Потенциал окисла на металле

Независимость перенапряжения кислорода т) = е — во от pH могла бы быть объяснена предполагаемым равновесием металл/окисел металла. Тогда скорость выделения кислорода была бы только функцией парциального давления кислорода. Правда, оказывается трудным истолкование величины Ъ. С другой стороны, при анодном образовании хемосорбированных слоев потенциал зависит не только от степени заполнения, ко и от плотности тока примерно по уравнению Тафеля, как показывают данные, приведенные в 155. Потенциал начала образования этих слоев смещается на 59 мв щ. pH, так же как и потенциал выделения кислорода при заданной постоянной плотности тока I и постоянной степени заполнения 0. Согласно этому реакция образования окисла в уравнении (4. 218) являлась бы лимитирующей стадией. Но знания об образовании окислов еще недостаточны, чтобы можно было продолжить анализ этого процесса. [c.674]

Перечисленные выше теории роста тонких пленок основываются главным образом на концепции Вагнера [48], согласно которой перенос вещества в слое полупроводникового окисла осуществляется за счет движения ионов разного знака и электронов. С одной стороны, это движение происходит под влиянием градиента химического потенциала, обусловленного изменением состава окисла при переходе от границы раздела кислород — окисел к границе окисел — металл, а с другой — под влиянием градиента потенциала электрического поля, являющегося результатом разности концентраций зарядов разного знака. В случае окисных пленок значительной толщины градиент потенциала электрического поля очень мал и перенос вещества определяется только градиентами концентраций. В этих условиях всегда действует параболический закон окисления — вывод, который следует из теории Вагнера. [c.222]

Самый факт контакта металла с окисной пленкой создает скачок потенциала между ними. Однако проникновение ионов О через пленку и их адсорбция на металле под пленкой изменяют состав и характер пограничного слоя между металлом и фазовым окислом и дают возможность рассматривать этот пограничный слой как поверхностный окисел металла. Уравнения (4) и (8) сохраняют свою силу и позволяют определить скачки потенциала и и в [c.33]

В литературе пока имеются лишь отдельные сведения о формировании окисных пленок на тугоплавких металлах и рассматривается этот процесс не с металловедческих позиций. Подробное освещение результатов этих работ выходит за рамки обсуждаемых вопросов и общей направленности данной книги. В связи с этим ограничимся некоторыми общими сведениями об окисных пленках, образующихся на тугоплавких металлах. Выше было сказано, что тантал, наиболее коррозионностойкий из тугоплавких металлов, весьма стоек во многих агрессивных средах вследствие устойчивости в этих средах его окисла Т 2 Об. Однако окисел Таг Об растворяется в плавиковой кислоте, чем и объясняется малая устойчивость тантала в этой кислоте. Окисел тантала растворяется также в щелочах с образованием танталатов. Таким образом, в тех средах, в которых окись тантала растворима, тантал нестоек. Для образования поверхностной пленки необходимо наложение анодного тока, причем, чем вьппе плотность тока, тем быстрее достигается потенциал вьщеления кислорода (линейный участок кривой на рис. 51). Тем не менее образование пленки наблюдается и без наложения [c.57]

Хорошей электронной проводимостью обладают пассивирующие слои на железе, никеле, хроме и на некоторых других металлах, а также очень тонкие слои на благородных металлах. При исследовании поведения железа в азотной кислоте методом применения переменного тока Феттеру не удалось обнаружить какого-либо сопротивления R слоя прохождению электронов R < <С 0,1 ом-см ). На основании данных, приведенных на рис. 348— 350, можно сделать вывод о возможности выделения кислорода при обычных перенапряжениях. Феттер показал (прежде всего теоретически), что на пассивирующем слое, характеризуемом скачками потенциалов на фазовых границах металл/окисел к окисел/электролит, несмотря на падение потенциала внутри слоя, при достаточно хорошей электронной проводимости могут устанавливаться обратимые окислительно-восстановительные потенциалы, определяемые концентрациями окислителей и восстановителей. Равновесие на фазовой границе металл/электролит относительно находящейся в электролите окислительно-восстанови-тельной системы может осуществляться в том случае, когда разность потенциалов такова, что электрохимический потенциал г е = = Це — ф электронов в металле равен соответствующему потенциалу электронов в электролите (см. 13). Если между металлом и электролитом имеется пассивирующий слой, то при электронном равновесии между металлом и электролитом электрохимический потенциал электронов г е должен быть постоянным также во всем пассивирующем слое и равным потенциалу электронов в металле и в электролите, содержащем окислительно-восстановительную систему. При этом характер распределения электрического потенциала ф на пути от металла к электролиту не имеет значения. Такой вывод непосредственно вытекает из данных рис. 352. [c.815]

Если ингибитор не способен восстанавливаться или восстанавливается с незначительной скоростью, то сразу возникает вопрос какая катодная реакция обеспечивает осаждение пассивирующего окисла и поддержание его в устойчивом состоянии Здесь предлагаются два механизма. Согласно одному из них уже небольшая скорость восстановления ингибитора достаточна для того, чтобы поддерживать металл в пассивном состоянии, поскольку восстановленная форма ингибитора, например СггОз, входит в состав пассивирующего окисла, который приобретает благодаря этому более высокие защитные свойства. Согласно другому, пассивация при малых катодных токах возможна из-за того, что большинство эффективных ингибиторов относится к хорошо адсорбируемым соединениям, в силу чего большинство активных центров на поверхности защищаемого металла оказываются химически или физически связанными с ингибитором. В таких условиях уже незначительные катодные плотности тока (в расчете на всю геометрическую поверхность) достаточны для того, чтобы сместить потенциал к значениям, при которых осаждается пассивирующий окисел. [c.53]

Все тугоплавкие металлы обладают отрицательными нормальными электродными потенциалами и располагаются в ряду активности левее водорода. Высокая коррозионная стойкость тугоплавких металлов обусловлена образованием на поверхности плотной, химически устойчивой пленки, представляющей собой окисел данного металла для Та, ЫЬ, Мо, 7г — это Та Об, N52 05, МоОз, 2г2 0 и т.д. Так, например, тантал без окисной пленки обнаруживает сильную анодность по отношению к большинству металлов в течение нескольких секунд после погружения пары в электролит, но образование на его поверхности окисла Таг 05 под действием анодного тока быстро изменяет потенциал тантала на обратный и тантал становится катодом (рис. 48). Этот процесс аналогичен процессу пассивации алюминия, но протекает быстрее (рис. 49). [c.56]

В большинстве работ, посвященных механизму защиты железа от коррозии фосфатами, высказывается мнение, что фосфатный слой осаждается из электролита, а пассивирующий окисел возникает за счет взаимодействия металла с кислородом. Роль вторичного осажденного из электролита фосфата заключается в снижении скорости растворения окисного слоя. В работах [47] было показано, что в присутствии фосфатов на анодной поляризационной кривой имеется два потенциала пассивации один из них смещен на 0,2 В в отрицательную сторону по сравнению с потенциалом обычной пассивации, наблюдаемым в боратном буфере, не содержащем фосфатов. Из этого делается вывод, что в фосфатных растворах переходу железа в пассивное состояние предшествует специфическая пассивация, обусловленная вторичным осаждением фосфата металла из раствора. Накопление на поверхности стали плохорастворимого фосфата железа создает благоприятные условия для обычной окисной пассивации. [c.66]

Вагнер [1] указал на очень интересное следствие из его теории окисления — на возможность определения чисел переноса в окисле путем измерения электрической разности потенциалов на двух поверхностях растущего слоя окисла. Рассмотрим схему, изображенную на рис. 2, где внешняя поверхность растущего слоя u.jO поддерживается в контакте с зондом из благородного металла, например из платины. Разность потенциалов (на рис. 2 потенциал между двумя медными контактами) можно вычислить с помощью теории гальванических цепей с переносом. При переходе через окисел справа налево количества электричества, равного заряду электрона, имеют место следующие реакции [c.456]

Рассмотрим теперь кратко реакции, в которых твердые вещества реагируют с газами или в которых образуются газообразные продукты. Примерами реакций первого типа могут служить реакции окисления различных металлов. Если образующийся окисел занимает меньший объем, чем металл, из которого он получается, то окисная пленка не способна предохранить нижележащие слои от окисления, и реакция протекает по линейному закону. Напротив, если окисление сопровождается увеличением объема твердой фазы, пленка образующего окисла препятствует дальнейшему окислению, которое может происходить только в том случае, если металл растворяется в пленке и диффундирует через нее. При таком растворении на границе раздела фаз возникают градиенты химического потенциала. Вагнер [113] показал, что скорость окисления должна быть в этом случае обратно пропорциональна толщине слоя окисла. Это приводит к параболическому закону , по которому толщина пленки окисла растет пропорционально корню квадратному из времени реакции. [c.244]

В этом случае окисел пассивного металла имеет постоянную толщину. Если окисел растворяется чрезмерно быстро, то падение потенциала в утончающейся пленке вызовет увеличение скорости перехода катионов из решетки металла в окисел, в то время как при чрезмерном утолщении пленки эта скорость будет уменьшаться, так как напор потенциала через утолщающуюся пленку станет слабее [69]. [c.113]

В ходе такого процесса валентность окисла в поверхностном слое возрастает, а степень восстановленности остающихся в нем атомов кислорода уменьшается. Соответственно растет окислительно-восстановительный потенциал, который устанавливается на поверхности за счет реакции, обратной уравнению (7). По достижении потенциалов, при которых наряду с катионами низшей валентности в растворе могут существовать и катионы с более высоким зарядом, последние тоже становятся продуктом анодных актов. Когда они начинают растворяться в той же пропорции с низшими, какая формально отвечает составу исходного окисла, процесс становится стационарным. В итоге растворение сильно затормаживается, так как непосредственно с раствором теперь соприкасается более устойчивый окисел высшей валентности (см. ранее), поверхностная пленка которого мало чем отличается от существующей при том же потенциале на поверхности одноименного пассивного металла [6]. [c.18]

В большинстве современных исследований принимается, что пассивирующий окисел является непосредственным продуктом обычной анодной электрохимической реакции, протекающей с участием атомов металла и молекул воды. Однако вычисленные нормальные потенциалы реакций образования на титане всех известных его окислов, в том числе ТЮз, значительно отрицательнее наблюдаемого потенциала пассивации титана в 2 н. НаЗО . Вероятно, причину такого [c.18]

При потенциалах менее положительных, чем фОа/нзОа и ф0з/0н дая е в атмосфере инертного газа на металлических электродах, начинается адсорбция кислорода и возможно образование поверхностных окислов за счет разряда молекул воды (см. 1.6). Ток обмена реакции (1.127) очень мал. Как следует из приводимой ниже табл. 2, его величина при срОз/НзО = = 1,23 в составляет для различных металлов 10 —10 а/см , что значительно ниже токов обмена реакции ионизации водорода (см. 1.6). Поэтому при установлении стационарного потенциала следует также учитывать роль пары металл — окисел металла [63, 70]. Отсюда стационарный [c.42]

При изучении роста очень тонких пленок необходимо принимать во внимание возможность ограничения скорости роста процессами переноса по поверхности пленки, а не переносом через пленку. Процессы переноса по поверхности в свою очередь зависят от распределения потенциала в пленке вблизи поверхности. Известным примером такого рода эффектов служит окисление алюминия, когда после образования нескольких первых слоев скорость падает до очень низкого значения. То же наблюдается и при окислении некоторых других металлов. Скорость окисления алюминия определяется стадией перехода алюминия в виде ионов через границу раздела металл—окисел в междоузлия решетки окисла. Согласно теории, при переходе иона металла с поверхности металла в междоузлие окисла, связанного с металлом, ион металла должен преодолеть потенциальный барьер. Этот барьер намного больше того, который приходится преодолевать иону при переходе из одного междоузлия в другое, так что скорость диффузии в самом окисле не определяет скорости окисления в целом. Вероятность того, что такой переход произойдет, определяется выражением где V — частота колебаний атома, Е — высота барьера. Скорость переходов повышается под действием электрического поля, возникающего в результате адсорбции на внешней поверхности ионов кислорода (отрицательно заряженных), поскольку они притягивают ионы А1 через слой окисла. Скорость роста пленки дается выражением [c.168]

Полученные данные лишь частично характеризуют активное, пассивное и транспассивное состояния металлов и определяют условия, при которых можно ожидать реализации каждого из них. Однако они не указывают на причину перехода металла из активного состояния в пассивное и из пассивного в транспассивное. Для объяснения явлений пассивности были предложены пленочная и адсорбционная теории. В пленочной или фильмовой (Кистяковский) теории пассивности, берущей начало от Фарадея, предполагается, что переход металла из активного состояния в пассивное вызван образованием на его поверхности тонкого, обычно окисного слоя, отделяющего металл от окружающей среды и препятствующего, таким образом, его растворению. Образующийся окисный слой имеет толщину в несколько молекулярных слоев и его можно рассматривать как фазовый окисел. Чем совершеннее структура окисного слоя, чем меньше в нем разрывов и дефектов, тем полнее пассивация и тем меньше скорость растворения металла в пассивном состоянии. Одним из доказательств справедливости фильмовой теории служит тот факт, что для многих металлов, например для меди, свинца, серебра и платины, потенциалы пассивации сд и активации Сак лежат по обе стороны от обратимых потенциалов соответствующих металл-окисных электродов. Точно так же характер зависимости потенциала пассивации от кислотности раствора часто (в том числе и для перечисленных металлов) отвечает изменению потенциала металлического электрода второго рода с pH [c.454]

К числу металлов с низкой электронной проводимостью окислов принадлежат алюминий, титан, цирконий, тантал, известные своей способностью подвергаться оксидированию при высоких анодных потенциалах (см. 6 этой главы). Что касается растворения металла в пассивном состоянии, то оно существенно отличается от перехода в раствор ионов металла на активном участке поляризационной кривой. Это отличие прежде всего количественное. При сохранении постоянного потенциала анодной ток в пассивной области обнаруживает тенденцию к постепенному и очень медленно идущему уменьшению, снижаясь до крайне низких значений порядка Ь "а/см . Такой спад тока растягивается на длительные промежутки времени. Поэтому приводимые значения плотности тока в пассивном состоянии следует рассматривать как довольно условные величины, относящиеся к какой-либо определенной выдержке металла при заданном потенциале. Отличие процесса перехода в раствор ионов металла в пассивной области от активного растворения заключается в том, что такой переход протекает в три последовательные стадии. Одной из них является переход катионов металла в окисную пленку. Далее следует миграция ионов под действием электрического поля катионов — к раствору, а анионов кисло-юда или ионов гидроксила — к границе раздела окисел — металл. Наконец, последняя стадия представляег переход катионов из окисной пленки в раствор, т. е. самый процесс растворения пленки. Скорость каждой из трех этих стадий зависит от потенциала, и на этом основании процесс растворения металла в пассивном состоянии можно рассматривать как электрохимический. В противоположность этому в классической теории пассивности принимается, что ионы пассивного металла поступают в раствор в результате химического растворения материала пассивирующей окисной пленки в окружающем электролите. [c.202]

Очевидно, что прежде всего пойдет первый процесс ионы свинца при этом сразу же вступят в химическую реакцию с образованием труднорастворимой соли PbS04. Поскольку концентрация сульфата или серной кислоты в растворе обычно значительна, то после включения тока очень быстро достигается произведение растворимости PbS04, который выкристаллизовывается на поверхности анода, образуя солевую пленку. В этот момент на поляризационной кривой, снятой потенциостатически, будет наблюдаться спад тока при одновременном быстром возрастании анодной поляризации (рис. 105). После спада тока потенциал электрода заметно и быстро растет до выделения кислорода. Спад тока и смещение потенциала обусловлены тем, что образовавшаяся на свинцовом аноде солевая пленка несплошная и в порах ее возможна ионизация свинца. В связи с сокращением поверхности истинная плотность тока возрастает и потенциал сдвигается в область более положительных значений. При этом достигается потенциал реакции (3) и на аноде образуется нерастворимый высший окисел металла РЬОг. Однако на этой стадии процесс не задерживается, так как образовавшаяся в порах фазовая пленка двуокиси свинца не обладает ионной электропроводностью и рост ее быстро затормаживается. Это приводит к дальнейшей значительной поляризации анода, вплоть до потенциала выделения кислорода. Вместе с тем, для протекания этого процесса необходимо значительное перенапряжение, поэтому становится возможным более электроположительный процесс (4) окисления ранее образовавшегося сульфата до двуокиси свинца. Не исклю- [c.436]

Характерно, что адсорбированный слой кислорода — мономолекуляр-ный слой окисла — может обладать свойствами, отличающимися от свойств фазового окисла того же металла. Например, адсорбированный мсшомолекулярный слой, как правило, имеет большую химическую устойчивость. Вследствие этого он будет образовываться на электроде при анодной поляризации или восстанавливаться при катодной поляризации при потенциалах более отрицательных, чем равновесный потенциал для системы фазовый окисел — металл. Это позволяет, например, объяснить такое исключительное явление, наблюдаемое на алюминии и железе в растворах щелочей, как возникновение пассивности в условиях, когда фазовые окислы соответствующих металлов в свободном состоянии растворимы [23]. [c.302]

Интенсивность корозии титана в соляной кислоте можно уменьшить добавкой в раствор замедлителей коррозии— окислителей (азотная кислота, хромовая, К2СГ2О7, КМПО4, П2О2, О2 и др.), а также солей некоторых металлов (меди, железа, платины и др.). При этом потенциал новой системы титан— раствор приобретает более положительное значение. В таком окисле, как ТЮг, число дефектов решетки на границе окисел — газ настолько мало, что достаточно незначительного количества кислорода, чтобы их ликвидировать. Вновь появляющиеся в процессе растворения дефекты благодаря присутствию кислорода будут устраняться, т. е. процесс пассивации будет преобладать над процессом растворения титана. [c.282]

Прежде всего пойдет первый процесс (кривая АВ, рис. 111) ионы свинца при этом сразу же вступят во вторичную химическую реакцию с образованием труднорастворимой соли PbSO4. В этот момент на поляризационной кривой, снятой потенциостатически, будет наблюдаться спад тока (кривая ВС) при одновременном быстром возрастании анодной поляризации. При более высокой плотности тока достигается потенциал электродной реакции (2) и на аноде образуется нерастворимый высщий окисел этого металла. [c.289]

Для объяснения наблюдаемых в практике кинетических закономерностей рост тонких окисных пленок на металлах предложен ряд теорий, основанных на развитии идей Вагнера. Суть этих идей состоит в том, что перенос вещества через окисную пленку может осуществляться благодаря градиенту концентрации вещества по толщине окисла и градиенту электрического потенциала. Наиболее универсальной для тонких пленок является теория Кабрера и Мотта, которая распространяется на область низких температур, когда диффузия ионов сквозь окисную пленку весьма затруднена. Основная физическая идея теории состоит в том, что при образовании на поверхности окисной пленки хемисорбирован-ного кислорода в окисле возникает электрическое поле, появление которого значительно облегчает миграцию катионов к границе окисел - газ. [c.11]

Интересен метод модуляции электрическим полем он позволяет получить информацию о той области, на которую приходится максимальное падение прилагаемого напряжения. Эти исследования можно условно разделить на изучение процессов поглощения и отражения в системе металл — окисел — электролит при наложении соответствующего электрического потенциала (электропоглощение, электроотражение). Электропоглощение относится к процессам, определяемым поверхностной окисной фазой. [c.156]

Адсорб1шонная теория связывает пассивирование с появлением на поверхности металла тончайшего слоя (моноспоя ипи допей монослоя) адсорбированного кислорода. Связь между пассивирующим кислородом и поверхностными атомами по своей природе соответствует связи в кислородных соединениях ионов металла высшей степени окисления. Образующийся пассивирующий окисел может оставаться на поверхности металла до определенного потенциала, а затем перейти в раствор и вызвать непрерыыюе растворение металла. [c.21]

Доказательства в пользу такой сложной структуры пассивирующего окисла, состоящего из внутреннего, прилегающего к металлу, слоя Рез04 и внещнего, прилегающего к электроду, слоя РегОз, были получены в работах Нагаяма и Коэна [14]. При изучении этими авторами процесса катодного восстановления окисных слоев, полученных при пассивации, на кривых заряжения были обнаружены две задержки потенциала первая (—0,26- —0,36 В) связывается с восстановлением РегОз, а вторая (—0,68 В) — с восстановлением Рез04. Чем более положителен потенциал, при котором формируется пассивирующая пленка, тем больше была разница между количеством электричества, которое получалось из расчета концентрации Ре + в растворе и количеством электричества, пошедшим на восстановление наружного слоя окисла. Это навело на мысль, что наружный слой окисла благодаря дополнительному окислению содержит ионы более высокой валентности и представляет собой пленку с повышенным содержанием кислорода по сравнению со стехиометрическим составом РеаОз (окисел с избытком катионных вакансий). Повышенным содержанием кислорода в наружном слое и обусловливаются, по мнению авторов, пассивирующие свойства подобных окислов. [c.19]

По нормали к весьма тонкому слою окисла создается очень сильное электрическое поле. Так как потенциал окисления имеет порядок 1 В, то по нормали к пленке, имеющей толщину нм (10 А),, создается поле 10 В/нм. Под действием такого поля можно ожидать рост толщины окисла. Ионы металла протягиваются чере пленку. С утолщением пленки влияние поля быстро уменьшается и становится едостаточйым для дальнейшего роста. При отсутствии, подвода тепловой энергии, достаточной для поддержания непрерывного роста за счет диффузии ионов в условиях градиента концентрации в пленке, скорость окисления упадет очень быстро. Конечная толщина пленки при комнатной температуре составит 1—4 нм (10- 0 А), что соответствует обычному порядку толщины. Примерно через месяц утолщение практически прекращается. При повышении температуры окисления конечная толщина будет возрастать, но если рост вызван наличием сильного электрического поля, то окисел никогда не будет быстро расти. Выше некоторой [c.19]

Необратимость и связанное с ней анодное перенапряжение еще не слишком велики, пока в ряду окислов данного металла окисел, образующий электродную поверхность, является низшим или промежуточным и пока любая поверхностная ячейка или малая группа ячеек способна отдавать катион, переходя при этом в состояние, которое отвечает следующему по порядку стехиометрическому окислу со сравнительно небольшой энергией превращения (как в уравнении (За) и (36)). Однако по мере повышения валентности исходного окисла эти возможности уменьшаются, и на поверхности высшего стабильного окисла растворение катиона должно приводить к образованию ячеек нестабильного соединения с аномально высокой для данного потенциала стандартной энергией, либо должно происходить только в тех статистически редких точках, где благодаря подходу катиона из глубины или благодаря кислородному обмену с раствором на короткий момент флуктуативно возникла ячейка низшего окисла. И то, и другое означает резкое уменьшение эффективной скорости анодного растворения поверхностных катионов, которое воспринимается как повышение степени запассивированности электрода. [c.14]

Выше ( 7) было сказано, что сдвиг потенциала в отрицательную сторону, вызванный постоянной зачисткой (шлифовкой) поверхности электрода, рассматривается как серьезный аргумент в пользу концепции фазового окисла. Но шлифовка никеля и хрома род слоем раствора при одновременной анодной поляризации была в работе [76] столь интенсивной, что за единицу времени сошлифовывался слой металла, превосходящий тот, который мог бы анодно раствориться, превратиться в окисел или образовать пленку соли на электроде при использованной плотности тока. Несмотря на такой быстрый износ, на поляризационных кривых можно видеть максимум тока при Фп, после чего ток падает с ростом потенциала, давая типичную картину перехода металла в пассивное состояние. Правда, в этих условиях пп, по-видимому, больше, чем в отсутствие шлифовки. Но говорить в данном случае об образовании фазового окисла трудно. Торможение анодной реакции следует скорее связать с адсорбцией. Так как последняя протекает не мгновенно, то шлифовка несколько увеличивает [c.254]

Возможность ЭХРО этих металлов объясняется анодно-активирующим действием анионов брома на эти металлы. Этот процесс изучали в работах [13, 101, 102]. При смещении потенциала электрода от фст ДО факт происходит рост окисной пленки на аноде. По-видимому, в этой области потенциалов пассивирующий окисел МЬ205(Та205) получается в результате взаимодействия между катионами металла и анионами кислорода, движущимися через окисную пленку навстречу друг другу, и представляет собой плотную аморфную пленку, покрывающую поверхность анода сплошным слоем, который препятствует растворению анода. При достижении факт происходит местное разрушение защитной пленки, ток резко увеличивается, анод начинает быстро растворяться (рис. 19). При этом белые или желтоватые твер- [c.181]

Если потенциал электрода в данном растворе отрицательнее, чем ф в , то процесс (XIII, 1) должен идти в противоположном, по сравнению с тем как он написан, направлении (справа налево). Окисел должен восстанавливаться, поверхность металла должна обнажаться. В противном случае окисел [c.583]

Смотреть страницы где упоминается термин Потенциал окисла на металле: [c.148] [c.119] [c.191] [c.19] [c.185] [c.157] [c.60] [c.547] [c.829] [c.81] [c.63] [c.32] [c.46] [c.209] [c.414] [c.163] [c.390] [c.390] [c.457] [c.513]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология