Материалы вакуумных систем

В соответствии с этим вакуумные установки для нанесения тонких пленок, несмотря на многообразие их назначения и конструктивного оформления, состоят из следующих основных элементов источника генерации потока частиц осаждаемого материала вакуумной системы, обеспечивающей требуемые условия для проведения технологического процесса транспорт-но-позиционирующих устройств, обеспечивающих ввод подложек в зону нанесения пленок и ориентирование обрабатываемых поверхностей относительно потока частиц наносимого материала. [c.12]

Образец помещен в цилиндр 3 из того же материала. Нагреватель одновременно служит термометром сопротивления. Образец подвешивается внутри сосуда 4, соединенного с вакуумной системой линией 5. Калориметр помещается в криостат, где создается стационарная температура опыта. [c.440]

В зависимости от того, на какой стадии производства пиротехнический материал попадает в отходы, для его обработки исполь зуются разные методы. Готовые бракованные патроны сжигают в металлических контейнерах в специально отведенных местах. Если непригодным оказывается часть сырья, ее помещают в масло и сжигают. Сухие отходы, образующиеся в процессе сборки патронов, собираются вакуумной системой в воду. Вакуумные сборники периодически опорожняются, а их содержимое обрабатывается каустиком, водой и водяным паром в системе отстойников. Отходы из отстойников вывозят в специальные резервуары, находящиеся на возвышенных местах, где они постепенно впитываются в почву. Все эти методы приводят к загрязнению окружающей среды и их дальнейшее применение нежелательно. [c.254]

В состав хлебных злаков и других растительных материалов, имеющих клеточную структуру, обычно входят органические вещества, которые разрушаются значительно легче, чем уголь, поэтому определение истинного содержания воды в таких случаях является трудной проблемой. Обычно разрушение растительного материала происходит необратимо и сопровождается выделением таких соединений, как оксиды углерода, метан, водород и вода [262 ] при этом не наблюдается определенная температура деструкции, так как химические реакции протекают в значительном температурном интервале и с различными скоростями. Нельсон и Хьюлетт [262 ] непосредственно взвешивали конденсируемую из вакуумной системы воду и строили график зависимости количества воды от температуры. Измерения производили после высушивания образцов в течение 3—4 ч при каждой заданной температуре. Результаты анализов некоторых природных продуктов приведены на рис. 3-5. [c.75]

Производительность высоконапорных систем пневмотранспорта (концентрация пыли до 200 кг/кг) колеблется в пределах 30—125 мУч. Такие системы наиболее эффективны при транспортировке пыли на 150—1000 м. Низконапорная система (концентрация твердых частиц до 5 кг/кг) эффективна при перемещении на 50—100 м. Применяют также вакуумные системы (производительностью 50 муч), которые позволяют собирать материал из большого числа точек и подавать его по общему трубопроводу в сборный бункер. [c.239]

В то время, пока этот воздух проходит через прибор, хладоагент удаляют из холодной ловушки, и она нагревается до комнатной температуры. Поток воздуха предотвращает обратную диффузию содержимого холодной ловушки в масс-спектрометре. Через 15 мин холодную ловушку снова заполняют охладительной смесью, прекращают подачу воздуха и начинают откачивать диффузионным насосом. Рабочее давление устанавливается в течение 30 лит. Можно предполагать, что подобная обработка способствует также удалению материала, адсорбированного на стенках вакуумной системы, и помогает удалять растворенные летучие материалы из нагретого масла в насосе. [c.81]

Несмотря на невозможность полного описания высоковакуумных систем, применяемых в различных масс-спектроскопах, этот вопрос не может быть совершенно обойден в настоящей монографии. Необходимо подчеркнуть, что успешная работа масс-спектрометра в известной степени зависит от правильного понимания факторов, связанных с получением высокого вакуума и с ограничениями, налагаемыми характеристикой оборудования, которые не позволяют получить желаемую степень разряжения. Следует сослаться на ряд ценных книг по высоковакуумной технике [1317, 1677, 2197], где рассмотрены типы форвакуумных и диффузионных насосов, с помощью которых достигается предельное давление, приборы измерения давления и принципиальное устройство охлаждаемых ловушек и вакуумных линий. Выбор материала для построения вакуумной системы связан с областью применения данного прибора и с обеспечением возможности быстрого ремонта и модификации в процессе работы. Сложность системы, используемой для введения образца, зависит от разнообразия проблем, изучаемых на этом приборе. Например, проблемы, связанные с анализом твердых материалов при использовании источников с поверхностной ионизацией, требуют совершенно иной аппаратуры по сравнению с анализом очень малых количеств газовых образцов. Ввиду того что привести детальное рассмотрение всей области применения невозможно, следует сконцентрировать внимание на требованиях, предъявляемых к системам для исследования образцов промышленности органической химии. [c.144]

Газы, выделяющиеся со стеклянных стенок вакуумной системы, частично связаны с материалом, адсорбированным на поверхности, и с соединениями, растворенными в объеме материала. При комнатной температуре газ, растворенный в слоях, непосредственно примыкающих к поверхностному, и газ, адсорбированный на поверхности, откачиваются с большой скоростью если откачивание ведется несколько дней, скорость выделения газа падает и становится незначительной. Газ, растворенный в объеме стекла, может достичь поверхности лишь благодаря диффузии и будет выделяться с постоянной скоростью в течение очень большого промежутка времени. Нагревание стеклянных стенок ускоряет процессы десорбции и диффузии к поверхности, но из глубоко расположенных слоев стекла растворенный газ не выделяется даже при нагревании до 400° в течение нескольких часов. Повышенная скорость диффузии при более высокой температуре может увеличить переносимое количество адсорбированного газа к поверхностным слоям по сравнению с нагреванием при более низкой температуре. Нагревание снижает адсорбцию паров образца на стенках и уменьшает эффекты памяти в масс-спектрометре. В нашей практике работы на приборе с простой фокусировкой мы придерживаемся следующих температурных режимов в течение дня прибор работает при комнатной температуре (за исключением линии из системы введения образца в ионизационную камеру), что уменьшает выделение адсорбированного газа, а в течение ночи прибор нагревается до 200° для удаления образцов, адсорбировавшихся за целый день. Остаточное давление менее 10 мм рт. ст. может поддерживаться в течение длительного времени. Газы, растворенные в стекле и создающие остаточный спектр, представлены в основном водой, двуокисью углерода и кислородом. Диффузия гелия сквозь стекло также ограничивает величину предельного вакуума, достигаемого на стеклянных приборах. [c.145]

Наиболее чувствительный индикаторный газ для применения в масс-спектрометре— гелий, однако очень часто применяют также водород [1679], хотя его использование ограничено фоновыми пиками в приборе. Во многих общих работах указано, что достаточная чувствительность обеспечивалась применением таких газов, как аргон. В качестве индикаторного материала используют и двуокись углерода (несмотря на то, что в спектре фона обычно присутствует значительный пик ионов с массой 44). Атмосфера двуокиси углерода создается внесением измельченной твердой углекислоты под колпак. Можно легко смонтировать небольшое портативное индикаторное устройство, присоединив узкий стеклянный отвод через резиновую трубку к пробирке с индикатором. Остаточный газ в вакуумной системе может находиться в динамическом равновесии, обусловленном натеканием и откачкой. В этом случае допускается, что откачка не происходит селективно, а основные компоненты в спектре фона соответствуют азоту и кислороду. Плохой вакуум в системе может быть обусловлен десорбцией веществ со стенок, диффузией газа из объема вакуумной системы или обратной диффузией насосов. В первых двух случаях состав газа вряд ли близок к составу воздуха, и пики, отвечаю- [c.494]

Кажущиеся течи опреде.пяются как фиктивный источник повышен.ия давления в вакуумной системе, вызываемого в действительности медленным выделением сорбированных тазов. В настоящее время считается, что нижний предел газовыделения с 1 см лучшего материала после длительной откачки составляет не менее I 10 л мм рт. ст. сек. При расчете вакуумных систем обычно принимают следующие величины скорости газовыделения с поверхности различных материалов в л-мм рт. ст. сек см для керамики — 10 , для эластомеров — 10 . [c.10]

Если давление газа увеличивать выше 0,1 мм Hg, то можно заметить, что отрицательные зоны тлеющего разряда начинают стягиваться к катоду. Действительно, до того как стали применяться вакуумметры с непрерывным отсчетом, широко применялась методика определения вакуума в вакуумных системах по ширине темного катодного пространства. При давлениях выше 100 мм рт. ст. ясно видно только фарадеево темное пространство. Положительный столб всегда заполняет остальную часть разрядного промежутка, но при повышении давления стягивается в радиальном направлении. В этом случае он ничем не отличается от положительного столба дугового разряда при одинаковых значениях тока, за исключением того, что в дуговом разряде на концах столба газ может содержать некоторое количество паров материала катода и анода. [c.226]

Рис. 48. Зависимость изменения давления в вакуумной системе от времени выдержки клеевого соединения из материала ПФ-41 при 400°.

Кроме того, стойкость материала ПФ-41 в вакууме подтверждается данными рис. 48, где показано изменение давления в вакуумной системе при откачке образца, склеенного материалом [c.108]

ПФ-41, от времени выдержки при 400°. Приведенные данные показывают, что с увеличением времени выдержки при 400° давление в вакуумной системе экспоненциально падает с 4.10 до 5 10 мм рт. ст. Это свидетельствует о малом газовыделении клеевого шва из материала ПФ-41. [c.109]

Органосиликатный материал ПФ-41 был использован для склейки нар молибденовое стекло—молибденовое стекло, молибденовое стекло—ковар. Конструкция образца изображена на рис. 72. При этом применялась следуюш ая технология склеивания на шлифованные и обезжиренные торцевые поверхности деталей наносили слой материала ПФ-41, после воздушной сушки в течение 25—30 мин. детали соединяли, затем образец припаивали к стеклянной вакуумной системе. Образец откачивали до давления 1 -10 —5-10 мм рт. ст. и прогревали до 270° при постоянной откачке со скоростью подъема температуры 1—1.5° С/мин. При этом обш,ее обезгаживание образца совмещалось с формированием клеевого соединения. [c.142]

Основным компонентом газовыделения в пусковой период являются пары воды, которые довольно медленно выделяются с различных элементов самого насоса и вакуумной системы. По мере увеличения срока службы в результате образования губчатой структуры осадков катодного материала на анодах насос становится все более чувствительным к водяным парам, вследствие чего воздействие на электроды насоса атмосферного воздуха приводит к увеличению пускового периода. [c.112]

Для наружного прогрева конструкционных элементов высоковакуумных систем сложной конфигурации (вакуумных камер, ловушек, запорной арматуры, коленчатых вакуум-проводов и т. п.) в процессе их обезгаживания применяют гибкие ленточные нагреватели, которые с успехом заменяют обычные печи нагрева, легко снимаются и допускают свободный доступ к узлам вакуумной системы. В качестве изоляционного материала в гибких нагревателях применяются устойчивые к высоким температурам кремнеземные материалы, которые получают методом кислотной обработки материалов из стекол определенного состава. Максимальная температура применения кремнеземного волокна при длительной эксплуатации достигает 1 000° С. [c.213]

Верхний предел измерения мембранных манометров ограничивается нелинейностью их характеристик и пределом упругости материала мембраны. Одной из причин нелинейности характеристики является непараллельность мембраны и электрода манометра. Нижний предел измерения определяется значением чувствительности мембранного манометра. Снижение чувствительности манометра вызывается механическим гистерезисом упругих свойств материала мембраны. Кроме этого, снижение чувствительности объясняется шумовым эффектом, заключающимся в возникновении фонового тока в измерительной цепи из-за непрерывных или периодических колебаний упругой перегородки под действием, например, работающего вращательного насоса или резкого изменения давления в вакуумной системе. Величина фонового тока, обусловленная шумовым эффектом и измеренная в манометре с радиусом мембраны Я = 3,5см, зазором о = 0,01 сж и толщиной гофрированной мембраны к = 0,0025 см, соответствовала давлению 1 -10 мм рт. ст. [c.44]

Уплотнение скользящих и вращающихся вводов. Одним из важнейших вопросов вакуумной техники является надежность уплотнений движущихся частей, вводимых в вакуумную систему. Во многих работах существует возможность производить необходимое перемещение внутри вакуумной камеры при помощи магнитов. Для этого постоянный магнит или электромагнит помещается снаружи, но по возмон ности ближе к ферромагнитной детали, которая должна перемещаться внутри камеры. Движение внутри камеры в этом случае осуществляется передвижением постоянного магнита или пропусканием тока через электромагнит. Ясно, что часть вакуумной установки, в том месте, где производится такое перемещение, должна изготавливаться из немагнитного материала. Этот метод особенно удобен тогда, когда заданное перемещение точно фиксировано внутри вакуумной системы. Неудобство способа заключается в том, что он пе обеспечивает тонкую регулировку и необходимую гибкость в работе. Устройства такого вида широко используются в стеклянных вакуумных установках для вскрытия баллонов и управления затворами. Подобные устройства могут использоваться и в металлических системах, сделанных из немагнитного металла. [c.174]

Когда в состав вакуумной системы включены стеклянные части, возможно появление течи в местах соединения металла со стеклом (замазки и т. д. ) и в местах спайки стекла со стеклом (из-за трещин в стекле и кранах). В спаях металла со стеклом устранение течи зависит от характера спая. В случае, когда течь обнаружена в соединении, уплотненном замазкой, необходимо либо переделать соединение, либо заменить его другим. В других случаях для устранения течи можно использовать такой уплотняющий материал, как глипталь. Небольшие течи в стеклянных ча- [c.244]

Во избежание столкновения с проблемой несовместимости и для правильной оценки необходимости использования заполнителя, важно при подборе пар для сварного соединения точно идентифицировать их материалы. Кажущееся по внешнему виду сходство многих металлов может привести к нежелательным последствиям. Например, в механических мастерских часто можно найти нержавеющие стали марок 303 и 303 8е, однако их нельзя использовать для изготовления вакуумных элементов из-за содержащихся в них серы и селена. По внешнему виду на нержавеющую сталь похожи также и детали из хрома или никелированной латуни. Латуни не свариваются с помощью Ш-электродов сомнительна и целесообразность введения деталей из этого материала внутрь вакуумной системы из-за высокого давления паров цинка. [c.252]

Соединения с металлическими прокладками. Металлические прокладки используются для уплотнения в вакуумных системах с давлением ниже 10 мм рт. ст., которые требуют обезгаживания при температурах около 400° С. Наиболее часто в качестве материала для прокладок используется бескислородная медь, реже — алюминий или золото. Иногда применяют индиевые прокладки, но низкая температура плавления индия (156°С) позволяет проводить лишь слабое обезгаживание. Обычно металлические прокладки по сравнению с эластомерами менее проницаемы для газов, однако требуют больших уплотняющих усилий и большей точности при изготовлении деталей соединения. Металлические прокладки редко используются повторно, что обусловлено относительной дороговизной соединений с такими прокладками. Эквивалентом колец из эластомеров яв- [c.275]

Процесс очистки подложки требует, чтобы были разорваны связи как между молекулами самой примеси, так и между молекулами этой примеси и подложки. Это может быть достигнуто как химическими средствами, например, очисткой в растворителе, так и приложением достаточной энергии для испарения примеси, например, нагревом или ионной бомбардировкой. Как правило, желательно ограничить процесс очистки удалением только слоя загрязнения, однако часто оказывается приемлемым также и слабое подтравливание материала самой подложки, что обеспечивает лучшее качество процесса очистки. Некоторые методы очистки требуют обработки подложки или использования растворителей и поэтому должны применяться вне вакуумной системы. Осуществление методов физической очистки обычно сопровождается установкой оборудования для нагрева подложки или бомбардировки ионами в напылительной системе. [c.538]

Вакуумные, или всасывающие, в которых за счет создания вакуума в конце тракта материал засасывается в линию вместе с воздухом. Такие системы применяют для подачи материалов из нескольких точек питания в одну точку загрузки. При длине тракта транспортирования, равном 300 м, и перепаде уровней до 10 м производительность вакуумных линий составляет в зависимости от свойств материала 50—7500 кг/ч. Следует отметить также, что вакуумные системы не могут работать на инертном газе. [c.161]

Материал, примененный для вакуумной системы, должен легко освобождаться от газов. Как только над поверхностью материала создается вакуум, из него начнут выделяться адсорбированные и растворенные газы. Этот процесс может быть длительным. При прогреве и непрерывной откачке газы выделяются быстрее. [c.140]

Схема простейшего диодного магнитного электро-разрядного насоса показана на рис. 7.41. Анод 1 насоса образован из отдельных разрядных ячеек, с открытых концов которых расположены общие катоды 2 из титана. Эта электродная система помещается в магнитное, поле, перпендикулярное плоскости катодов. При подаче на электроды разности потенциалов в несколько киловольт в ячейках возникает газовый разряд, который благодаря магнитному полю поддерживается в широком диапазоне давлений. Положительные ионы газов, образующиеся в разряде при соударении электронов с молекулами, ускоряются электрическим полем в направлении катодов и внедряются в них, вызывая распыление материала катодов. Распыленный с катодов титан осаждается главным образом на аноде. Активные газы (азот, кислород), присутствующие в вакуумной системе, 148 [c.148]

При высоких давлениях в вакуумной системе наблюдается катодное распыление материала под влиянием бомбардировки катода интенсивным хорошо сфокусированным пучком ионов. Это приводит к запылению электродов и изоляторов преобразователя и как результат— к возникновению тока утечки между электродами, что также искажает результаты измерения. [c.209]

Хотя в качестве ионного источника можно использовать дугу (разд. 8.1), промышленно, выпускают только искровой источник [8.5-1]. Масс-спектрометры с искровым источником (ИИМС) появились в 1960-х гг. Используют искру высокого напряжения (разд. 8.1). Была использована искра постоянного тока, но в производимых приборах применяют импульсное поле с частотой 1 МГц, чтобы получить цуг коротких импульсов через межэлектродный промежуток. Поскольку длительность импульса (20-200 мкс) и частоту повторения (1Гц -10 кГц) можно изменять довольно широко, можно оптимизировать условия ионизации в соответствии с типом пробы. В противоположность искровым источникам для атомно-эмиссионной спектрометрии, которые работают обычно при атмосферном давлении, искровой источник для МС функционирует в условиях вакуума. Электроды расположены в искровом кожухе, который также соединен с высоким напряжением. Электрическое соединение не дает большинству ионов сталкиваться со стенками вакуумной системы, что могло бы привести к распьшению материала кожуха. [c.136]

Испытания при помощи трансформатора Тесла. Внутри вакуумной системы создается разрежение с помощью вращательного масляного насоса. Затем незаземленным концом провода вторичной обмотки трансформатора Тесла прикасаются к поверхности вакуумной системы снаружи. В газе, находящемся внутри системы, возбуждаетая тлеющий электрический разряд. Свечение происходит при давлениях от нескольких Д1иллиметр0в до 5-10 мм рт. ст. Наблюдение за разрядом может осуществляться только при наличии смотрового стекла. Кроме того, система должна быть изготовлена из электроизоляционного материала таким образом, способ применяется в основном для стеклянных систем. [c.537]

Определение течи при помощи разрядной трубки. Метод разрядной трубки применим для вакуумных систем, изготовленных из любого материала. Если включить разрядную трубку в высоковакуумную систему между диффузионным и механическим форвакуумным насосом, а затем обдувать систему пробным газом — углэкисльш газом, метаном, парами спирта, ацетона, бензина, эфира, то при попадании газа через течь внутрь вакуумной системы цвет разряда будет изменяться, Наиболее чувствительным индикатором является углекислый газ. При 0ТС3/ТСТВИИ легколетучих углеводородов можно опрыскивать систему водой, при попадании ларов воды в разрядную трубку свечение становится голубым. Углекислый газ дает также голубое свечение, водород— красное. Чувствительность такого метода можно повысить применением спектроскопа для наблюдения за разрядом. Если в системе отсутствует высоковакуумный диффузионный насос, то разрядную трубку подключают к трубопроводу, который идет от системы к механическому насосу. Область давлений, наиболее пригодная для отыскания течей таким методом 0,1—1 мм рт. ст. Применяя водород в присутствии электрической искры, не следует забывать о возможности взрыва. Гелий обладает такой же проникающей способностью, как и водород, но он менее опасеЕ в отношении взрыва. [c.538]

Рассеянные электрические поля, образованные поверхностными потенциалами [1827], вследствие загрязнения стенок вакуумной системы изменяются в зависимости от давления газа, материала пластин и интенсивности ионного пучка. Все это особенно важно в приборах, в которых используются ионы низких энергий, и, конечно, влияние этих факторов должно быть по возможности уменьшено. Применение позолоченных пластин, подвергающихся очистке через определенные промежутки времени, уменьшает эффект нелинейности в такой степени, что требуе мая корректировка в диапазоне масс 200 а.е.м. составляет не более 0,005 а. е. м. Для большей точности измерения масс используется хронотрон, в которомточностьсоставляет10 а. е. м. Он не может [c.50]

Выбор смазки определяется температурной областью работы уплотнения и допустимым давлением паров в вакуумной системе. Характеристика некоторых вакуумных смазок приведена в табл. 3-10. Как правило, данные по упругости паров относятся к обезгаженному состоянию. Таким образом, если у свежей смазки давление паров соответствует 10-5 .рд после нескольких часов откачки при температуре, превыщающей температуру каплеобразования, оно может упасть до 10 мм рт. ст. Чтобы смазка была чистой, желательно хранить ее в тюбиках. Нанесение смазки на шлифованную поверхность стекла производится с помощью палочки или шпателя из мягкого материала, например дерева. Стеклянные щтабики, а также другие твердые или острые предметы, которыми можно поцарапать шлиф, здесь недопустимы, поскольку царапины способствуют растрескиванию стекла. Лучше всего выдавливать смазку из тюбика непосредственно на шлиф при этом исключается возможность появления рисок и уменьшается попадание пыли как в слой смазки на стекле, так и в ее остаток в тюбике. [c.198]

Очистка прокладок. Для достижения хорошего уплотнения поверхность. прокладки. должна быть свободна от пыли или любых частиц, которые могли бы помешать ее непосредственному контакту с фланцами или другими уплотняемыми деталями. Известно также, что метод очистки влияет на газовыделение материала прокладки Л. 111]. Например, резиновые прокладки диаметром контура 28,6 мм про-.мывали в ацетоне, спирте или трихлорэтилене, высушивали на воздухе при комнатной температуре и при помощи масс-сиек-трометра анализировали состав остаточного газа в вакуумной системе с уплотнениями на этих прокладках. По достижении давлений 10-5—10 мж рт. ст. среда остаточных газов содержала углеводороды после промывки прокладок в трихлорэтилене обнаруживались значительные пики масс, соответствующие хлористому водороду. Эти загрязнения можно свести к минимуму путем предварительного прогрева прокладки на воздухе при температуре 100 °С в течение нескольких часов. Если использовать готовые (покупные) прокладки, не подвергая их (после распаковки) какой-либо очистке и покрывая при хранении слоем апиезона, то загрязнения не наблюдается. [c.247]

Уплотнения иа замазках илн лаковых клеящих покрытиях могут использоваться также при креплении окон из пластмассы или слюды в вакуумных системах, смонтированных для работы в течение короткого промежутка времени. Окна из полиэтилена или других пласт-.массовых пленок могут вакуумно-плотно прикрепляться к рам кам с по.мощью тонкого слоя вакуумной с.лтзки. Методика изготовле1гия вакуумноплотного соединения пленки из материала майлар к латунной рамке заключается в следующем. Поверхность рамки вначале очищается с помощью спирта или эфира, а затем покрывается слоем полиэфирного клея, которо.му дают подсохнуть в течение 8—10 мин, затем и а рамку наклеивается пленка нз май-лара и щрижимается к ней. В заключение собранный узел подвергается термообработке в течение 5— 8 мин при температуре 160°С. При этом необходимо следить, чтобы повышение температуры в процессе 28 [c.435]

Патый и Шюрер [1490] измерили давление паров различных фракций полибутилметакрилата при разных температурах и нашли, что этот материал годен для применения в вакуумных системах с давлением выше 1 10" мм рт. ст. при температурах до 50°. [c.502]

На рис. 68 приведена конструкция склеенного образца [144]. Склеиваемые поверхности шлифовались, обезжиривались, затем на них наносился слой органосиликатного материала В-23. После сушки на воздухе в течение 24 час. склеиваемые детали соединялись и образец присоединялся к течеискателю по схеме, приведенной на рис. 69 [144. После предварительной откачки механическим насосом образец соединялся с вакуумной системой течеискателя таким образом, что весь поток атмосферного гелия, диффун-дируюш его через клеевой шов, попадал в масс-снектрометрическую камеру ПТИ-7. В процессе откачки образец нагревался до 300° со скоростью подъема температуры 1.5° С/мин. [c.142]

В стеклянных вакуумных системах обычно практикуются впаи металла в стекло. Не слишком толстая проволока определенных металлов может непосредственно впаиваться в стекло. Платина очень хорошо внаивается в мягкие (легкоплавкие) стекла, поскольку она имеет близкий к ним коэффициент расширения. Для этой цели свинцовое стекло несколько лучше силикатного стекла. Вольфрамовая проволока диаметром около 1 мм хорошо впаивается в такие стекла, как нонекс Л 772 или желтое урановое стекло, если предварительно соответствующим образом очистить поверхность металла, а после впайки произвести тщательный отжиг стекла. Подобные операции проводятся при впае молибдена, причем для этого употребляется такое стекло, как корнинг № 7501). При помощи соответствующих переходных стекол эти впаи припаиваются непосредственно к вакуумной системе. В производстве радиоламп широко используется еще один вид впаев. Это штампованные впаи, в которых применяется платинит. Платинит представляет собой проволочный материал, сердечник которого состоит из ферроникелевого сплава, покрытого тонким слоем меди. Обезгаженная чистая проволока из этого материала (около [c.172]

Зависимость ионного тока манометрических лаМп ЛМ-2 н ИМ-12 в условиях постоянного эмиссионного тока от рода откачиваемого газа (см. 22) следует учитывать при эксплуатации этих датчиков. Во-первых, при установке ламп на откачиваемом объеме необходимо принять меры по предотвращению прямого попадания паров уплотняющего материала (например, резины) в колбу ламп. Для этого при- установке ламп типа ЛМ-2 в грибковое уплотнение (наиболее типичное соединение при металлическом исполнении вакуумной системы) следует убедиться в том, что стеклянный патрубок лампы на.ходнтся непосредственно в откачиваемом объеме, а не в уплотняющем кольце грибка . Во-вторых, указанная избирательная чувствительность к разным газам часто применима для нахождения течей в объеме. При этом используется методика, описанная в предыдущем параграфе. Однако, так как нахождение течи в данном случае проводят в условиях высокого вакуума (10 — 10 тор), чувствительность метода оказывается значительно более высокой. [c.225]

Нагнетательные, в которых сыпучий материал транспортируется газом, находящимся под избыточным давлением. Нагнетательные системы в большинстве случаев применяют для транспортирования материалов из одной точки питания к нескольким точкам потребления. Например, такие системы используют для транспортирования готового порошкообразного полимера от распылительной сушилки к бункерам-силосам. Материал подается в трубопровод с помощью секторного или другого питателя, исключающего нарушение герметичности системы. Для этого в некоторых случаях на течке устанавливают два секторных питателя. Транспортирующий агент (воздух или инертный газ) нагнетается в систему газодувкой или компрессором под давлением от 200 и выше 300 кПа. При использовании сжатого газа получают больший перепад давлений в пневмотракте по сравнению с вакуумными системами, что позволяет применять такие системы для транспортирования сыпучих полимеров на значительное расстояние. Для разгрузки транс- [c.161]

Метод разрядной трубки применим для объектов или участка вакуумных систем из любого материала. На участке трубопровода, идущего непосре(дственно к наоосу, помещается разрядная трубка (см. рис. 6-33), в которой возбуждается свечение газа (обычно воздуха), протекающего из вакуумной системы в насос. Наиболее удобная область давления при пользовании описываемым методом лежит в пределах 0,1— 1 мм, рт. ст. В этой области давлений воздух при возбуждения в нем разряда имеет розовое свечение. Подозрительный по натеканию участок вакуумной системы смазывается ватой или опрьюкивается из пульверизатора ацетоном, бензином или другим каким-либо легколетучим углеводородом одновременно непрерывно наблюдают за свечением разряда в трубке. Если при достаточно длительно(м опрыскивании какого-либо участка системы розовое свечение разряда в трубке изменит свой цвет на голубой, то это значит, что пары распыляемой жидкости проникли через негерметич1ное место и повлияли на цвет разряда, т. е. в данном участке системы имеется натекание. При отсутствии легколетучих углеводородов для обнаружения натекания можно производить опрыскивание водой, при проникновении паров которой в разрядную трубку свечение также становится голубым. [c.264]

Рассмотренная выше методика расчета вакуумной системы предполагает, что суммарный газовый поток С 2 меняется в относительно небольших пределах (Й= =1,5- -3). Такой характер изменения 0, можно обеспечить постепенным повышением температуры материала, при которой осущевтвляется технологический процесс. Контролируемой величиной обычно при этом является давление в сосудр, которое стремятся поддерживать не выше уровня, определяемого условиями проведения технологического процесса. [c.50]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология