Осадок металла и подложка

Отмечено, что число кристаллов возрастает с уменьшением концентрации. Опытные данные свидетельствуют о том, что образование зародышей кристаллов на катоде является определяющим процессом в начальной стадии формирования катодного осадка, при этом фазовое перенапряжение, необходимое для зарождения кристаллов, достигает сотни милливольт. Величина т] служит характеристикой степени взаимодействия осаждаемого металла с подложкой. Чем выше фазовое перенапряжение, тем слабее адгезия осадка с подложкой. [c.243]

Величина, форма и распределение зерен поликристаллического осадка металла очень сильно зависят от плотности тока, природы выделяющегося металла, его кристаллической структуры и структуры металла-подложки, концентрации и состава электролита и [c.718]

Структура получаемых осадков сильно зависит от условий электролиза. Если отсутствуют факторы, препятствующие процессу осаждения, то наблюдается тенденция к образованию четкой кристаллической структуры, которая как бы повторяет кристаллическую структуру металла-подложки. Энергичное перемешивание раствора электролита, повышение температуры раствора, использование простых (не комплексных) солей металлов в довольно высокой концентрации способствуют образованию осадка подобного типа. Однако при наличии факторов, мешающих процессу электроосаждения, наблюдается тенденция к образованию мелкозернистого микрокристаллического осадка. Если необходимо получить именно такой осадок, то в качестве электролита используют комплексные соли металлов, добавляют в раствор неэлектролиты, которые сильно адсорбируются на поверхности, или же работают при высоких плотностях тока и значительных перенапряжениях. [c.249]

Эпитаксия если кристаллографические параметры осаждаемого металла не слишком (не более, чем на 15%) отличаются от параметров металла-подложки, то во многих случаях структура осадка повторяет структуру подложки. Влияние структуры основы может сказаться на большой глубине осадка—до 1 мкм (несколько тысяч атомных слоев осаждаемого металла). Явление эпитаксии четко выражено для осадков из меди, серебра и цинка. [c.350]

Влияние природы (потенциала) электрода. Хевеши [ 1 впервые обстоятельно изучил влияние потенциала металла-подложки, принимаемого им при погружении в раствор, содержащий его собственные ионы и ионы исследуемого радиоактивного изотопа, на самопроизвольное выделение последнего. Он изучал поведение В- и С-продуктов активных осадков радия, тория и актиния. В качестве электродов он употреблял различные металлы (серебро, медь, свинец, кадмий, цинк, марганец), погруженные в раствор, содержащий определенную концентрацию их собственных [c.557]

Наконец, параллельная ориентация кубических гранецентрированных металлов, при которой взаимно параллельны грани и ребра (или плоские диагонали) кубических ячеек осадка и подложки, также имеет аналогию у металлов с гексагональной структурой (ориентация IV). Эту аналогию легко понять из рис. 78. В действительности видно, что в двух рассматриваемых случаях имеется полное структурное соответств между направлениями [ПО] 1 (010] и плоскостями (100) и (304) обеих решеток. Плоскость (304), проходящая через диагональ основания [c.126]

Преобладание того или иного вида фазового перенапряжения зависит от стадии развития осадка, т. е. от времени, прошедшего с момента начала электролиза, от природы металла и катодной подложки, от состава раствора и, з частности, особенно сильно от природы и концентрации присутствующих в нем поверхностно-активных частиц, от плотности тока, температуры и т. д. [c.344]

Процесс гетерогенного образования зародышей кристаллов является первой стадией возникновения катодного осадка на индифферентной подложке. Индифферентными подложками считают такие, которые покрыты оксидными пленками либо изготовлены из металла, в котором диффузия осаждаемого металла покрытия очень мала. [c.236]

Таким образом, в ряде случаев материал подложки влияет на структуру осадка не только через природу металла, обусловленную его атомным строением, кристаллографической ориентацией, но и через состояние поверхности катода, соотношение активных и пассивных участков на ней, а также ее макро-и микрорельефа. Наилучшими материалами, например, для никелевого порошка, служат титан, для серебряного— алюминий, медного— медь, алюминий, сурьмянистый свинец. Эти материалы, кроме оптимальных условий образования порошка, обеспечивают более легкое удаление рыхлого катодного осадка с поверхности электрода. [c.518]

В практических условиях процесс электроосаждения поли-кристаллических осадков довольно сложный. После формирования сплошного слоя осадка дальнейший его рост можно рассматривать как осаждение на подложке из того же металла. Принято различать четыре типа поликристаллических осадков крупнокристаллические осадки, ориентированные по отношению к основе и воспроизводящие ее структуру [c.241]

Авторы изучали структуру свежеполученных, преимущественно труднорастворимых, а также некоторых легкорастворимых осадков. Образцы приготовляли путем проведения химической реакции либо непосредственно на коллодиевой пленке-подложке, либо в обычных условиях в большом объеме в отдельном сосуде. После промывания препараты изучали в электронном микроскопе. Во всех изученных случаях, несмотря на совершенно различную химическую природу объектов, на снимках труднорастворимых осадков явно преобладали круглые формы — шарики, овальные частицы, более крупные округлые зерна, так же как и в дымовых налетах металлов и их окислов. Ни в одном случае не было обнаружено частиц резкой угловатой формы, хотя все эти вещества — хлористое серебро, хромовокислый и сернокислый барий, хромат меди, хлористый свинец, двуокись марганца, сернистый цинк — при более благоприятных для кристаллизации условиях выделяются в виде кристаллов, имеющих легко отличимую форму. Наряду со свободными отдельными частицами в осадках присутствовали также вторичные структуры в виде цепочек или больших [c.218]

Для относительно толстых покрытий особенно важными становятся условия осаждения атомов золота на золотой подложке. Золото должно осаждаться так, чтобы не образовывались крупные кристаллы. Покрытие будет блестеть, если осадок мелкозернистый, а размер микрокристаллов золота на его поверхности меньше длины волны видимого света (примерно 0,5 мкм). Чтобы сгладить шероховатость толстых золотых осадков, в электролит и добавляют блескообразующие вещества. Как же работают блескообразователи, почему небольшие добавки, казалось бы, совершенно посторонних веществ могут сильно изменить внешний вид и свойства осажденной пленки металла Их задача-препятствовать укрупнению кристаллов золота, сглаживать острые выступы образовавшихся крупных кристаллов, способствовать зарастанию впадин на поверхности. В отсутствие таких добавок кристаллы золота могут принимать самую причудливую форму они напоминают то старинные пагоды, то папоротники, выросшие на каменистой почве. [c.17]

Важная проблема при осаждении металла — качество сцепления осадка с основой (как чужеродной, так из того же металла). В гальваностегии одним из основных требований является высокая прочность и надежность сцепления. В гидрометаллургии и гальванопластике металлы часто осаждают на чужеродную матрицу и потом отделяют от нее здесь, наоборот, требуется слабое сцепление. Кроме других возможных причин, качество сцепления зависит от структуры и степени чистоты поверхности подложки. Поэтому перед началом осаждения подложку тщательно обрабатывают как механическими (шлифовка, полировка), так и химическими средствами (травление, обезжиривание). [c.350]

Для ускорения процесса растворения металла в порах применяют анодную поляризацию испытуемого образца в некоторых случаях применяют и катодную поляризацию. Электрографический метод является некоторой разновидностью коррозионного испытания с наложением тока. Определение пористости производят при определенном потенциале металла подкладки. Продукты растворения, проникая через поры осадка, взаимодействуют с проявителем и дают окрашенный отпечаток, характеризующий распределение пор. При применении этого метода фотографическую бумагу, предварительно обработанную соответствующим реактивом, накладывают на исследуемое покрытие и плотно зажимают между двумя электродами в прессе. Через 15 сек после включения тока подложка отделяется и проявляется специальным реактивом. В местах пор образуются окрашенные пятна. Метод рекомендуется только для определения пористости никеля наилучшим реактивом является раствор сернокислого калия. [c.179]

Иная картина возникает при электрохимическом растворении смеси железо — медь, осажденной послойно. Если внутренним слоем является медь, наблюдаются большие токи электрохимического растворения железа, чем после осаждения элемента на чистой поверхности графита, и металлы не взаимодействуют между собой. Вероятно, медная подложка, предварительно образованная на графитовом электроде, облегчает кристаллизацию железа, что способствует электрохимическому осаждению железа из разбавленных растворов. При электрохимическом растворении осадка, в ко- [c.70]

В первом — освещаются вопросы кинетики катодного и анодного процессов, особенности электрокристаллизации металлов и сплавов в компактной и порошкообразной форме. Во второй раздел вошли статьи, касающиеся вопросов выделения коллоидно-диспергированных гидроокисей, элементарных металлов и неметаллов в виде тонких пленок, образующихся на границе раздела фаз Ж—Г, Ж— Ж. Обсуждаются особенности химического осаждения на стекло зеркальных пленок кобальта, никеля и меди. В последних статьях этого раздела излагаются вопросы термодинамического анализа условий осаждения труднорастворимых сульфидов тиомочевиной из водных растворов как в виде осадков, так и в виде хорошо сформированных пленок на твердых подложках. [c.5]

Независимо от величины к из уравнений (22,7) — (22.9) следует, что дофазовое осаждение металлов наблюдается только в том случае, когда работа выхода электрона из металла подложки (металл М1) больше, чем из металла монослоя (Мг). Следовательно, образование монослоя сопровождается переносом электронов нз него в субстрат и появлением диполей на границе раздела М( и Мг, причем положительный конец диполя расположен на монослое. Свойства монослоя, его структура, во многом определяемая структурой субстрата, играют очень важную роль в процессе дальнейшего развития осадка, влияя также на адсорбционные, каталитические, коррозионные и другие характеристики металла. Дофазовое осаждение представляет поэтому не меньший интерес, чем зароды-шеобразование, и с ним необходимо считаться прн рассмотрении механизма возникновения новой металлической фазы. [c.458]

Анодное окисление металла подложки под оксидным слоем связано с полупроводниковыми свойствами последнего и происходит за счет диффузии кислорода по вакансиям, а также вследствие проникновения электролита через поры и трещины активного слоя к границе Ti—МпОг [26]. Снизить действие этих факторов можио получением мелкокристаллических малопористых осадков диоксида марганца. Другой путь повышения стойкости ТДМА — защита поверхности титана нанесением тонких пленок платины [28], олова или сурьмы (фр. пат. 2336975), карбида титана [28], азотированием титана (а. с. СССР 384540), насыщением углеродом или железом [29]. [c.20]

Благодаря окисной пленке, образующейся практически на любой металлической поверхности, во многих случаях на границе (со) полимер металл могут возникать ионные свя зи [112, с. 310]. Примеры влияния материала рабочего электрода на адгезию полимерных осадков приводятся в работах [102, 113]. Так, при исследовании электрохимически инициированной (со)-полимеризации мономера — акрилонитрила и его сополимеров с другими виниловыми мономерами было показано, что прочность сцепления полимерного осадка с подложкой на алюминии дучще, чем на стали. При этом твердость полимерных осадков уменьшается в ряду [102] [c.72]

Предположение, что в условиях поляризации катода воз1Шкаст деполяризация за счет образования сплава выделяемого металла с металлом подложки не подтверждается на основании следующих соображений сравнения скоростей роста слоя осаждаемого металла и коэффициентов диффузии никеля в платину и в молибден, согласно нашим расчетам, показывают, что последние на несколько порядков ниже, чем скорость продвижения фронта роста осадка. [c.63]

Эпитаксиальный рост не происходит и в том случае, если поверхность катода покрыта полупроводящими пленками масла, окисла, сульфидов и т. п. Это может иметь место при плохой предварительной обработке подложки, при загрязнении гальванической ванны или когда на таких металлах, как нержавеющая сталь, алюминий, титан и т. д. после их промывки вновь быстро образуются окисные пленки. Слабая адгезия электролитических осадков при неэпитаксиальном осаждении используется в гальванопластике с целью облегчения отделения осадка от подложки. При нанесении гальванических покрытий на полупроводники или диэлектрики важно обеспечить и механическое сцепление типа ласточкин хвост (по методике подготовки неметаллических подложек). Для легко пассивирующихся сплавов разработаны методики, подобные используемым при осаждении покрытий на нержавеющей стали и алюминии (см. выше). Иногда даже при применении специальных методов некоторое количество окислов сохраняется на поверхности и электролитическое покрытие закрепляется на подложке только на небольших участках эпитаксиального осаждения. В этом случае существует опасность получить отслаивание покрытия. Термические напряжения или даже сравнительно слабая шлифовка могут привести к отслоению на несцепленных участках границы раздела. Адгезию можно улучшить путем отжига детали после электроосаждения. При этом окисел, находящийся на границе раздела, растворяется в одном или обоих металлах или диффундирует к границам зерен, а сплавление металлов на границе раздела приводит к [c.343]

Эффективность катионоактивных эмульгаторов определяется их строением и, следовательно, значением потенциала восстановления по отношению к стандартному электроду (рис. 4.4). Применение легковос-станавливаемого эмульгатора обеспечивает образование более плотного осадка (ток быстро уменьшается). Металлы подложки, на которую методом катофореза наносят дисперсии полимеров с катионоактивными эмульгаторами, можно расположить в порядке убывания способности к электроосаждению (в порядке увеличения перенапряжения водорода) следующим образом [8] [c.187]

В последние годы нашел широкое применение в электрохимии метод сканирующей туннельной микроскопии (СТМ), как мощный инструмент для исследования топографии ц морфологии поверхности электродов и электролитических осадков от субмикронного уровня до атомного разрещения. Указанный метод позволяет также изучать формирование адатомных слоев и кристаллитов на поверхности подложки на начальных стадиях электрокристаллизации металлов. [c.44]

Разработаны способы анодного осаждения на алмаз оксидов металлов PbOj для последующего применения в качестве анода [216] и Ni(0H)2 с перспективой использования в химическом источнике тока [217]. Оба осадка отличаются хорошей адгезией к алмазной подложке и механической стойкостью первый хорошо выдерживает воздействие ультразвука (в соноэлектрохимическом эксперименте), а второй после 4 000 циклов заряд-разряд практически полностью сохранил свою зарядную емкость. [c.65]

Изготовление слоев оксидов редкоземельных элементов, тория, урана, протактиния, нептуния и транснептуниевых элементов электроосаждением из неводных сред имеет неоспоримые преимуш,ест-ва по сравнению с водными растворами. Образуюш,иеся на катоде при электролизе в водной среде гидроксиды лантаноидов и актиноидов аморфны. При дальнейшей термической обработке они образуют оксидные слои с большим количеством структурных дефектов. При электролизе из органических растворов на катоде образуются кристаллические структуры, которые при прокаливании легко переходят, теряя органическую составляюш,ую, в кристаллические структуры оксидов РЗЭ и актиноидов. Кроме того, метод электроосаждення из неводных растворов характеризует большая скорость проведения процесса, полнота выделения металла, прочность сцепления о подложкой слоев толщиной 1—5 мг/см , равномерность распределения покрытия на больших площадях. Наилуч-шие результаты получены из спиртовых растворов нитратов и ацетатов РЗЭ и актиноидов. Растворимость солей данных металлов в органических растворителях низка, поэтому в основном применяют насыщенные растворы. Из-за низкой проводимости растворов и окисной пленки на электроде используются высокие напряжения (порядка сотен вольт), плотности тока низкие. Большое значение при подборе оптимальных условий осаждения имеют площадь электродов, расстояние между ними, объем электролита, предварительная обработка электродов. Катодный процесс сопровождается газовыделением, вызывающим образование неравномерной пленки. Для уменьшения газовыделения добавляют специальные добавки, в частности этиловый спирт [221]. Катодный продукт наряду с металлом и кислородом содержит обычно азот, водород и углерод. Результаты количественного анализа показывают загрязнение катодного осадка растворителем или продуктами его разложения, но не образование соединений определенной стехиометрии [1077]. При термической обработке катодного осадка происходит уменьшение объема и перестройка кристаллической решетки, в результате чего слои растрескиваются и осыпаются, и лишь в случае тонких слоев оказывается достаточно поверхностных молекулярных сил сцепления для сохранения прочной связи с подложкой. Для получения покрытий толщиной порядка 1—5 мг/см необходимо многослойное нанесение продукта [1060]. [c.156]

Электроосаждение из неводных сред металлов четвертой группы представляет интерес прежде всего для германия и подгруппы титана, поскольку эти металлы электролитически из водных растворов не осаждаются [484, 404]. Наилучшие результаты получены в случае германия. Из спиртовых растворов (преимуш ественно в двухатомных спиртах) галогенидов германия выделены тонкие катодные пленки металлического германия [702, 641, 1225, 482, 381, 292, 650, 291, 293]. Наряду с осаждением германия на катоде происходит выделение водорода, на последний процесс расходуется основная часть тока. Выход по току германия низкий (порядка 1—3 %) Большое влияние на процесс злектроосаждения оказывает природа металлической подложки. При определенных концентрациях галогенида германия, повышенных плотностях тока и температурах возможно катодное образование диоксида германия [482, 196]. Пример оптимальных условий получения металлического германия растворитель — этиленгликоль, концентрация ОеСи — 3—5 %, температура — комнатная, интервал плотности тока 5—50 А/дм . При этих условиях на подложках из меди, серебра, платины и алюминия осаждаются ровные, хорошо сцепленные с подложкой, компактные германиевые покрытия светло-серого цвета. В качестве анода использовали графит или германий, выход по току германия составляет 2 % [291, 293]. Возможно катодное получение пленок германия и из других неводных сред, например из низкотемпературных расплавов ацетамида [147]. Из растворов в ацетамиде с добавками хлорида аммония при температуре 90—130 °С двухвалентный германий восстанавливается, образуя тонкослойные (1—2 мк) осадки, прочно сцепленные с подложкой. Выход по току еще ниже, чем в спиртовых растворах (приблизительно 0,1—0,5 %) Из-за выделяющегося водорода осадок германия при этом достаточно наводорожен. [c.157]

В работе [23] был описан такой метод, основанный на отделении подложки от покрытия. Для этого лак (покрытие) наносили на тонкую металлическую фольгу, затем образовавшуюся на фольге пленку приклеивали раствором бакелита к стальной поверхности, являюш,ейся своеобразным армирующим элементом. Адгезию определяли путем отслаивания фольги от пленки лака. Этот метод положен в основу применяемого в лакокрасочной и электроизоляционной промышленности метода измерения адгезии [24— 28]. Армирующим элементом служит стеклянная ткань или стеклянная сетка. Фольга (подложка) отслаивается от покрытия под углом 180°, а специальная направляющая планка поддерживает свободный конец образца в нужном положении. Таким образом можно измерить адгезию к металлам, выпускаемым в виде достаточно тонкой (до 50 мкм) и гибкой фольги, —к алюминию, олову, меди и некоторым другим. 1Можно использовать медную фольгу, электролитически покрытую тонким слоем (3—5 мкм) железа [26]. Сцепление электролитического осадка железа с медной поверхностью достаточно прочно и превосходит адгезию полимеров к железу. [c.219]

Значительная часть сортамента и изделий из низкоуглеродистых сталей покрывается цинком. Цинк аноден по отношению к железу, и когда влага проникает до основного металла, цинк корродирует, обеспечивая защитное действие, которое прекращается, когда обнажается такая поверхность стали, что поляризующее действие цинка становится недостаточным (обычно в центре обнаженного участка стальной подложки). Наиболее важным фактором защиты является количество цинка в слое. Защитная способность осадка определяется в основном его толщиной, а не способом нанесения. Защитные свойства цинковых покрытий на железе основаны не только на способности цинка функционировать.в качестве расходуемого анода, которая имеет определенные границы, но также и на блокировании участков коррозии, которое происходит в результате соединения ионов цинка с гидроксильными ионами, образующимися вследствие катодной реакции на поверхности железа и осаждения образующейся гидроокиси внутри мелких несплош- [c.150]

Важная особенность полимеров, к-рую необходимо учитывать при интерпретации электронномикроскопич. снимков, полученных с использованием прямых методов препарирования,— незначительная разница плотностей кристаллич. и аморфных областей. Следствие этого — чрезвычайно малый контраст фотографич. снимков полимерных образцов. В ряде случаев контраст удается повысить при косом напылении на поверхность препарата слоя тяжелого металла. Более эффективен, особенно для выявления мелких, плотно уложенных структур, метод негативного контрастирования. На препарат, предварительно помещенный на пленку-подложку или дырчатую пленку, наносят р-р какого-либо соединения, содержащего атомы тяжелых металлов (напр., фосфорновольфрамовой к-ты, уранил-ацетата). Эти соединения не должны взаимодействовать с изучаемым полимером. После удаления растворителя на исследуемом, образце остается тонкий слой (в несколько десятков А) осадка, причем концентрация р-ра подбирается такой, чтобы осадок заполнил в основном промежутки между структурными образованиями. После обработки объект будет выглядеть светлым на темном фоне, т. к. рассеивающая способность атомов осадка несравнимо больше, чем у полимера. Основу контраста изображения в этом случае будет составлять [c.474]

Термин моноатомный слой в случае электролитических осадков обычно не имеет строго определенного смысла вследствие того, что, с одной стороны, осаждение происходит, очевидно, не на всех, а лишь на определенных точках поверхности я, с другой стороны, истинная поверхность электрода часто в несколько раз больше геометрической. Кроме того, маловероятно, чтобы поверхность, покрьггая только одним слоем осадка, совершенно те-)яла свойства подложки и приобретала свойства макроскопического слоя. Лоэтому обычно все рассуждения, в которых говорится о моноатомном слое, относятся к формальным монослоям, т. е. таким слоям, которые вычислены из кажугцейся (геометрической) площади электрода. В обычных лабораторных условиях электролиза, т. е. ири работе с 5—10 мл. раствора и с электродом площадью 1—2 см для металлических осадков средних атомных весов и при условии выделения около 10% осаждающегося металла, раствор должен иметь концентрацию 10" —10 м. для того, чтобы осаждение соответствовало такому моиоатомному слою. [c.497]

При электронномикроскопических исследованиях вследствие невозможности отделения пленок —N1—Сг сплавов от стальной основы применяли только медную подложку. Рентгеновским методом исследовали осадки толщиной 15—20 мк, на электронном микроскопе тонкие покрытия (фольги до 1500А). Тонкую фольгу получали отделением электроосажденного сплава путем химического растворения металла основы (меди) в 1,0-мол. растворе персульфата аммония. [c.24]

Технеций количественно выделяется также на ртутном катоде, образуя соответствующую амальгаму. Как уже сообщалось, металлический т.ехнеций можно получить восстановлением металлическим амальгамированным цинком [115], но Швохау и Герр [134] показали, что при этом в осадке образуется, по-видимому, смесь металлического технеция и двуокиси. При восстановлении пертехнетата в кислой среде крупнозернистым порошком цинка содержание металла составляет лишь 20%. Содержание кислорода в металлическом технеции обычно не контролируется, а потому многие образцы технеция, полученного восстановлением водородом и особенно электролизом, содержат некоторое количество двуокиси или растворенного в металле кислорода. Это подтверждается тем, что при сплавлении технециевых порошков в атмосфере инертного газа теряется 10—20% исходного веса [158]. Потери сопровождаются сублимацией, по-видимому, двуокиси технеция. Присутствие кислорода в технеции может в заметной степени исказить его физические и химические свойства, что, например, было показано исследованиями по сверхпроводимости технеция [77]. При использовании технеция в качестве стандартного источника 3-излучения обычно пользуются электролитическим осаждением его на металлических подложках. Присутствие двуокиси может привести к потерям технеция вследствие окисления ТсОг до ТсгОу кислородом воздуха. Поэтому рациональным оказывается дополнительное восстановление осажденного электролизом технеция водородом. [c.53]

Один из важнейших показателей качества электрофорезных покрытий при их, промышленном использовании — прочность сцепления полимерного осадка с металлом. Она увеличивается с понижением размеров диспергированных частиц вследствие повышения контактируемой площади как между ними, так и между подложкой и осадком. Однако применение частиц слишком малых размеров (радиус 10 см) существенно уменьшает скорость образования,осадка. Поэтому для получения более качественных полимерных покрытий целесообразно использовать частицы размером 0,5—1 мк [52]. Часто д.чя улучшения адгезии электрофоретического покрытия к металлу в состав суспензии вводят пигменты [73--79],, в качестве которых могут быть использованы как органические, так и неорганические вещества (окись цинка, графит, газовая сажа, тальк, мелкоразмолотый шпат, двуокись титана, кремневокислый алюминш и другие). [c.17]

Рост кристаллов по механизму винтовой дислокации, по-видимому, имеет место при образовании из паровой фазы нескольких типов кристаллических осадков, например при образовании нитеобразных кристаллов, подобных металлическим усам (см. Набар-ро и Джексон [80]). Из паровой фазы усы растут своими торцами, на каждом из которых имеется винтовая дислокация, простирающаяся параллельно окончанию уса. Усы таких металлов, как кадмий, цинк и серебро, растут на подложках из пирекса и из кварца при осаждении из паровой фазы только в том случае, если пересыщение ниже некоторой критической величины, которая может соответствовать критической величине пересыщения для двухмерного образования центров кристаллизации [81, 82]. Было найдено, что в последовательно проводимых опытах усы обычно начинают расти на одних и тех же участках субстрата (в данном случае пирекса или кварца) это позволило сделать предположение. [c.327]

Электроосаждение металлов на подложку той же самой природы может протекать с образованием слоистых осадков [77, 78, 84—99], блоков [93, 99, 100], пирамид [71, 84, 85] и складчатых осадков [93, 99, 101] (рис. 74—77). Эти моиокристаллические образования соответствуют ориентации субстрата. Кроме того. [c.330]

Известно, что в вакуумноосажденных пленках появляются сильные упругие напряжения. Так, Мюрбах и Уильман [233] измерили напряжения при температуре осаждения, которые элиминируют напряжения, генерированные за счет различия в термическом расширении между подложкой и осадком в процессе охлаждения до комнатной температуры. Указанные напряжения могут превосходить нормальные напряжения объемного металла. Источник подобных напряжений не очень ясен, однако Стори и Гоффман [254] предположили, что они являются следствием вакансии решетки и промежуточных атомов, образованных в процессе осаждения. Они провели опыты по отжигу осажденных пленок и обнаружили пики отжига, которые они объяснили аннигиляцией вакансии. [c.187]

Представление об обратимости реакции разложения тиомочевины и знание величины рКс открывает широкие возможности для сознательного целенаправленного исследования процессов осаждения сульфидов различных металлов как в виде осадков, так и в виде хороцю сформированных слоев-пленок на твердых подложках. Покажем это на нескольких системах. [c.119]