Третичное излучение

Интенсивность этого третичного излучения очень невелика — она во много раз ниже, чем интенсивность рентгеновского спектра флюоресценции. Это естественно излучение квантов спектра флюоресценции происходит в результате каждого акта выбивания электронов из атомов квантами первичного пучка, а из энергии этих электронов переходит в энергию третичного рентгеновского излучения всего лишь 1—2%. [c.153]

Представление о микрогетерогенном строении водных растворов неэлектролитов получило дальнейшее развитие в работах Ю. И. Набе-рухина. Он совместно с В. И. Корсунским и Г. С. Юрьевым исследовал рассеяние рентгеновского излучения растворами воды с третичным бутиловым спиртом, гексаметилфосфортриамидом, диоксаном пиридином, тетрагидрофураном, изопропанолом и другими органическими соединениями, молекулы которых отличаются формой и размером, взаимодействуют с молекулами НгО посредством водородных связей различной силы. [c.299]

Рис. 11.12. Интенсивность рассеяния рентгеновского излучения растворами вода — третичный бутиловый спирт. Концентрация в мольных долях спирта

Третичное удержание будет рассмотрено нами совместно с другим, более распространенным явлением — с радиационнохимическим распадом исходного соединения под воздействием излучения. И в том и в другом случае мы сталкиваемся с влиянием интенсивных -радиаций. [c.268]

Спирты, альдегиды, кетоны. При облучении спиртов наблюдается образование водорода, гликолей, альдегидов, небольших количеств воды и газообразных углеводородов. Из первичных спиртов образуются в основном альдегиды, из вторичных — альдегиды и кетоны, из третичных — кетоны. Для спиртов нормального строения характерны уменьшение выхода альдегидов с удлинением углеродной цепи и почти постоянный выход водорода. При действии излучений с малой плотностью ионизации среди продуктов радиолиза спиртов преобладают гликоли, при действии излучений с высокой плотностью ионизации — альдегиды. [c.379]

Все явления, сопровождающие прохождение рентгеновских лучей через вещество, делят обычно на две категории рассеяние и поглощение. Очевидно, что это деление является несколько условным. Упругое столкновение квантов с периферическими электронами не есть чистое рассеяние, так как часть энергии передается электронам и переходит, в конечном итоге, в тепло, т. е. поглощается. Точно так же исчезновение квантов, сопровождаемое вырыванием электронов из атомов, не является процессом чистого поглощения, так как часть энергии возвращается в виде лучей рентгеновской флюоресценции и третичного рентгеновского излучения. Многообразие различных вторичных явлений еще больше подчеркивает условный характер этого разделения. [c.153]

В радиационной химии принято считать, что химические изменения, вызываемые ионизирующим излучением, представляют в основном результат действия вторичных электронов, большая часть которых имеет энергию меньше 100 эв [24,,25]. Такое представление базируется на том обстоятельстве, что первичный быстрый электроне энергией Мэе рождает —3 10 вторичных электронов, спектр которых лежит главным образом в области малых энергий. Между тем ионизация и возбуждение, индуцируемые первичной быстрой частицей, также приводят к химическим превращениям. При этом доля элементарных актов, приходящихся на взаимодействие с быстрыми электронами, отнюдь не пренебрежимо мала. Наиболее вероятным процессом деградации энергии быстрой частицы является потеря ее малыми порциями [26]. Это приводит к ому, что спектр выбитых электронов сдвинут в сторону малых энергий и доля третичных, четвертичных и т. д. электронов мала. [c.208]

Образование новых функциональных групп в ионитах может быть обусловлено как прямым, так и косвенным действием излучения. В случае превраш,ения при радиолизе групп четвертичных аммониевых оснований в третичные, вторичные и первичные группы, их образование может подчиняться экспоненциальному закону образование новых карбоксильных групп на начальной стадии радиолиза описывается, как правило, линейной зависимостью. [c.396]

Основным результатом действия излучения на третичные амины так же, как и на первичные и вторичные, является, повидимому, образование альдегидов [J7], Возможно, образуются также вторичные амины. Однако оксимы не могут образоваться это свидетельствует о том, что для образования оксимов необходимо наличие у азота атома водорода. [c.146]

Уравнение (23-5) показывает, что существует несколько значений X для данного угла отражения 0. Поэтому если при данном угле дифракции обнаружена первичная волна (п=1) при 800 нм, то также появляются вторичная волна (при 400 нм) и третичная (при 267 нм). Обычно первичная волна наиболее интенсивная. Соответствующим образом расположив щели, можно сконцентрировать до 90% падающей энергии в этой волне. Волны более высокого порядка можно вообще исключить при помощи соответствующего светофильтра. Так, стекло, поглощающее излучение с длинами волн менее 350 нм, отсекает волны более высоких порядков, связанных с первичной волной излучения в большой части видимой области. [c.129]

При склеивании силикатного стекла следует выбирать прозрачные клеи, которые имеют такой же показатель преломления, как и у стекла, хорошо смачивают стекло и не усаживаются в процессе отверждения. Чаще всего для этих целей используют эпоксидные и полиэфирные клеи. Наиболее термостойким является эпоксидный модифицированный клей ВК-28М, выдерживающий воздействие температур до 200 °С, трансформаторного масла, ацетона и воды без изменения оптических характеристик [89, с. 107]. Представляет интерес также жидкий клей на основе смеси виниловых соединений и третичного амина. Вязкость клея при 20°С составляет 0,2—0,4 Па-с, показатель преломления при 20 °С—1,549. Отверждение клея происходит при воздействии УФ-излучения [82, с. 159]. [c.202]

Воздействие ультрафиолетового излучения зависит от состава и строения эластомера. Наличие подвижного водорода в а-метиле-новых группах и у третичного атома углерода повышает фотохимическую активность полимера. [c.152]

Макрорадикалы и ион-радикалы, возникающие при действии ионизирующих излучений, не только рекомбинируют с образованием поперечных связей, но и участвуют в реакциях изомеризации, миграции двойной связи, деструкции, циклизации и др. Деструкция наиболее интенсивно протекает в эластомерах, содержащих третичный атом углерода. По этой причине бутилкаучук и полиизобутилен не вулканизуются под действием радиационных излучений. Если эластомеры облучают в присутствии кислорода, то сшивание замедляется, а деструкция усиливается. [c.321]

Ионный луч на пути следования от источника к фотопластинке управляется электрическим и. магнитным полями. В современных. масс-спектрометрах обеспечивается высокая степень откачки анализаторов тем ие менее в анализаторе происходят столкновения заряженных частиц с атомами и молекулами остаточного газа, которые изменяют траектории ионов или вызывают их перезарядку. В результате на определенных участках фотопластинки возникают полосы фона и размытые линии. При попадании ионов на фотопластинку образуются вторичные и третичные ионы, электроны и другие виды излучения, которые приводят к созданию интенсивного фона, особенно в районе основных масс и линий, прилежащих к ним. Все эти факторы определяют структуру искровых масс-спектров и должны быть тщательно проанализированы, прежде чем будут выделены составляющие, имеющие непосредственное от-нощение к исследуемому образцу. [c.68]

Уменьшение термоокислительной стабильности с ростом дозы излучения, вероятно, связано с тем, что при облучении в полимере накапливаются третичные углеродные атомы, изменяется общее содержание ненасыщенности и характер распределения. [c.119]

Известно , что поглощенная при облучении энергия может передаваться по цепи к третичному атому углерода. Вследствие этого поперечные связи при облучении могут образовываться при участии третичных атомов углерода или связанных с ними коротких боковых ответвлений. Кроме того, поскольку при облучении боковые группы могут отрываться с выделением газообразных продуктов радиолиза 8, с уменьшением дозы излучения число отщепляющихся боковых групп уменьшается. [c.131]

Сшивание может происходить под влиянием ультрафиолетового света. Излучений большой энергии, окисления и т. п. К сшиванию склонны полимеры с третичными водородными атомами. О реакций сшивания можно судить по изменению молекулярного веса, растворимости, степени объемного набухания и механических свойств. [c.453]

Интерес, проявленный в последние годы к влиянию различных типов облучения на материалы, которые могут быть использованы для космических кораблей, ракет и ядерных реакторов, вызвал многочисленные исследования в этой области. Третичные эфиры фосфорной кислоты разлагаются под действием большинства видов излучений. Обычно считают, что эти соеди- нения отличаются недостаточной стойкостью к действию облучения, чтобы их можно было использовать в качестве основного смазочного вещества для ядерных реакторов или для оборудования, работающего в условиях сильного излучения. [c.59]

Отверждение покрытий проводили методом фотополимеризации под действием ультрафиолетового излучения с применением в качестве инициатора бензофенона в растворе третичного амина [189], в частности 2-диэтиламино-этанола [96], при соотношении 2 3. В качестве источника ультрафиолетового излучения применяли ртутно-кварцевую лампу ПРК-7 мощностью 1000 Вт, установленную на расстоянии 10 см над поверхностью покрытия. Процесс формирования покрытий контролировали методом экстракции по выходу гель-фракции, методом ИК-спектроскопии по изменению интенсивности характеристической полосы поглощения группы —СНг—С= в области 1660— 1640 см , а также путем изучения кинетики изменения физико-механических показателей на различных этапах отверждения покрытий. [c.188]

Hi СН + СНз (сродство протона к молекуле метана больше, чем к радикалу СНз). В полях ионизирующих излучений хим. превращ. с участием ионов состоят в след, последовательности элементарных р-ций ионизация пер-BHHHidl ион + молекула -) вторичный ион -Ь нейтр. частица вторичный ион -Ь молекула третичный ион -Ь + нейтр. частица и т. д., до рекомбинации заряж. частиц — иона с электроном или с ионом противоположного знака. В последнем случае обычно образуются 2—3 нейтр. частицы (т. н. диссоциативная рекомбинация ионов). Вторичные, третичные и др. утяжеленные> ионы могут возникать и в результате тримолекулярных реакций. Так, при ионизации водорода быстрыми электронами при атмосферном давл. и комнатной т-ре в газе в осн. присутствуют ионы [c.225]

При возбуждении К. частицами с высокой энергией (иапр., электронами) или коротковолновыми излучениями (иапр, рентгеновским) возникает каскадная ионизация основного в-ва вторичными (третичными и т.д.) электронами с достаточно высокой энергией. Поэтому число испускаемых квантов света может во много раз (в тысячи и более) превышать число первичных частиц или квантов возбуждающего излучения. Вместе с тем при неоптич. способах возбуждения люминесценции К. возникают дополнит, потери энергии, в результате к-рых энергетич. выход свечения оказывается в иеск. раз ниже, чем при фотолюминесценции. [c.535]

В случае алкилбензолов фотохлорирование приводит в основном к реакции замещения в боковой цепи и эта реакция широко используется для получения соответствующих соединений. По своей активности атомы водорода, связанные с ближайшим к кольцу атомом углерода боковой цени, можно сравнить с третичным атомом водорода в алифатическом соединении они первыми подвергаются замещению. Несмотря на то, что таким путем получены многие ароматические соединения, содержащие атом хлора в а-положении, трудно все же оценить выход фотохимической реакции, так как в условиях опыта одновременно происходит также и термическое хлорирование. Например, при обычной методике хлорирования толуола [344, 345], которая состоит в пропускании хлора в облучаемый раствор кипя1цего углеводорода, получается хлористый бензил с выходом 85%, однако в этих же условиях наблю-. дается заметное хлорирование и в отсутствие излучения. [c.290]

Шелтон и Винсент [2] и Бейтман с сотр. [3] предположили, что для большинства полимеров разложение перекисей, указанное в реакции (Х1П-4), является основным источником радикалов, которые инициируют окисление. В процессе переработки полимеров обычно образуются в небольших количествах перекиси и другие примеси. На первых стадиях окисления Шелтон наблюдал изменение скорости, которое он объяснил началом бимолекулярного разложения, по мере того как накап.т1ивались гидроперекиси. Большинство полимерных углеводородов окисляются с заметной скоростью при действии ультрафиолетового излучения и/или повышенной температуры. В условиях атмосферных воздействий у полиэтилена, нанример, менее чем через 2 года происходит ухудшение механических и диэлектрических свойств [4, 5]. Как полиэтилен, так и полипропилен окисляются с заметной скоростью в темноте при 60° [6]. Фотоокисление полиэтилена становится заметным только через несколько месяцев экспозиции на открытом воздухе [4, 5]. Ионы некоторых металлов увеличивают скорость инициирования, ускоряя разложение гидроперекисей, вероятно, путем гомолитического распада их на радикалы. Медь является одним из активных катализаторов реакций окисления полиоле-фина. Этот эффект значительно больше для полипропилена, полиизобутилена и других полиолефинов аналогичного строения, содержащих больше третичных атомов углерода в основной цепи, чем в молекуле полиэтилена. Некоторые остатки катализатора, удерживаемые полимерами в процессе полимеризации, становятся активными катализаторами окисления. [c.452]

В сообщении на VII научной сессии по химии сераорганических соединений были даны таблицы микроволновых спектров десяти сераорганических соединений, полученных в Институте органической химии БГУ [1]. В настоящей статье приводятся микроволновые спектры еще семи сераорганических соединений 2-метилтиофена, -бутилмеркаптана, изопропилмеркаптана, третичного бутилмеркаптана, этилмеркаптана, ме-тилэтилсульфида, диэтилдисульфида. Аппаратура, использованная для получения микроволновых спектров [1, 2], подверглась некоторому усовершенствованию. Улучшены источники питания клистронов, в результате чего повысилась стабильность выходных напряжений. Клистроны для термостатирования погружались в масляную баню, охлаждаемую водой. Эти меры позволили получить высокую монохроматичность излучения клистронов (полоса частоты излучения составляет меньше 0 1 Мгц на частоте 40 ООО М.ги и хорошую стабильность частоты, допускающую запись спектральных линий самописцем при медленной механической перестройке клистрона. Достигаемая при этом чувствительность составляет примерно 5 10 сл . [c.297]

Наиболее удобным вариантом реакции присоединения является радикальное присоединение, инициируемое УФ-светом, азобис(изо-бутиронитрилом), органическими пероксидами, рентгеновскими лучами или излучением °Со. Этим путем получены многие фосфины, включая трифторметилпроизводные типа (23) [31] (уравнение 28). Циклические третичные фосфины были синтезированы внутримолекулярным присоединением (уравнения 29, 30) или взаимодействием диенов с первичными фосфинамн за счет двукратного присоединения по Михаэлю (схема 31). [c.610]

В присутствии инициаторов (азо-бис-изобутиронит-рила, персульфатов, гидроперекисей), а также под воздействием у излучения макромолекулы Б. к. присоединяют меркаптаны. Относительные скорости присоединения алкилмеркаптанов убывают в след, ряду первичный> вторичный> третичный. Скорость реакции уменьшается с увеличением мол. массы меркаптанов. [c.159]

Инициирование можно осуществить различными способами термически, фотохимически, -излучением, с помощью химических инициаторов. Органический радикал генерируется путем отщепления водорода от органического субстрата. Атом брома менее активен, чем атом хлора, а отрыв водорода есть эндотермический процесс (кроме случаев, когда образовавшийся органический радикал стабилизируется за счет резонанса). При бромировании алканов это обстоятельство приводит к тому, что скорость реакции относительно меньше, а атом брома проявляет более высокую селективность. Так, н-бутан бромируется по вторичному углеродному атому в 82 раза быстрее, чем по первичному. Бромирование линейных алканов дает почти исключительно вторичные алкилбромиды, а разветвленные алканы бромируются преимущественно по третичному угл<еродному атому. [c.221]

Туот и Леконт [35] исследовали в 1943 г. ряд третичных спиртов и заметили, что в тех случаях, когда в цепи имеется подряд по меньшей мере четыре метиленовые группы, появляется полоса при 720 см К К этому же случаю Томпсон и Торкингтон [17] относят дублет 721 и 732 политена. Шеппард и Сатерленд [36], исследуя полностью дейтериро-ванные парафины, показали, что эта полоса обусловлена крутильными колебаниями групп СНг Сатерленд и Джонс [37], используя поляризованное излучение, также показали, что рассматриваемые колебания перпендикулярны к углеводородной цепи. В первой из этих работ к этим колебаниям в углеводородах отнесен интервал 760—720 сж". [c.34]

Таким образом, изучение скорости поглощения кислорода облученными полимерами и рассчитанные значения афф окисления свидетельствуют об уменьшении термоокислительной стабильности облученных полимеров с ростом дозы излучения. Наиболее уязвимыми местами при термическом окислении облученных полимеров являются третичные углеродные атомы, а-углеррдные-атомы по отношению к гранс-виниленовой связи и поперечные связи, образующиеся при облучении. Одновременно с процессами деструкции при окислении облученных полимеров протекает структурирование с образованием простых эфирных связей. [c.128]

Применением этих соединений достигают весьма высокой радиационной стойкости композиций, за исключением диа-мин-дифенилсульфона, который вопреки общим закономерностям, характерным для использования ароматических отверждающих агентов с целью получения тепло- и радиационностойких соединений, дает композиции с меньшей стойкостью к излучениям, чем можно было бы ожидать. Как следует из графиков, приведенных на рис. 22—24, ароматические диамины в начальный период облучения имеют те же значения показателей прочности при изгибе, что и алифатические и ароматические амины. Однако их поведение в дальнейшем резко отличается от последних. Если при поглощенной дозе излучения 5 МДж/кг прочность при изгибе соединений с аддуктом амина падает более чем в 10 раз, а наиболее радиационно-стойкого из соединений с ароматическим амином — третичной солью карбоксил-три-диме-тиламинометилфенола — в 2 раза, то прочность соединений, отверждаемых ароматическими диаминами, повышается на 10— 38 [c.38]

Радиационную обработку полимеров осуществляют обычно под действием быстрых электронов, рентгеновских и -лучей (с энергией, не вызывающей появления наведенной радиации в облучаемой среде). Механизмы протекающих при этом процессов близки к превращениям, наблюдаемым под действием света, однако они протекают белее энергично вследствие более высокой энергии излучения. Под действием облучения изменяются механические свойства полимерных пленок и их устойчивость к растворителям и агрессивньш средам. Устойчивость полимера к облучению зависит от его химического строения. Так, полимеры, содержащие в молекулах третичный или (тем более) четвертичный атом углерода, практически не подвергаются радиационному сшиванию. Наличие бензольных ядер (полистирол) способствует рассеиванию энергии возбуждения, вследствие чего такие полимеры более устойчивы к радиационному облучению [70]. [c.62]

Амины играют важную роль в программе выделения трансплутониевых элементов. В соответствии с этой программой в процессе трамекс используют 0,6 М раствор соли третичного амина (аламин-336-НС ) в ДЭБ для извлечения трансплутониевых элементов из хлоридных растворов. Противоточные испытания с Сш- - при мощности дозы от 5 до 10 вт л (доза реагента 5 вт-ч1л) не показали отрицательного влияния а-излучения на экстракцию [11]. Испытания показали, что при длительном контакте аминов с HNO3 образуется продукт, который экстрагирует цирконий [12]. [c.133]

Для разделения Zr и Nb смесь изотопов переводили в 5 мл 7 М НС1 и пропускали со скоростью 0,4—0,5 мл/мин через колонку, содержащую 1 г порошкообразного Ф-4, пропитанного 0,5 М раствором технической смеси вторичных ( 30%) и третичных ( 70%) аминов в бензоле. После пропускания раствора колонку промывали 30 мл1 М НС1 для полного элюирования Zr. Примеси Nb в этих условиях полностью сорбируются на колонке. Десорбировали Nb 40 мл 0,05%-ного раствора HjOj в 2 М НС1. Спектр у-излучения Zr, полученный на спектрометре с полупроводниковым детектором, подтвердил отсутствие [c.210]