссионный спектральный анализ Том 2 (1982) -- [ c.204 ]




ПОИСК







© 2025 chem21.info Реклама на сайте